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[发明专利]夹持器和包括该夹持器的光刻设备-CN202180079800.5在审
发明人： P·范栋恩;A·A·范伯兹康 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文中公开了一种夹持器，所述夹持器被配置成在光刻设备中传送衬底，所述夹持器包括：主体，所述主体具有用于与所述衬底的表面接合的一个或更多个接合部分；其中，所述主体的在所述一个或更多个接合部分与衬底接合时与所述衬底的区叠置的部分包括多个开口，所述多个开口在大致垂直于所述衬底的所述表面的方向上延伸穿过所述主体。
夹持包括光刻设备

[发明专利]衬底保持器、包括衬底保持器的承载件系统、和光刻设备-CN202180065545.9在审
发明人： K·F·布斯特雷恩;A·杰斯波特森;P·范栋恩;I·阿灿 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种用于将衬底保持在衬底保持位置中的衬底保持器，包括：框架；多个表面夹紧装置，所述多个表面夹紧装置被布置在所述框架上以在衬底的上表面处夹紧衬底，其中所述多个表面夹紧装置分别具有待布置在所述衬底的所述上表面上的夹紧垫，所述表面夹紧垫能够至少在大体上垂直于由所述表面夹紧垫保持的衬底的所述上表面的第一方向上相对于彼此移动；和一个或更多个致动器，所述一个或更多个致动器用于使所述表面夹紧垫在所述第一方向上相对于彼此移动。
衬底保持包括承载系统光刻设备

[发明专利]光刻设备和方法-CN201880072732.8有效
发明人： P·范栋恩;A·A·范伯兹康 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括衬底存储模块，所述衬底存储模块具有用于保护经光刻曝光的衬底免受环境空气影响的可控环境。所述衬底存储模块被配置成存储至少二十个衬底并且所述衬底存储模块是所述光刻设备的组成部分。所述衬底存储模块可以被用于在拼接光刻曝光期间保护衬底免受环境空气的影响。
光刻设备方法

[发明专利]调节装置和对应的物体处理装置、光刻设备和调节方法-CN202180038312.X在审
发明人： P·范栋恩;M·范巴伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-05-20 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于调节在调节体积中的物体的调节装置，包括：至少一个支撑销，所述至少一个支撑销适于支撑所述物体；第一板和第二板，所述第一板和第二板形成所述调节体积的外边界；致动器单元，所述致动器单元适于使所述第一板和所述第二板中的至少一个在以下位置之间移动：物体接收位置，在所述物体接收位置中所述第一板和所述第二板彼此分离开一接收距离，并且所述物体能够被布置到所述调节体积中；和物体调节位置，在所述物体调节位置中所述第一板和所述第二板彼此分离开一调节距离，所述调节距离小于所述接收距离，其中密封件在所述物体调节位置中形成在所述第一板与所述第二板之间，其中所述密封件形成所述调节体积的外边界。
调节装置对应物体处理光刻设备方法

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201911298755.3在审
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201580031670.2有效
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造