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[发明专利]清洁装置、光刻设备、去除水或其它污染物的方法、和器件制造方法-CN202080068335.0在审
发明人： P·萨菲诺斯基;马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫;A·N·兹德拉夫科夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备的清洁装置(10)，所述清洁装置包括：辐射源(2)，所述辐射源被配置成供应能够从所述光刻系统的光学部件(IL；PS)或其它部件的表面去除水或其它污染物的净化辐射(8)；其中，所述清洁装置被配置成由在由所述光刻设备执行的曝光过程期间夹持图案形成装置的夹具(7)夹持。
清洁装置光刻设备去除其它污染物方法器件制造

[发明专利]检查设备-CN201980069782.5在审
发明人： P·萨菲诺斯基;德克·S·G·布龙 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-17 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：‑真空腔室；‑装载锁，所述装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；‑平台设备，所述平台设备被配置成从所述装载锁接收所述物体且使所述物体在所述真空腔室内移位；其中所述真空腔室包括用于临时储存所述物体的第一停放位置和第二停放位置。
检查设备