“H-J.罗斯塔尔斯基”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元以及包括这样的成像光学单元的投射曝光设备-CN201680065480.7有效
发明人： H-J.罗斯塔尔斯基 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M10)，以将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中。反射镜(M2至M8)中的至少两个实施为GI反射镜。恰好一个光阑(AS)设置为指定成像光学单元(7)的光瞳的外边缘轮廓的至少一个部分。光阑(AS)在成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜(M9)前面。这产生关于其光瞳良好限定且对于投射光刻优化的成像光学单元。
将物场成像到像场中的光学单元以及包括这样投射曝光设备

[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元，以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备-CN201680065535.4有效
发明人： A.沃尔夫;H-J.罗斯塔尔斯基 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2016-11-07 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，以将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)沿着第一、较大物场尺寸和沿着第二、较小物场尺寸由两个物场坐标(x，y)跨越。成像光学单元(7)具有至少两个掠入射反射镜(M2，M3，M5，M6)和至少一个法线入射反射镜(M4)，该法线入射反射镜(M4)布置在成像光束路径中的两个掠入射反射镜(M3，M5)之间。该法线入射反射镜(M4)的采用的反射表面具有在沿着第一反射表面坐标(x)的表面尺寸和沿着平行于第二物场尺寸的第二反射表面坐标(y)的表面尺寸之间的纵横比(x/y)，该纵横比小于4.5。结果是具有制造成本减少的成像光学单元。
将物场成像到像场中的光学单元以及包括这种投射曝光设备

[发明专利]用于将物场成像至像场的成像光学单元-CN201880061964.3在审
发明人： J.鲁奥夫;S.贝德;H-J.罗斯塔尔斯基;A.沃尔夫 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7)。在此处，多个反射镜(M1至M10)用以沿成像光束路径引导成像光(3)。多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个反射镜(GI反射镜)(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射角的中心物场点的主射线(16)。GI反射镜(M2至M8)中的至少两个配置于成像光束路径中作为基本GI反射镜(M2至M7)，使得其偏转效果针对主射线加总。至少一个另外的GI反射镜(M2至M8)配置在成像光束路径中作为反GI反射镜(M8)，使得其偏转效果相对基本GI反射镜(M2至M7)的偏转效果以减法的方式对主射线(16)作用。这产生了成像光学单元，其相对于成像光学单元的反射镜的反射镜主体所要求的安装空间的配置灵活性增加。
用于将物场成像至像场光学单元

[发明专利]成像光学系统和投射曝光设备-CN201380027345.X有效
发明人： A.埃普尔;R.米勒;H-J.罗斯塔尔斯基 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-05-15 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：一种用于将物场成像于像场的成像光学单元。所述成像光学单元具有遮挡的光瞳(21)。该光瞳(21)具有中心(Z)，中心场点的主光线通过该中心，所述成像光学单元还具有多个成像光学组件。所述成像光学单元的连续光瞳遮挡区域(18)的重心(SP)离心地位于所述成像光学单元的光瞳(21)中。根据另一方面，所述成像光学单元以反射方式实现，最后一个反射镜具有用于使成像光通过的通路开口。所述最后一个反射镜的反射表面的边缘区域连续地用于发射成像光，所述边缘区域环绕通路开口。成像光路中的倒数第二个反射镜实现为具有反射表面，其以闭合方式使用，即没有开口。所述通路开口布置为使得其产生光瞳遮挡区域(18)，光瞳遮挡区域未居中地地位于成像光学单元的光瞳(21)中。这种成像光学单元导致良好校正的可成像场，同时具有高成像光通量。
成像光学系统投射曝光设备