专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]控制拜尔工艺中DSP污垢的方法-CN201080022489.2有效
  • T·拉;J·崔;J·D·基尔迪;D·H·斯林克曼;K·R·科尔曼 - 纳尔科公司
  • 2010-04-05 - 2012-05-30 - C01F7/06
  • 本发明提供了一种控制拜尔工艺液体循环中的二氧化硅的方法。该方法涉及加入促进剂材料以促进DSP沉淀,包括在循环回路中希望沉淀DSP和去除溶液中二氧化硅的部分,例如拜尔工艺车间的脱硅阶段,加入一种或多种二氧化硅分散体材料或者干燥形式的二氧化硅。从溶液中去除DSP降低了二氧化硅在液体中的浓度,因此更好地控制了例如二氧化硅对氧化铝产品的污染的工艺问题,以及在之后工艺阶段中形成DSP,在容器壁和装置上沉淀为污垢的问题。因此,本发明显著降低了拜尔工艺的总运行费用。
  • 控制工艺dsp污垢方法

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