专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]致密环境屏障涂层组合物-CN201680048140.3有效
  • G.H.柯比;万菊林;S.拉马萨米 - 通用电气公司
  • 2016-08-17 - 2022-03-04 - C04B41/85
  • 提供一种有涂层的基材,其包括基材(例如,陶瓷基质复合物)的表面上(例如,直接在其上)的环境屏障涂层。所述环境屏障涂层可包括具有耐火材料相和含硅玻璃相的屏障层。所述含硅玻璃相可为所述屏障层内的连续相(例如,所述屏障层的可透气晶界),或可为分散在整个所述耐火材料相中的多个不连续层。所述耐火材料相可包括具有第一原子百分比的稀土组分的稀土硅酸盐材料,而所述含硅玻璃相包括小于所述第一原子百分比的第二原子百分比的所述稀土组分。还提供用于在基材上形成屏障层的方法。
  • 致密环境屏障涂层组合
  • [发明专利]组合物和将厚环境阻挡涂层附接在CMC部件上的方法-CN201610548560.X有效
  • G.H.柯比;N.E.安托利诺 - 通用电气公司
  • 2016-07-13 - 2020-11-17 - B32B18/00
  • 提供了在CMC基材(24)上的涂层系统(20),以及其带式沉积到基材(24)上的方法。涂层系统(20)可以包括:CMC基材(24)的表面上的粘合涂层(26);粘合涂层(26)上的第一稀土硅酸盐涂层(28a);至少一个稀土硅酸盐层上的第一增强稀土硅酸盐基质的第一牺牲涂层(30a);牺牲涂层上的第二稀土硅酸盐涂层(28b);第二稀土硅酸盐涂层(28b)上的第二增强稀土硅酸盐基质的第二牺牲涂层(30b);第二牺牲涂层(30b)上的第三稀土硅酸盐涂层(28c);以及第三稀土硅酸盐涂层(28c)上的外层(32)。第一牺牲涂层(30a)和第二牺牲涂层(30b)独立地具有约4密耳至约40密耳的厚度。
  • 组合环境阻挡涂层cmc部件方法
  • [发明专利]组合物和将厚环境阻挡涂层沉积在CMC叶尖上的方法-CN201610172146.3在审
  • G.H.柯比 - 通用电气公司
  • 2016-03-24 - 2016-10-12 - C04B41/89
  • 本发明提供了在CMC基材上使用的涂层体系,所述涂层体系可以包括:所述CMC基材表面上的连接涂层;所述连接涂层上的第一稀土硅酸盐涂层;所述至少一个稀土硅酸盐层上的增强稀土硅酸盐基质的牺牲涂层;所述牺牲涂层上的第二稀土硅酸盐涂层;和所述第二稀土硅酸盐涂层上的外层。所述第一稀土硅酸盐涂层包含至少一个稀土硅酸盐层,且所述第二稀土硅酸盐涂层包含至少一个稀土硅酸盐层。所述牺牲涂层具有约4密耳‑约40密耳的厚度。还提供了用于将牺牲涂层带式沉积在CMC基材上的方法。
  • 组合环境阻挡涂层沉积cmc叶尖方法

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