专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]井筒效应减小的感应测量-CN200410095969.8无效
  • G·米纳博;S·达维迪切瓦;H·王;D·M·霍曼 - 施卢默格海外有限公司
  • 2004-10-15 - 2005-05-25 - E21B47/00
  • 一种感应仪器,其包括一导电心轴;至少一个阵列,其包括在绝缘仪器主体中围绕导电心轴配置的一发射器、一反作用线圈和一接收器;和一电极,其设置在绝缘仪器主体中的反作用线圈和接收器之间所选择的位置上,其中所选择的位置与发射器间隔开一个间距,该间距近似相应于在发射器和反作用线圈的间距与在发射器和接收器之间的间距的调和平均值,并且其中电极包括形成到导电心轴的导电路径的接点。附加的电极可以设置在每个发射器和接收器线圈上面和下面以减少对井筒中的仪器的偏心的敏感度。
  • 井筒效应减小感应测量
  • [发明专利]基因算法优化方法-CN02811225.3有效
  • A·L·布查克;H·王 - 霍尼韦尔国际公司
  • 2002-04-04 - 2004-09-29 - G06N3/12
  • 本发明包含一种用于从一个用于对至少一个目标进行跟踪的传感器网络中选择传感器的方法,该方法具有以下步骤:定义具有n个染色体的基因算法结构的个体,其中每个染色体代表一个传感器,基于想要的跟踪的特性定义适合性函数,选择个体中的一个或多个以便将其包含进一个初始总体,对该初始总体执行一种基因算法直到所定义的趋同标准被满足,其中对基因算法的执行具有以下步骤:从该总体中选择最适合的个体,从该总体中选择随机个体以及通过该最适合的个体和随机选择的个体创造后代。本发明的另一种实施方案包含另一种用于从一个用于对至少一个目标进行跟踪的传感器网络中选择传感器的方法,该方法具有以下步骤:定义具有n个染色体的基因算法结构的个体,其中每个染色体代表一个传感器,基于想要的跟踪的特性定义适合性函数,选择个体中的一个或多个以便将其包含进一个初始总体,对该初始总体执行一种基因算法直到所规定的趋同标准被满足,其中对基因算法的执行具有以下步骤:从该总体中选择最适合的个体,以及通过该最适合的个体创造后代,其中仅通过突变来实现对后代的创造,其中在任何一次突变期间仅有i个染色体发生突变,并且其中i的值为从2到n-1。本发明还包含一种用于跟踪目标的包含N个传感器的传感器网络,一种用于N个传感器与控制器进行通信的装置和一种通过利用本发明的其中一种方法而具备控制和管理该N个传感器的能力的控制器。
  • 基因算法优化方法
  • [发明专利]粗糙化陶瓷表面的方法-CN02806155.1有效
  • E·C·韦尔登;Y·何;H·王;C·C·斯托 - 应用材料有限公司
  • 2002-11-20 - 2004-05-12 - C04B41/91
  • 本发明揭示了一种通过在陶瓷表面形成机械联锁而使陶瓷表面粗糙化的方法,其中机械联锁是通过化学蚀刻、热蚀刻、或使用激光显微机械加工法形成的。本发明还揭示了在半导体处理室中使用的部件(尤其是在PVD室中使用的沉积环),这些部件具有至少一个已经在其上通过化学蚀刻、热蚀刻、和激光显微机械加工形成机械联锁的陶瓷表面。按照本发明的化学蚀刻法、热蚀刻法、和激光显微机械加工法粗糙化的陶瓷表面,与使用传统喷砂技术粗糙化的陶瓷表面相比,脆性和损坏降低。本发明的方法产生了一种对上方牺牲层(例如铝)有良好粘合性的粗糙化的陶瓷表面。
  • 粗糙陶瓷表面方法
  • [发明专利]制造被涂覆处理室部件的方法-CN02806156.X有效
  • Y·何;H·王;C·斯托 - 应用材料有限公司
  • 2002-11-19 - 2004-05-12 - H01J37/32
  • 本发明提供一种制造处理室部件的方法,其中该部件具有带有晶粒和晶界区域的陶瓷结构。在该方法中,喷丸处理该部件以提供具有小于约150微英寸的相对低的表面粗糙度平均值的表面。该部件被浸在具有足够低浓度以减少陶瓷结构的晶界区域的刻蚀的溶液。金属涂层形成在陶瓷结构的至少一部分上。通过该方法制造的部件可允许在溅射处理中形成较厚的溅射材料的淀积物,而且溅射的淀积积累物不会使该部件的涂层剥落。
  • 制造被涂覆处理部件方法
  • [发明专利]遮光剂乳化液组合物及其使用方法-CN02152442.4无效
  • A·D·贡扎莱兹;A·H·佩奇科;H·王 - 埃文产品公司
  • 2002-11-27 - 2003-07-09 - A61K7/40
  • 提供了一种遮光剂乳化液组合物。所述组合物具有内部非连续相和外部连续相。内部非连续相和/或外部连续相中含有一种遮光剂活性物。内部非连续相通常分散在外部连续相内并呈具有多峰液滴粒度分布的离散液滴的形式。也提供了一种保护皮肤免受过度暴露于太阳下的方法,其中以上组合物被施用于皮肤上某一部分。也提供了一种增强遮光剂乳化液性能的方法,它是通过将内非连续相形成具有多峰液滴粒度分布形式的多个液滴而实现的。还提供了一种制备不含乳化剂的遮光剂组合物的方法。
  • 遮光乳化组合及其使用方法

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