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[发明专利]光刻设备、器件制造方法-CN201280065095.4有效
发明人： H·巴特勒;A·布里克;P·亨纳斯;M·胡克斯;S·A·J·霍尔;H·范德斯库特;B·斯拉格海克;P·蒂纳曼斯;M·范德威吉斯特;K·扎尔;T·P·M·卡迪;R·比尔恩斯;O·菲思克尔;W·安吉内恩特;N·J·M·博施 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-12-05 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备和衬底处理方法-CN201210405979.1无效
发明人： R·W·L·拉法瑞;H·M·塞格斯;T·P·M·卡迪;黄仰山;C·L·瓦伦丁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-10-23 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。还提供了衬底处理方法，包括步骤：使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述方法包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧处夹紧衬底。
光刻设备衬底处理方法

[发明专利]测量方法、测量设备、光刻设备及器件制造方法-CN201210033001.7无效
发明人： A·J·登博夫;M·H·M·比姆斯;T·P·M·卡迪;R·W·L·拉法瑞 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量方法、测量设备、光刻设备以及器件制造方法。设备(AS)测量光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。测量光学系统包括用于使用辐射斑(206)照射标记的照射子系统(504)和用于检测被所述标记衍射的辐射的检查子系统(580)。衬底和测量光学系统相对于彼此以第一速度(vW)的移动以便扫描所述标记，同时同步地以第二速度(VSPOT)相对于测量光学系统的参照框架(RF)移动辐射斑。辐射斑以第三速度(VEFF)扫描标记，第三速度低于第一速度以便允许获得更多的时间来用于精确的位置测量。在一个实施例中，物镜(524)相对于参照框架保持固定，同时移动光学元件(562)施加辐射斑相对于参照框架的移动。
测量方法测量设备光刻器件制造方法

[发明专利]光刻设备和可移除构件-CN201110401694.6有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;T·P·M·卡迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-06 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备和可移除构件。所述光刻设备布置成将图案形成装置的图案传递至衬底上，所述光刻设备具有第一物体和安装在第一物体上以改善至/来自第二物体的热传递的平面构件。
光刻设备构件

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201110428811.8有效
发明人： J·P·M·B·沃麦尤伦;A·F·J·德格鲁特;T·P·M·卡迪;J·德保伊 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-20 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括：投影系统、承载装置和驱动系统，驱动系统用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于投影系统移动承载装置，其中：驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将穿梭件连接至承载装置，穿梭件连接器被使得允许承载装置沿着平行于X轴线的方向相对于穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于Y轴线驱动穿梭件移动，其中：穿梭件沿着平行于X轴线的方向仅定位至承载装置的一侧，仅穿梭件中的一个连接至承载装置；且穿梭件驱动器和穿梭件连接器配置成供给由驱动系统施加至承载装置的力的Y分量的至少10％。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻装置及器件制造方法-CN201210010399.2有效
发明人： M·维克曼斯;M·A·W·崔帕斯;F·E·德琼格;E·A·M·范冈佩尔;R·詹森;G·A·A·M·库斯特斯;T·P·M·卡迪;M·F·P·斯米茨;F·范德穆伦;W·F·J·西蒙斯;M·H·A·利恩德斯;J·J·奥坦斯;M·范巴伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-04-06 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
光刻装置器件制造方法

[发明专利]辐射系统和光刻设备-CN201110285866.8无效
发明人： A·C·瓦森克;V·Y·班尼恩;V·V·伊娃诺夫;K·N·科什烈夫;T·P·M·卡迪;V·M·克里夫塔森;D·J·W·克伦德尔;M·M·J·W·范赫彭;P·P·A·A·布洛姆;W·A·索尔;D·克拉什科夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射系统和光刻设备，所述辐射系统用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。
辐射系统光刻设备

[发明专利]致动器、定位系统以及光刻设备-CN201010292339.5有效
发明人： S·A·J·霍尔;A·F·J·德格鲁特;T·P·M·卡迪;M·柯塞尔斯;D·G·E·霍贝伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-09-25 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种致动器、定位系统和光刻设备。该致动器用于施加力和扭矩到物体上，包括：第一部分，其相对于致动器的第二部分沿至少第一自由度是可移动的，所述物体安装到所述第一部分，其中所述部分中的一个设置第一电线圈，所述第一电线圈布置成与另一部分的可磁化部协同工作，并且致动器的控制器布置用以产生第一电流通过所述第一电线圈以在所述第一部分和第二部分之间产生力，其中所述一个部分设置有第二电线圈，所述第二电线圈布置用以与另一部分的可磁化部协同工作，所述控制器还布置用以产生第二电流通过所述第二线圈以在所述第一部分和第二部分之间施加力和扭矩，使得所述致动器布置成相对于所述第二部分施加力和扭矩到所述物体上。
致动器定位系统以及光刻设备

