[发明专利]有机抗反射涂料聚合物及其制备方法无效
申请号: | 00107858.5 | 申请日: | 2000-06-26 |
公开(公告)号: | CN1290713A | 公开(公告)日: | 2001-04-11 |
发明(设计)人: | 洪圣恩;郑旼镐;白基镐 | 申请(专利权)人: | 现代电子产业株式会社 |
主分类号: | C08F220/56 | 分类号: | C08F220/56;C09D133/26;H01L21/027 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 甘玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种适用于采用193nmArF辐射线的照相平版印刷方法的半导体器件中的有机抗反射涂料用聚合物,及其制备方法。所述聚合物含有在193nm波长处具有高吸收的苯基和酰胺键。当本发明的聚合物用在形成超细图案的抗反射涂料中时,消除了由于晶片底层的光学性质及其上的光刻胶层厚度的改变而引起的驻波,也可防止光从下层衍射及反射而引起临界尺寸变化。本发明的抗反射涂料可稳定地生成适用于半导体器件的超细图案,且产率大大提高。还涉及含有上述抗反射聚合物的组合物,含有该组合物的抗反射涂料以及含有这些抗反射涂料的半导体器件。 | ||
搜索关键词: | 有机 反射 涂料 聚合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种包含由下述通式3表示的单体的聚合物:其中,R是氢或甲基;且n为2或3。
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