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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]低压力下降混合器-CN201180049734.3有效
发明人： B·M·J-C·科隆布;D·普雷科特;D·L·鲁波特;P·A·斯托克曼 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2011-09-23 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： G01F1/00 文献下载
摘要：一种用于诸如气体或液体之类的流体的一致且高度精确混合而没有显著压力下降的系统和方法。该系统使用流量计来测量主流体的量，该主流体被提供用于与稀释流体的量混合，该稀释流体的量是基于主流体量的测量来控制的。
压力下降混合器

[发明专利]使用分子氟的原位激活的沉积腔室清洁-CN201180031431.9无效
发明人： J-C·西高;黄应享;P·A·斯托克曼;S·彼得里 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2011-08-18 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及使用分子氟作为清洁物质清洁反应腔室的方法和设备。使用腔室射频电源使得所述分子氟在反应腔室中原位解离。一种示例性的清洁化学气相沉积腔室的方法可包括：将分子氟引入所述腔室中；在所述腔室中至少部分原位解离所述分子氟，以形成氟自由基；使所述氟自由基和分子氟与所述腔室中不希望有的沉积物反应；以及抽出所述腔室中的气体。
使用分子原位激活沉积清洁

[发明专利]使用分子氟的反应腔室清洁-CN201180029275.2无效
发明人： J-C·西高;S·彼得里;P·A·斯托克曼;O·尼尔灵 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2011-08-11 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：用于清洁反应腔室的方法和装置使用分子氟作为清洁材料。使用腔RF功率源在腔内原位地分离分子氟。一种用于清洁反应腔室的示例性方法可包括以下步骤：将分子氟引入腔室；分离分子氟以产生氟原子团；允许氟原子团与腔室中不期望的沉积物反应；以及从腔室移除产物气体。
使用分子反应清洁

[发明专利]使用分子氟的化学气相沉积腔室清洁-CN201180028784.3无效
发明人： J-C·西高;黄应享;P·A·斯托克曼;R·霍格尔;S·彼得里 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2011-08-10 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： B08B9/00 文献下载
摘要：本发明涉及使用分子氟作为清洁物质清洁PECVD腔室的方法和设备。
使用分子化学沉积清洁

[发明专利]用于光伏和其它低温化学气相沉积工艺的硅薄膜的分子氟蚀刻-CN200980155955.1无效
发明人： P·A·斯托克曼;R·A·霍格尔 -专利权人：琳德股份公司
申请日： 2009-12-28 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：清除用于光伏用途的无定形和微晶硅薄膜的改进技术。更详细地，描述了使用分子氟清除用于光伏用途的薄膜的方法和用该方法形成的器件。
用于其它低温化学沉积工艺薄膜分子蚀刻

[发明专利]向用于室清洁的远程等离子体快速供应氟源气体-CN200980106100.X无效
发明人： R·A·霍格尔;P·A·斯托克曼;P·赫利 -专利权人：琳德北美股份有限公司
申请日： 2009-02-19 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： B08B7/04 文献下载
摘要：描述一种用于进行快速室清洁的系统和方法。使用F2作为RPS的源气体以形成用于室清洁操作的氟原子团，这种方式能够以快速的初始速度进行室清洁，而不需要使清洁气体的流速直线上升。这样的结果是清洁更快速并且清洁周期显著缩短。该系统和方法能用于半导体制造，特别是用于平板和太阳能光伏器件的制造。
用于清洁远程等离子体快速供应气体

[发明专利]浸没光刻用真空系统-CN201010143405.2有效
发明人： A·J·哈法姆;P·J·谢希特;P·A·斯托克曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-06-06 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于从光刻机具抽取多相流体流的真空系统(30)，包括用于从所述机具抽取所述流体的泵吸设备(36、38)，以及设置在所述泵吸设备的上游、用于将从所述机具抽取的所述流体分离为气相及液相的分离罐(32)。所述泵吸设备包括用于从所述罐抽取气体的第一泵(36)以及用于从所述罐(32)抽取液体的第二泵(38)。为了最小化从真空系统回传至机具内流体的任何压力波动，压力控制系统(54、56)通过调节所述罐(32)内的液体及气体的量来在罐(32)内维持大体恒定的压力。
浸没光刻真空系统

[发明专利]浸入式光刻系统-CN200580022586.0无效
发明人： R·B·格兰特;P·A·斯托克曼 -专利权人：英国氧气集团有限公司
申请日： 2005-06-22 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在浸入式光刻中，浸入流体(30)位于晶片(28)和透镜(24)之间，所述透镜用于穿过浸入流体(30)将图像投影在晶片(28)上。为了抑制来自浸入流体的蒸发，在浸入流体周围输送被浸入流体成分饱和的净化流体。
浸入光刻系统

[发明专利]浸没光刻用真空系统-CN200580019979.6有效
发明人： A·J·哈法姆;P·J·谢希特;P·A·斯托克曼 -专利权人：英国氧气集团有限公司
申请日： 2005-06-06 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于从光刻机具抽取多相流体流的真空系统(30)，包括用于从所述机具抽取所述流体的泵吸设备(36、38)，以及设置在所述泵吸设备的上游、用于将从所述机具抽取的所述流体分离为气相及液相的分离罐(32)。所述泵吸设备包括用于从所述罐抽取气体的第一泵(36)以及用于从所述罐(32)抽取液体的第二泵(38)。为了最小化从真空系统回传至机具内流体的任何压力波动，压力控制系统(54、56)通过调节所述罐(32)内的液体及气体的量来在罐(32)内维持大体恒定的压力。
浸没光刻真空系统

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