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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光刻设备及器件制造方法-CN200510138200.4有效
发明人： C·－Q·桂;P·W·H·德贾格;R·－H·芒尼格施米特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-12-21 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：用于提供辐射束的照射系统；包括单独可控单元阵列的用于把图案赋予辐射束截面的图案形成装置；支撑衬底的衬底台；以及包括微透镜阵列的用于把辐射束投射到衬底的目标部分的投射系统。设置用于提供补偿微透镜阵列中位置误差的影响的误差校正值的误差补偿器，并且设置灰度调制器，用于与误差校正值相关地向图案形成装置的可控单元提供驱动信号，以便通过改变图案的一些部分相对于图案的其它部分的强度来补偿微透镜阵列中位置误差的影响。
光刻设备器件制造方法

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