“L·凯托”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于处理基材表面的设备和操作该设备的方法-CN201680049710.0有效
发明人： L·凯托;P·索恩宁;M·索德隆德 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明涉及用于通过原子层沉积处理基材(1、101)的表面的设备以及用于操作该设备的方法。该设备包括沉积室(4)以及设置于一个或多个侧室(12、42、52、112)和该沉积室(4)之间的一个或多个导通连接部(13、15、16)。该一个或多个导通连接部(13、15、16)包括一个或多个导通室(18)和可操作地连接到该一个或多个导通室(18)的辅助压力装置(20)。
用于处理基材表面设备操作方法

[发明专利]用于向基材的表面提供涂覆层的设备和方法-CN201680049744.X有效
发明人： L·凯托 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本申请涉及用于向基材(1)的表面(1a)提供ALD涂覆层的设备和方法。该设备包括：用于涂覆基材(1)的表面(1a)的至少一个ALD涂覆单元(2)；用于解绕待涂覆的基材(1)的第一卷筒(3)；用于重新卷绕已涂覆的基材(1)的第二卷筒(4)；一个或多个主支撑结构(5)，一个或多个主支撑结构(5)设置成与待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)位于基材(1)的同一侧，用于形成从第一卷筒(3)经至少一个主支撑结构(5)到第二卷筒(4)的基材输送路径；以及与一个或多个主支撑结构(5)中的每一者相关的交错网状物(6)。所述交错网状物(8)设置为在基材(1)通过一个或多个主支撑结构(5)时保护待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)。所述交错网状物(6)设置为沿着基材输送路径的至少一部分与基材(1)一起移动。交错网状物(8)设置于一个或多个主支撑结构(5)中的每一者与待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)之间，使得待涂覆的表面(1a)或已涂覆的表面(1a)设置为沿着从第一卷筒(3)到第二卷筒(4)的基材输送路径仅与交错网状物(6)接触。
用于基材表面提供覆层设备方法

[发明专利]用于在批量处理中处理两个或更多基板的装置-CN201480024683.2有效
发明人： L·凯托 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2014-02-28 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过使得基板(10)表面的至少一部分受到至少第一和第二前体的交替表面反应而在批量处理中处理两个或更多基板(10)的装置。该装置包括多个基板保持器(6)，用于支承所述基板(10)；以及反应腔室(3)，该反应腔室包括反应空间(30)。该反应腔室(3)设置成用于在处理阶段中在反应空间(30)中的基板(10)的表面上沉积材料。基板保持器(6)安装或者布置成安装在反应腔室(3)内部，用于在处理阶段中处理在反应腔室(3)内部的基板(10)。在基板(10)通过装载装置(9)而装载至基板保持器(6)上的装载阶段中，至少一些基板保持器(6)布置成可彼此相对运动。
用于批量处理两个更多装置

[发明专利]用于处理基材的表面的设备和喷嘴头-CN201380040462.X有效
发明人： R·恩霍尔姆;L·凯托;P·索伊尼宁 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2015-08-04 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基材(20)的表面的设备和喷嘴头。所述设备包括：基材支撑机构(2，4，12，16)，用于在处理区域(50)中将基材(20)支撑在基材支撑面(4)上；喷嘴头(6，7)，其用于使得基材(20)的表面经受至少第一前体(A)和第二前体(B)的连续表面反应；和喷嘴头支撑机构(8，11，24，26，28，29，30，32，34)，其用于将喷嘴头(6，7)支撑成与基材支撑面(4)相距预定距离(3)。喷嘴头支撑机构(8，10，11，24，26，28，29，30，32，34)包括喷嘴头支撑表面(24，25，37)，并且喷嘴头(6，7)被支撑在喷嘴头支撑表面(24，25，37)上。
用于处理基材表面设备喷嘴

[发明专利]原子层沉积反应器-CN200680042923.7有效
发明人： P·索伊尼宁;L·凯托 -专利权人： BENEQ有限公司
申请日： 2006-11-16 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种ALD反应器的反应室，其包括限定了反应室的内部部分(28)的底壁、顶壁和在底壁与顶壁之间延伸的侧壁。该反应器进一步包括一个或多个用于将气体送入反应室的送入口(30)和一个或多个用于将送入反应器的气体从反应室排出的排出口(40，50)。该反应室的特征在于，反应室的每个侧壁包括一个或多个送入口(30)，在这种情况下，反应室的所有侧壁都参与气体交换。
原子沉积反应器