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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]晶片灵敏度确定和通信-CN202110851400.3在审
发明人： T·塞西尔 -专利权人：美商新思科技有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本公开涉及晶片灵敏度确定和通信。例如，一种方法包括：接收集成电路(IC)芯片设计，并且通过一个或多个处理器根据IC芯片设计生成晶片图像和晶片目标。该方法还包括通过一个或多个处理器基于确定晶片图像和晶片目标会聚而生成灵敏度信息，并输出灵敏度信息。灵敏度信息与写入掩模相关联，该掩模被写入以用于IC芯片设计。
晶片灵敏度确定通信

[发明专利]用于掩模合成工具的剂量优化技术-CN202110856484.X在审
发明人： T·塞西尔 -专利权人：美商新思科技有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及用于掩模合成工具的剂量优化技术。一种方法包括：接收集成电路(IC)芯片设计；以及通过一个或多个处理器基于IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标。该方法还包括：通过所述一个或多个处理器基于晶片图像和晶片目标的比较来修改剂量信息。该方法还包括：将经修改的剂量信息输出到掩模写入设备。
用于合成工具剂量优化技术

[发明专利]用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达-CN202110856567.9在审
发明人： T·塞西尔 -专利权人：美商新思科技有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达。一种方法包括：接收集成电路(IC)设计文件；以及通过一个或多个处理器根据IC设计文件确定剂量信息。该方法还包括：通过一个或多个处理器根据IC文件来确定掩模矢量文件；并且通过一个或多个处理器将剂量信息转换为矢量文件格式。进一步地，该方法包括：将矢量文件格式的剂量信息和掩模矢量文件输出到掩模写入器设备。
用于光刻制造系统剂量信息生成传达

[发明专利]使用设计引导偏移的掩模合成-CN202110724877.5在审
发明人： T·塞西尔;K·胡克 -专利权人：美商新思科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G06F30/33 文献下载
摘要：本文中所描述的方面涉及使用设计引导偏移的掩模合成。基于集成电路的设计，使用掩模在待制造的图像表面上获得目标形状。生成从相应的锚点发出的射线。锚点在目标形状的边界上或在掩模的掩模形状的边界上。针对射线中的每条射线，定义在相应的射线与目标形状的边界的第一交叉点和相应的射线与掩模形状的边界的第二交叉点之间的距离。通过一个或多个处理器执行分析，其中该分析被配置为基于目标形状和由所述掩模形状造成的被模拟在所述图像表面上的结果形状之间的误差来修改距离。
使用设计引导偏移合成

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共 4 条

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