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[发明专利]衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法-CN202080079302.6在审
发明人： K·G·温克尔斯;L·H·J·史蒂文斯;D·D·范德沃特;G·A·L·林克奈特;N·坦卡特;D·W·哈伯特;R·A·C·M·比伦斯;E·J·C·伯斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间隙供应传导性液体，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过。衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。
衬底支撑装置光刻设备用于操纵电荷分布方法以及制备

[发明专利]激光聚焦模块-CN202080027453.7在审
发明人： R·A·C·M·比伦斯;袁佳跃;N·J·A·H·博南;M·A·兰贝特;A·K·霍普夫;S·皮勒;T·M·埃尔金;S·M·B·鲍默;德克·简·威尔弗瑞德·克拉恩德尔;M·兰詹;F·B·施佩林;A·S·特奇科夫;J·维特 -专利权人： ASML荷兰有限公司;通快激光系统半导体制造有限公司
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了一种用于EUV辐射源的激光聚焦系统(330)，所述激光聚焦系统包括：‑第一曲面反射镜(330.1)，所述第一曲面反射镜被配置成从束传递系统接收激光束并且产生第一反射激光束(316)；‑第二曲面反射镜(330.2)，所述第二曲面反射镜被配置成接收所述第一反射激光束(316)并且产生第二反射激光束(317)，其中，所述激光聚焦系统(330)被配置成将所述第二反射激光束(317)聚焦到所述EUV辐射源(360)的容器(350)中的目标部位(370)。
激光聚焦模块

[发明专利]定位系统、光刻设备和器件制造方法-CN201380031081.5有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;A·B·热因克;M·M·J·范德瓦尔;W·H·T·M·安格南特;R·H·A·范莱肖特;H·M·J·范德格罗伊斯;S·W·范德霍伊文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-06-13 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统。定位系统包括支架(210)，位置测量装置，形变传感器(250；DS)和处理器(PU)。构造支架以保持物体。配置位置测量装置以测量支架的位置。位置测量装置包括至少一个位置传感器目标(100.1、100.2、100.3)以及用于与至少一个位置传感器目标协作以提供表示支架位置的位置信号的冗余集合的多个位置传感器(200.1、200.2；SA)。设置形变传感器以提供表示支架和位置测量装置之一形变的形变信号(S)。配置处理器以基于形变信号和位置信号的冗余集合而校准位置测量装置和形变传感器之一。
定位系统光刻设备器件制造方法

[发明专利]平台系统以及包括该平台系统的光刻设备-CN201380048294.9有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;R·J·T·鲁滕;J·S·C·韦斯特拉肯;K·J·J·M·扎尔;R·H·A·范莱肖特;E·A·F·范德帕施 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种平台系统，包括：可移动平台；以及用于测量平台的位置的编码器，其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器，编码器束在使用中沿着光路径传播；净化帽体，至少部分地包围光学路径；以及净化介质供应装置，用于将净化介质供应到净化帽体中。
平台系统以及包括光刻设备

[发明专利]光刻设备和光刻投影方法-CN201210036738.4有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;A·F·J·德格鲁特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-02-17 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备和光刻投影方法。该光刻设备包括：照射系统；支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案以形成图案化辐射束；衬底台；和投影系统，其中第一和第二支撑结构在扫描方向上可以在沿扫描方向的至少为第二或第一图案形成装置的长度的扫描距离上移动，其中第一和第二支撑结构在第二方向上可以在沿第二方向的至少为第二或第一图案形成装置的宽度的距离上移动，其中第二方向大体垂直于扫描方向，以及光刻设备通过第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准。
光刻设备投影方法

[发明专利]光刻设备和可移除构件-CN201110401694.6有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;T·P·M·卡迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-06 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备和可移除构件。所述光刻设备布置成将图案形成装置的图案传递至衬底上，所述光刻设备具有第一物体和安装在第一物体上以改善至/来自第二物体的热传递的平面构件。
光刻设备构件

[发明专利]位置传感器和光刻设备-CN201110147873.1有效
发明人： R·A·C·M·比伦斯;A·F·J·德格鲁特;J·P·M·B·沃麦尤伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-05-25 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种位置传感器和光刻设备。所述位置传感器配置成测量目标的位置数据。位置传感器包括：辐射源，配置成提供辐射束；第一光栅，配置成将辐射束衍射成在第一衍射方向上的至少第一级衍射束；和第二光栅，布置在第一级衍射束的光学路径上，第二光栅配置成在基本上垂直于第一衍射方向的第二衍射方向上衍射在第一光栅处被衍射的第一级衍射束。第二光栅连接至目标。第一检测器配置成检测由第一光栅衍射的束的至少一部分，至少一个第二检测器配置成检测被第一光栅和第二光栅衍射的束的至少一部分。
位置传感器光刻设备

[发明专利]用于光刻设备的光学元件支座-CN200980127911.8有效
发明人： H·G·泰根波什克;A·M·斯卓克肯;J·克莱恩;R·A·C·M·比伦斯;I·范德瓦哈伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-16 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种被配置用于将光学元件(1)安装在用于光刻设备的模块(70，170)中的支座。所述支座包括：多个弹性构件(12)，被构造且布置以沿圆周支撑所述光学元件(1)。每一弹性构件(2)包括多个弹性子部(4′，4″，4″′)，所述弹性子部被配置以围绕光学元件(1)的周长与所述光学元件(1)接合。每一弹性子部被配置成独立于另一弹性子部屈曲。
用于光刻设备光学元件支座