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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

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F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

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专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]改进的固定均匀环设计-CN00801263.6无效
发明人： T·尼;W·科利森 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2000-06-29 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种处理半导体衬底的等离子体处理反应器。装置包括室。此外，室包括支撑衬底的下电极。装置还包括设置以环绕衬底周边的固定均匀环。此外，固定均匀环连接到室的一部分，并以一段间距设置在下电极上，在下电极上形成垂直的空间。此外，设置垂直空间为进出衬底提供空间。此外固定均匀环的厚度基本上减少了第一组分从固定均匀环外朝衬底的边缘扩散。
改进固定均匀设计

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共 1 条

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