[发明专利]具有整体屏蔽罩的基座

摘要

本发明一般地提供了用于支撑衬底的衬底支撑构件。在一个实施例中，用于支撑衬底的衬底支撑构件包括连接到下屏蔽罩的主体。所述主体具有适用于支撑衬底的上表面和下表面。所述下屏蔽罩具有中央部分和凸缘。所述凸缘以与所述主体分隔开的关系放置。所述下屏蔽罩适用于与置于处理室中的上屏蔽罩结合来确定迷宫式间隙，该迷宫式间隙基本上可以防止等离子体迁移到低于构件的位置。在另一个实施例中，所述下屏蔽罩向等离子体提供短射频接地返回路径。

主权项

1.一种适用于被紧固到等离子体处理室中的衬底支撑构件的下屏蔽罩，所述等离子体处理室具有连接到室的凸缘或壁的环形上屏蔽罩，该下屏蔽罩包括：中央部分，具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；钻孔，至少部分穿透所述中央部分并具有侧壁；凹槽，位于所述侧壁上；和凸缘，从中央部分的一部分的第一表面突出，所述凸缘被配置成保持与衬底支撑构件分隔开的关系。