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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]射频等离子体处理系统的均匀性控制-CN202180008616.1在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种射频等离子体处理系统，包括：反应室；部署在反应室中的基座；以及在基座与反应室之间的环中在基座周围以方位角部署的多个扇形板。
射频等离子体处理系统均匀控制

[发明专利]等离子体非均匀性检测-CN202180008893.2在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种检测射频等离子体处理系统中的等离子体的非均匀性的方法，该方法包括：在所述射频等离子体处理系统的反应室内生成等离子体；以及用关于所述射频等离子体处理系统的室对称轴以方位角部署的多个传感器，检测来自等离子体的在从维持等离子体的射频功率的频率到大约十倍频率的倍数的频率范围内的电信号。该方法还包括将由所述多个传感器从等离子体拾取的电信号的波形进行比较；以及基于比较由所述多个传感器中的每一个检测到的等离子体的电性质来确定何时发生等离子体非均匀性。
等离子体均匀检测

[发明专利]基于等离子体的晶圆处理系统的扇区分流-CN202180008894.7在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种射频等离子体处理系统，包括：反应室；电极，具有电极对称轴，所述电极部署在所述反应室中；以及多个板，每个板具有导电层，在距电极表面的间隙处在所述电极的周界周围相对于所述电极对称轴以方位角部署在所述反应室中，所述多个板中的每个板通过可变电抗电路连接到电气地。
基于等离子体处理系统扇区分流

[发明专利]快速电弧检测匹配网络-CN202180008626.5在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种检测射频等离子体处理系统中的等离子体不对称性的方法，该方法包括：向具有近似室对称轴的反应室提供射频功率，并从多个宽带电磁传感器接收射频信号。该方法还包括使用傅里叶分析处理射频信号，并基于射频信号的傅里叶分析确定反应室内已发生等离子体不对称。
快速电弧检测匹配网络

[发明专利]电磁波的宽带传感器-CN202180008629.9在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于射频等离子体处理系统的宽带传感器，包括部署在反应室的导电部件上的用于电势的电容拾取器。以及，包括电路的引线，所述引线将所述拾取器连接到连接器，所述连接器安装在接近所述拾取器的电接地板中，所述电路的电阻和对所述连接器的电气地的电容使得拾取器电压与所述导电部件的表面电压相差小于5％；和衰减器电路，连接到所述连接器，包括从衰减器输入端到衰减器输出端串联的至少一个限流电阻器，其中，所述宽带传感器在从大约10kHz到至少大约1GHz的射频范围内进行检测，用于所述射频等离子体处理系统中的射频电势测量。
电磁波宽带传感器

[发明专利]基于射频等离子体的晶圆处理系统的方位角传感器阵列-CN202180008621.2在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种射频等离子体处理系统，包括：反应室，具有近似室对称轴；第一等离子体供电装置；以及多个以方位角部署的宽带电磁传感器，位于与室对称轴近似等距的位置，以测量在射频等离子体处理期间关于所述反应室的电磁行为。
基于射频等离子体处理系统方位角传感器阵列

[发明专利]用于等离子体处理的装置和方法-CN201080035257.0有效
发明人： S·E·萨瓦斯;C·盖尔维斯基;A·B·威斯诺斯基;S·曼特里普拉加达;S·约 -专利权人：普拉斯玛斯公司
申请日： 2010-07-08 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： C23F1/00 文献下载
摘要：用于基于等离子体的处理的装置和方法，很好地适合于半导体、导体或绝缘膜的沉积、刻蚀或处理。等离子体生成单元包括衬底的处理侧的一个或多个伸长的电极以及贴近衬底的相对侧的中性电极。气体可以贴近带电电极而注入，其电学上击穿并且产生流向衬底区域的激活的组分。然后，该气体流入在带电电极与衬底之间的延伸的处理区，以高速率提供与衬底的受控和连续的反应性，其中有效地利用了反应物给料。气体经由在一个或多个带电电极与分流器之间的通路而被排出。
用于等离子体处理装置方法

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