专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测试干涉仪的衍射光学元件-CN202080068030.X在审
  • A.温克勒;M.谢德;H.M.斯蒂潘;J.赫茨勒;F.埃泽特 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2020-08-13 - 2022-05-13 - G01B11/06
  • 本发明涉及一种用于测量光学表面(102)的形状的测试干涉仪(100)的衍射光学元件(10),其包括:衍射形状测量结构(16),其布置在衍射光学元件的使用表面(14)上并且被配置为当衍射光学元件布置在测试干涉仪中时生成用于照射待测量的光学表面的测试波(122);以及至少一个测试场(18),被配置为用于测量定位在测试场内的测试结构的多个轮廓性质,轮廓性质表征相对于使用表面横向延伸的测试结构的轮廓并且包括测试结构的轮廓的侧翼角、测试结构的轮廓深度、和在测试结构的沟槽形状的轮廓的基部区域中出现的微沟槽的深度。测试场布置在使用表面的一个位置处而不是衍射形状测量结构,使得测试场由多个衍射形状测量结构围绕。
  • 测试干涉仪衍射光学元件
  • [发明专利]EUV投射光刻的照明光学系统-CN201680009975.8有效
  • A.温克勒;D.楞次;T.费希尔 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2016-02-02 - 2020-06-02 - G03F7/20
  • 一种EUV投射光刻的照明光学单元,包括场分面反射镜和光瞳分面反射镜。经由相应的一个照明通道,通过恰好一个场分面和恰好一个光瞳分面(29)在光源与物场之间引导相应使用的照明光部分束(16i)。可用作校正光瞳分面的至少一些光瞳分面(29)布置在照射其上的照明光部分束(16i)的束路径中,使得在像位置处产生光源的像,像位置位于沿着照明通道(16i)距光瞳分面(29)一定距离。用于可用作信号连接至位移致动器(31)的校正场分面的至少一些场分面的受控位移的校正控制装置(32)实施为使得校正场分面的校正位移路径如此之大,使得相应校正照明通道(16i)在边沿由校正光瞳分面(29)切断,使得照明光部分束(16i)不全部从校正光瞳分面(29)传输到物场中。使用照明光学单元,可以执行一种规定在照明光学单元(4)的物场的横向场坐标(x)之上的照明光(16)的最小照明强度的方法。
  • euv投射光刻照明光学系统

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