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[发明专利]量测系统和相干调整器-CN202180082336.5在审
发明人： S·索科洛夫;S·R·惠斯曼;廉晋;S·A·戈登;M·埃拉尔普;H·P·M·佩莱曼斯;J·L·克鲁泽 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：量测系统(400)包括多源辐射系统。多源辐射系统包括波导装置(502)并且多源辐射系统被配置为生成一个或多个辐射束。量测系统(400)还包括相干调整器(500)，相干调整器(500)包括多模波导装置(504)。多模波导装置(504)包括输入和输出(518)，输入被配置为接收来自多源辐射系统(514)的一个或多个辐射束，输出(518)被配置为输出用于辐照目标(418)的经相干调整的辐射束。量测系统(400)还包括致动器(506)，致动器(506)被耦合到波导装置(502)并且被配置为致动波导装置(502)，以便改变多模波导装置(504)的输入处的一个或多个辐射束的冲击特性。
系统相干调整器

[发明专利]量测方法和光刻设备-CN202080076752.X在审
发明人： F·阿尔佩贾尼;H·P·M·佩莱曼斯;S·A·戈登;S·R·惠斯曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：公开了一种量测方法，诸如对准量测。所述方法包括在光瞳平面处获得与由结构测量产生的散射辐射相关的光瞳平面测量数据集。所述方法包括使用所述光瞳平面测量数据集以及与用于执行所述测量的传感器光学器件相关的传感器项来确定测量值或其校正。
方法光刻设备

[发明专利]检查装置、检查方法和设备制造方法-CN201580037024.7有效
发明人： A·辛格;H·P·M·佩莱曼斯;P·沃纳尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-19 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：检查装置(100)用于测量衬底上的目标。相干辐射跟随用于照射目标(T)的照射路径(实线)。收集路径(虚线)收集来自目标的衍射辐射并且将其传递至锁定图像检测器(112)。参考束跟随参考路径(点线)。声光调制器(108)偏移参考束的光学频率，使得锁定检测器处的辐射的强度包括时变分量，其具有与衍射辐射与参考辐射的频率之间的差相对应的特征频率。锁定图像检测器记录表示时变分量的幅度和相位的二维图像信息。具有不同偏移(110)的第二参考束跟随第二参考路径(点划线)。两个参考束之间的敢骚扰可用于强度标准化。
检查装置方法设备制造