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[发明专利]用于EUV光刻的底层-CN202080073359.5在审
发明人：梁懿宸;A·M·查克;王玉宝;D·J·格雷罗 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：提供了用作EUV硅硬掩膜层的新型光刻组合物。本发明提供了制造微电子结构的方法以及使用EUV光刻工艺而由此形成的结构。该方法包括利用光刻胶层正下方的硅硬掩膜层。硅硬掩膜层可以直接施涂于基板，也可以施涂于任何可施涂于基板的中间层。优选的硅硬掩膜层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法提高了粘附并减少或消除了图案塌陷问题。
用于 euv 光刻底层

[发明专利]用于EUV光刻的粘附层-CN201980039710.6在审
发明人： A·M·查克;V·克里西那莫西;梁懿宸;李昊;S·格莱曼;D·J·格雷罗 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了用作EUV粘附层的新型光刻组合物。本发明提供了使用那些组合物制造微电子结构的方法以及由那些方法所形成的结构。方法涉及在紧邻光刻胶层下方使用粘附层。粘附层可以直接施加于基材，或者也可以施加于可能施加到基材的中间层，例如α‑碳、旋涂碳、旋涂硅硬掩模、金属硬掩模、或沉积的硅层。优选的粘附层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法改善粘附性并降低或消除图案崩塌的问题。
用于 euv 光刻粘附

[发明专利]用于微型光刻的光敏性硬掩模-CN200980114886.X有效
发明人：徐昊;R-M·L·梅尔卡多;D·J·格雷罗 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2009-04-21 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种新颖的硬掩模组合物，该组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的非聚合物型的含金属的纳米颗粒，还提供了将这些组合物在微电子结构中用作硬掩模层的方法。所述组合物是光敏性的，能够一经辐射曝光就变得可溶于显影剂。本发明的硬掩模层与光刻胶层同时形成图案，为随后的图案转移提供抗等离子体蚀刻性。
用于微型光刻光敏性硬掩模

[发明专利]形成微电子结构的方法-CN201010110135.5有效
发明人： D·J·格雷罗;R·C·考克斯;M·W·维默 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2005-04-15 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：提供了一种形成微电子结构的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有表面的基材；将组合物施涂在所述表面上，所述组合物包含：选自聚合物、低聚物或其混合物的化合物，所述化合物包含非酚基的酸基；乙烯基醚交联剂和溶剂体系，所述化合物和交联剂溶解或分散在所述溶剂体系中，使所述组合物中的化合物交联，形成一层基本不溶于光刻胶溶剂中的组合物层，并且形成包含具有以下结构式的连接基团的交联化合物；在所述组合物上形成光刻胶层；使所述组合物曝光，形成所述组合物的曝光部分；使所述组合物与显影剂接触，以从所述表面除去所述曝光的部分。
形成微电子结构方法

[发明专利]可光成像的支化聚合物-CN200880114522.7有效
发明人：徐浩;R-M·L·梅尔卡多;D·J·格雷罗;J·D·米多尔 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2008-10-30 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： C08G65/30 文献下载
摘要：提供了可溶于显影剂的新颖抗反射涂料组合物以及这些组合物的使用方法。所述组合物包含多官能酸，所述多官能酸与多官能乙烯基醚反应以形成支化聚合物或低聚物。在使用中，将所述组合物施用于基材并进行热交联。用曝光并在曝光后进行烘焙之后，固化的聚合物/低聚物将解交联和解聚，使得该层可溶于典型的光刻胶显影溶液(如碱性显影剂)中。
成像聚合物

[发明专利]使用乙烯醚交联剂的抗反射涂层-CN200880007322.1无效
发明人： D·J·格雷罗;R-M·L·梅尔卡多 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2008-01-24 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：提供了新型的、可溶于显影剂的抗反射涂层组合物和使用那些组合物的方法。该组合物包括聚合物和/或低聚物，该聚合物和/或低聚物具有酸官能团且连同交联剂、光产酸剂和任选的生色团一起溶于溶剂系统中。优选的酸官能团是羧酸，而优选的交联剂是乙烯醚交联剂。在使用中，将该组合物应用于基底并热交联。一旦暴露于光(且任选地曝光后烘烤)，固化的组合物就将解交联，使得它们可溶于典型的光致抗蚀剂显影液(例如碱性显影剂)中。在一个实施方案中，该组合物可用于在微电子基底中形成离子植入区。
使用乙烯交联剂反射涂层

[发明专利]使用乙烯基醚交联剂的减反射涂层-CN200580013246.1有效
发明人： D·J·格雷罗;R·C·考克斯;M·W·维默 -专利权人：布鲁尔科技公司
申请日： 2005-04-15 - 公布日： 2007-06-13 - 主分类号： G03F7/095 文献下载
摘要：提供了新颖的可湿显影的减反射涂层组合物及其使用方法。所述组合物包含与交联剂和光致生酸剂一起溶解在溶剂体系中的、包含酸官能团的聚合物和/或低聚物。优选的酸官能团是羧酸，优选的交联剂是乙烯基醚交联剂。在使用时，将所述组合物施涂到基材上，并进行热交联。在曝光的时候，固化的组合物将解交联，使得它们可溶于常规的光刻胶显影溶液(例如碱性光刻胶)。
使用乙烯基交联剂反射涂层

[发明专利]通过等离子体增强的化学汽相淀积法沉积的聚合物防反射涂层-CN01819133.9无效
发明人： R·萨布尼斯;D·J·格雷罗 -专利权人：部鲁尔科学公司
申请日： 2001-06-12 - 公布日： 2004-02-11 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：提供了一种用来向基片表面施涂聚合物防反射涂料的改进的方法以及所得的前体结构。概括地说，该方法包含用等离子体增强的化学汽相淀积(PECVD)法将聚合物沉积在基片表面上。最好的初始单体是4－氟苯乙烯、2，3，4，5，6－五氟苯乙烯和烯丙基五氟苯。PECVD法包含使单体经受足够的电流和压力，从而导致单体升华以形成蒸汽，然后通过施加电流将蒸汽变为等离子状态。随后，蒸发的单体在沉积室中的基片表面上聚合。本发明方法用来提供在具有超亚微米(0.25μm或更小)特征的大型表面基片上的高保形的防反射涂层。该方法提供了比常规汽相淀积(CVD)法更快的沉积速率，它对环境是友好的，并且是经济可行的。
通过等离子体增强化学汽相淀积法沉积聚合物反射涂层