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[发明专利]用于减少基板缺陷的干燥环境-CN202080018837.2在审
发明人： E·维拉兹克兹;J·K·阿特金森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-24 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文所述的一个或更多个实施例大致关于半导体处理系统内的干燥环境。在这些实施例中，在将基板返回至工厂接口之前，在干燥环境内清洁并且干燥基板。然而，归因于工厂接口和干燥环境之间的开口，空气从工厂接口流至干燥环境中，常常降低干燥处理的效率。在本文所述的实施例中，通过滑动门阻挡气流，当基板进入定位于干燥环境内的干燥机的干燥部分时，滑动门向上抬升至关闭位置。在基板离开干燥机之后并且在基板进入工厂接口之前，滑动门降低至开启位置，使得基板可进入工厂接口。如此，这些处理允许多个基板快速地干燥以及在系统内的一致性，改进产量。
用于减少缺陷干燥环境

[发明专利]用于化学机械平坦化后的基板抛光预清洁的系统、方法和装置-CN201480057214.0有效
发明人： C·P·萨卡塔;H·陈;J·K·阿特金森;B·J·布朗;J·唐;Y·陈;Y·丁 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-10-24 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：在一些实施例中，提供一种用于清洁基板的装置，所述装置包含：(1)基板卡盘，经配置以利用可接取的基板的前侧来支撑所述基板；(2)抛光衬垫组件，经配置以支撑抛光衬垫，所述抛光衬垫的直径小于所述基板的直径；以及(3)摆动手臂，所述摆动手臂耦接至所述抛光衬垫，并且经配置以：沿所述基板的前侧定位并旋转所述抛光衬垫；以及控制在清洁期间由所述抛光衬垫抵靠所述基板的前侧而施加的力的量。所述基板卡盘、所述抛光衬垫组件与所述摆动手臂经配置以抛光清洁所述基板。公开了众多附加的方面。
用于化学机械平坦抛光清洁系统方法装置