专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]适应性强的X射线分析装置-CN202211053916.4在审
  • D·贝克尔斯;亚历山大·哈尔陈科;米伦·加特什基 - 马尔文帕纳科公司
  • 2022-08-31 - 2023-03-03 - G01N23/20
  • 本发明涉及适应性强的X射线分析装置。X射线分析装置使用户能够执行多个X射线分析应用,以分析样品。该装置包括用于用X射线照射样品的X射线源,X射线源包括固体阳极和用于发射电子束的阴极。该装置还包括控制器和用于将电子束聚焦到阳极上的聚焦装置。控制器被配置为接收X射线分析应用信息,并基于X射线分析应用信息来控制X射线分析装置选择性地在第一X射线分析模式或第二X射线分析模式下操作。在第一X射线分析模式下,X射线源以第一操作功率操作,并且具有小于100μm的有效焦斑大小。在第二X射线分析模式下,X射线源以高于第一操作功率的第二操作功率操作,并且有效焦斑的面积大于在第一X射线分析模式下的有效焦斑的面积。
  • 适应性射线分析装置
  • [发明专利]X射线分析设备-CN201910300453.9有效
  • D·贝克尔斯;米伦·加特什基;亚普·博克塞姆;法比奥·马谢洛 - 马尔文帕纳科公司
  • 2019-04-15 - 2022-11-22 - G01N23/201
  • 本公开涉及但不限于X射线分析设备。所述设备包括用于支撑样本的样本台、具有旋转轴的测角仪和布置成绕测角仪的旋转轴可旋转的X射线检测器,其中X射线检测器布置成接收来自样本的沿着X射线束路径引导的X射线。X射线分析设备还包括均具有第一和第二配置的第一、第二和第三准直器。准直器在其第一配置中布置在X射线束路径中。准直器在其第二配置中布置在X射线束路径之外。第一致动器装置配置成通过在与X射线束路径相交的横向方向移动第一和第二准直器来在第一和第二配置之间移动第一和第二准直器。第二致动器装置配置成使第三准直器在其第一和第二配置之间移动。控制器配置成控制第一致动器装置以使第一准直器在第一和第二配置之间移动。
  • 射线分析设备
  • [发明专利]X射线分析设备和方法-CN201910295269.X有效
  • D·贝克尔斯;亚普·博克塞姆;米伦·加特什基 - 马尔文帕纳科公司
  • 2019-04-12 - 2022-07-19 - G01N23/20
  • 本申请涉及X射线分析设备和方法。一种X射线分析设备包括被配置成用入射X射线波束照射样品的X射线源。第一波束掩模部件被布置在X射线源和样品之间。第一波束掩模部件具有用于限制入射X射线波束的尺寸的第一开口。当第一波束掩模部件在第一配置中时,第一开口被布置在入射X射线波束中。第一波束掩模部件还包括第二开口。当第一波束掩模部件在第二配置中时,第二开口被布置在入射X射线波束中。第二开口不限制入射X射线波束的尺寸。控制器被配置成控制第一波束掩模部件致动器以通过在与入射X射线波束相交的平面中移动第一波束掩模部件来将第一波束掩模部件的配置在第一配置和第二配置之间进行改变。
  • 射线分析设备方法
  • [发明专利]用于X射线的样品保持器-CN201710593858.7有效
  • V·科根;D·贝克尔斯 - 马尔文帕纳科公司
  • 2017-07-20 - 2022-04-15 - G01N23/201
  • 提供了用于X射线分析的样品保持器。用于保持用于X射线分析的毛细管(40)的样品保持器(2)具有位于纵向狭缝(12)一侧的基座部分(14)上的第一热传递构件(36)和位于另一侧的基座部分(16)上的第二热传递构件(38)。在框架(30)与基座部分(14、16)之间在横向方向上压紧热传递构件(36、38),以促使第一热传递构件和第二热传递构件的边缘在一起,从而保持毛细管(40)与纵向狭缝(12)纵向地对齐。
  • 用于射线样品保持
  • [发明专利]衍射成像-CN201410299083.9有效
  • D·贝克尔斯;M·歌特斯凯 - 马尔文帕纳科公司
  • 2014-06-26 - 2019-03-08 - G01N23/207
  • 本发明涉及衍射成像。一种对不均匀多晶样本中的相进行成像的方法,该不均匀多晶样本具有至少第一结晶成分的多个微晶,该方法包括在基本单色X射线以布拉格‑布伦塔诺仲聚焦几何、以第一角θ1入射到样本的表面的情况下,照射跨样本的表面延伸的被照射区域。由样本以第二角θ2衍射的X射线穿过针孔装置。衍射角θ12满足第一结晶成分的布拉格条件,第一结晶成分由探测器成像,以提供在样本的表面处的第一结晶成分的二维图像。
  • 衍射成像
  • [发明专利]微衍射-CN201310069293.4有效
  • D·贝克尔斯;M·歌特斯凯 - 帕纳科有限公司
  • 2013-02-28 - 2017-05-03 - G01N23/20
  • 本发明提供了一种用于测量具有样品表面的样品的X射线衍射的方法和装置。X射线衍射方法在样品(10)的表面(14)上沿着照射带(16)照射射束(4)。X射线被所述样品(10)衍射并通过具有基本上垂直于所述带(16)延伸的狭缝的掩模(20)。通过二维X射线检测器检测X射线,从而测量沿着所述带(16)的不同位置的衍射X射线。
  • 衍射

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