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[发明专利]快速均匀性漂移校正-CN202280012410.0在审
发明人： R·B·维纳;K·K·曼卡拉;托德·R·丹尼 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2022-01-16 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供用于调整光刻设备中的照射狭缝均匀性的系统、设备和方法。示例方法可包括由辐射源利用辐射来照射指状物组件的一部分。所述示例方法还可以包括由辐射检测器响应于对所述指状物组件的所述部分的所述照射来接收所述辐射的至少一部分。所述示例方法还可以包括由处理器基于所接收的辐射来确定所述指状物组件的形状的改变。所述示例方法还可以包括由所述处理器产生控制信号，所述控制信号被配置成基于所述指状物组件的所述形状的所确定的改变来修改所述指状物组件的位置。随后，所述示例方法可以包括由所述处理器将所述控制信号传输至被联接至所述指状物组件的运动控制系统。
快速均匀漂移校正

[发明专利]线性电动机磁屏蔽件设备-CN200910258374.2有效
发明人： K·K·曼卡拉;R·B·维纳;P·K·果维欧;A·尼尔森 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2009-12-14 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： H02K41/02 文献下载
摘要：本发明提供一种线性电动机磁屏蔽件设备。在该设备中，具有无磁性间隙的磁屏蔽件为精确定位系统中的线性电动机排列提供减小的磁性串扰。重新引导漏磁通抑制了串扰和相关的有害效应。这种优选的泄漏的磁通路路径被附于线性电动机的移动的磁体系统。通过提供由永磁体和背铁之间的无磁性间隙隔离的铁磁性屏蔽件，实现优选的磁通泄漏路径的实施例。在另一实施例中，铁磁性屏蔽件隔离包括反磁材料。
线性电动机屏蔽设备