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[发明专利]用于清洁衬底的装置和系统-CN201210089399.6无效
发明人： E·M·弗里尔;J·M·德拉里奥斯;K·米克海利岑科;M·拉夫金;M·科罗利克;F·C·雷德克;C·托马斯;J·帕克斯 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于清洁衬底的装置和系统。本发明公开了用于清洁衬底的装置。该装置具有第一头单元和第二头单元。第一头单元被设置成紧邻衬底表面，并具有限定在其中的、经构造以向衬底表面供给泡沫的第一行通道。第二头单元被设置成基本上靠近第一头单元并紧邻衬底表面。第二行和第三行通道限定在第二头单元中。第二行通道经构造以向衬底表面供给流体。第三行通道经构造以向衬底表面施加真空。
用于清洁衬底装置系统

[发明专利]具有倾斜真空导管的近头系统、设备和方法-CN200880011132.7有效
发明人： M·拉夫金;J·德拉里奥斯;F·C·雷德克;M·科罗利克;E·M·弗里尔 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2008-02-22 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种近头包括头部表面。该头部表面包括第一平坦区和多个第一导管。多个第一导管中的各个由多个第一离散孔中的对应的一个来限定。多个第一离散孔位于头部表面中并延伸通过第一平坦区。头部表面还包括第二平坦区和多个第二导管。多个第二导管由对应的多个第二离散孔限定，该多个第二离散孔位于头部表面中并延伸通过第二平坦区。头部表面还包括布置在第一平坦区和第二平坦区之间并与之相邻的第三平坦区和多个第三导管。多个第三导管由对应的多个第三离散孔限定，该多个第三离散孔位于头部表面中并延伸通过第三平坦区。第三导管以相对于第三平坦区的第一角度形成。第一角度在30度和60度之间。也描述了一种用近头处理衬底的系统和方法。
具有倾斜真空导管系统设备方法

[发明专利]用于清洁衬底的方法和材料-CN200610063948.7无效
发明人： E·M·弗里尔;J·M·德拉里奥斯;K·米克海利岑科;M·拉夫金;M·科罗利克;F·C·雷德克 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2008-01-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：公开使用三态体的清洁方法。提供具有沉积于其上的颗粒的衬底。生成具有固体部分、液体部分、和气体部分的三态体。将力施加在三态体上方以促进固体部分和颗粒之间相互作用。从衬底的表面与颗粒一起除去三态体。在固体部分和颗粒之间的相互作用引起颗粒与三态体一起被除去。
用于清洁衬底方法材料

[发明专利]从衬底上除去杂质的方法以及制备清洗液的方法-CN200610172497.0无效
发明人： E·M·弗里尔;J·M·德拉里奥斯;K·米克海利岑科;M·拉夫金;M·科罗利克;F·C·雷德克 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2006-12-30 - 公布日： 2007-09-12 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：提供一种用于从衬底上除去杂质的方法。该方法包括在衬底的表面上涂覆具有分散相、连续相和分散在连续相中的颗粒的清洗液。该方法包括迫使分散在连续相中的一个颗粒到达一个表面杂质的附近。该力足以克服颗粒和表面杂质之间的任何排斥力，使得一个颗粒和一个表面杂质咬合在一起。该方法还包括从衬底表面上除去咬合的颗粒和表面杂质。还提供一种制备清洗材料的工序。
衬底除去杂质方法以及制备清洗

[发明专利]清洗化合物和使用该清洗化合物的方法和系统-CN200610172498.5无效
发明人： E·M·弗里尔;J·M·德拉里奥斯;K·米克海利岑科;M·拉夫金;M·科罗利克;F·C·雷德克 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2006-12-30 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： C11D7/26 文献下载
摘要：提供一种清洗化合物。该清洗化合物包括分散在水中的大约0.1重量百分比到大约10重量百分比的脂肪酸。该清洗化合物包括碱，碱的量足以使脂肪酸水溶液的pH大致达到使大约多于50％分散的脂肪酸发生电离这一程度。还提供一种用于清洗衬底的方法、用于清洗衬底的系统以及通过一种工序制备的清洗液。
清洗化合物使用方法系统

[发明专利]用于清洁衬底的装置和系统-CN200610171751.5无效
发明人： E·M·弗里尔;J·M·德拉里奥斯;K·米克海利岑科;M·拉夫金;M·科罗利克;F·C·雷德克;C·托马斯;J·帕克斯 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：公开了用于清洁衬底的装置。该装置具有第一头单元和第二头单元。第一头单元被设置成紧邻衬底表面，并具有限定在其中的、经构造以向衬底表面供给泡沫的第一行通道。第二头单元被设置成基本上靠近第一头单元并紧邻衬底表面。第二行和第三行通道限定在第二头单元中。第二行通道经构造以向衬底表面供给流体。第三行通道经构造以向衬底表面施加真空。
用于清洁衬底装置系统