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[发明专利]用于光刻设备的支撑台和光刻设备-CN201910210550.9有效
发明人： S·A·特姆普;A·H·维尔魏;A·A·索图特;J·P·范德普尔;M·C·J·巴根 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-10-07 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种用于光刻设备的支撑台、一种加载衬底的方法、一种光刻设备和一种用于使用光刻设备来制造器件的方法。在一种布置中，支撑台(100)被配置成用以支撑衬底(W)。所述支撑台包括基部表面(101)。所述基部表面当所述衬底由所述支撑台支撑时面对所述衬底的底部表面(103)。在所述基部表面上方提供一个或更多个气垫构件(102)。所述气垫构件中的每个包括凹部(108)。所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑的位置处会造成所述凹部内的压力的局部化积聚。所述压力的局部化积聚提供了在所述衬底的所述降低期间的局部化的气体缓冲效应。
用于光刻设备支撑

[发明专利]用于光刻设备的支撑台、加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法-CN201580057004.6在审
发明人： S·A·特姆普;A·H·维尔魏;A·A·索图特;J·P·范德普尔;M·C·J·巴根 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-10-07 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种用于光刻设备的支撑台、一种加载衬底的方法、一种光刻设备和一种用于使用光刻设备来制造器件的方法。在一种布置中，支撑台(100)被配置成用以支撑衬底(W)。所述支撑台包括基部表面(101)。所述基部表面当所述衬底由所述支撑台支撑时面对所述衬底的底部表面(103)。在所述基部表面上方提供一个或更多个气垫构件(102)。所述气垫构件中的每个包括凹部(108)。所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑的位置处会造成所述凹部内的压力的局部化积聚。所述压力的局部化积聚提供了在所述衬底的所述降低期间的局部化的气体缓冲效应。
用于光刻设备支撑加载衬底方法器件制造