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201010186587.1有效
发明人： T·P·M·卡迪;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;E·R·鲁普斯特拉;A·L·H·J·范米尔;J·J·S·M·梅坦斯;C·G·M·德莫;M·J·E·H·米特詹斯;A·J·范德内特;J·J·奥坦斯;J·A·夸伊达克斯;M·E·鲁曼-休斯肯;M·K·斯塔温加;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇奇科夫;H·博姆;S·尼蒂亚诺夫;R·莫尔曼;M·F·P·斯米特斯;B·L·P·小恩德马克;F·J·J·詹斯森;M·里伊彭 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-08-12 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备和定位设备-CN200910253829.1无效
发明人： N·J·吉利森;T·P·M·卡迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-12-08 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括可移动的第一物体和包括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料并被配置以通过与可移动的第一物体进行热量交换来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给至热交换体，以改变热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。
光刻设备定位

[发明专利]辐射系统和光刻设备-CN200780046056.9无效
发明人： A·C·瓦森克;V·Y·班尼恩;V·V·伊娃诺夫;K·N·科什烈夫;T·P·M·卡迪;V·M·克里夫塔森;D·J·W·克伦德尔;M·M·J·W·范赫彭;P·P·A·A·布洛姆;W·A·索尔;D·克拉什科夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射系统，用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。
辐射系统光刻设备

[发明专利]光刻装置及器件制造方法-CN200710092076.1有效
发明人： M·维克曼斯;M·A·W·崔帕斯;F·E·德琼格;E·A·M·范冈佩尔;R·詹森;G·A·A·M·库斯特斯;T·P·M·卡迪;M·F·P·斯米茨;F·范德穆伦;W·F·J·西蒙斯;M·H·A·利恩德斯;J·J·奥坦斯;M·范巴伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-04-06 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
光刻装置器件制造方法

[发明专利]光刻投影装置和致动器-CN200510131049.1有效
发明人： T·P·M·卡迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-12-07 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括构造成支撑基底的基底台，配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统和其上安装有至少一部分投影系统的框架。一流体供给装置布置成在基底和投影系统的下游端之间提供流体。该装置还包括致动器，致动器与框架和流体供给装置相联，并布置成将流体供给装置定位，以及缓冲系统，用于当致动器定位流体供给装置时缓冲振动力。
光刻投影装置致动器

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN200510113235.2有效
发明人： T·P·M·卡迪;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;E·R·鲁普斯特拉;A·L·H·J·范米尔;J·J·S·M·梅坦斯;C·G·M·德莫;M·J·E·H·米特詹斯;A·J·范德内特;J·J·奥坦斯;J·A·夸伊达克斯;M·E·鲁曼－休斯肯;M·K·斯塔温加;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇奇科夫;H·博姆;S·尼蒂亚诺夫;R·莫尔曼;M·F·P·斯米特斯;B·L·P·小恩德马克;F·J·J·詹斯森;M·里伊彭 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-08-12 - 公布日： 2006-03-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻装置和装置调节方法-CN200410057883.6有效
发明人： J·W·温克;S·N·L·当德斯;T·M·莫德曼;T·P·M·卡迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-08-11 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻投影装置，包括可将衬底或掩模等固定成穿过光路的支撑台。支撑台具有支撑面和从支撑面上延伸出来的突起的阵列，以便将衬底等的背面支撑在突起上。设置了检测器来测量会影响衬底等的表面光洁度的各个突起的高度偏差。在去除装置具有足够的去除强度以从单个突起中除去部分突起材料的情况下，位置选择性的材料去除和/或增添装置设置成可在支撑台处于光刻投影装置中的可操作状态时对单个突起独立地起作用。控制单元可控制材料去除和/或增添装置，以便选择性地从各个突起材料中与各个突起的各自测得的高度偏差相对应地除去一定量的材料，和/或为各个突起材料增添一定量的材料。
光刻装置调节方法

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