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[发明专利]半导体功率器件斜坡场板的制作方法-CN202110579844.6有效
发明人：李健儿;冯艾城;李学良;冯永;胡仲波;唐毅;刘继芝;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体功率器件斜坡场板的制作方法，首先，对应斜坡区域设计两块灰度光刻版，然后在每块光刻版灰度区域，设置尺寸小于光刻分辨率的均匀栅格，并在各个栅格对铬层开孔制得灰度光刻版；接着，以这两块灰度光刻版为掩膜对光刻胶先后两次曝光，显影后产生斜坡光刻胶，再以斜坡光刻胶作为掩膜进行等离子干法刻蚀，最后进行金属淀积与反应离子刻蚀，制得斜坡场板。本发明提供的方法简化了工艺步骤，降低了工艺难度和成本，使用较少的工艺步骤和成本实现斜坡场板制作，同时相对于一次曝光，双曝光增加了对斜坡场板范围与梯度的选择。本发明属于半导体集成电路制造技术领域，用于制作斜坡场板。
半导体功率器件斜坡制作方法

[实用新型]一种用于晶圆抛光的旋转夹具-CN202121142773.5有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本申请提供一种用于晶圆抛光的旋转夹具，包括：下转盘和上转盘，上转盘同轴设于下转盘上方。下转盘和上转盘安装于同一框架，框架呈环形结构，上转盘的底面与下转盘的顶面相对设置，下转盘的底部设有第一电机，第一电机安装于框架底部，框架顶部设有第二电机，第二电机的转轴设有延长杆，延长杆朝向下转盘设置，延长杆的截面为多边形，上转盘顶部同轴设有连接管，连接管与延长杆同轴设置，连接管滑动套设于延长杆外侧，连接管外周转动设有推动盘，推动盘沿连接管的轴线方向移动，夹持稳定，可防止晶圆打滑。
一种用于抛光旋转夹具

[实用新型]一种晶圆夹取转移工装-CN202121265758.X有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B25J9/12 文献下载
摘要：一种晶圆夹取转移工装，包括：横移机构；升降机构，数量为一对，设于横移机构；伸缩机构，设于升降机构；夹持机构，设于伸缩机构；横移机构用于带动升降机构沿其运动方向进行运动，升降机构用于调节伸缩机构的高度，伸缩机构用于调节夹持机构距离横移机构的间距，夹持机构用于晶圆的夹持。本实用新型在进行晶圆的加工时，方便进行带动晶圆进行运动，并对晶圆的位置进行调节，在对晶圆的位置调节时还能对晶圆的姿势进行调节，从而方便进行晶圆的加工，具有较强的实用性。
一种晶圆夹取转移工装

[实用新型]一种晶圆端磨工装-CN202121265757.5有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： B24B7/16 文献下载
摘要：一种晶圆端磨工装，包括：底板，调节组件，设于底板的一端，端磨组件，设于底板，调节组件与端磨组件相互配合用于晶圆的端面抛光。本实用新型在晶圆加工中，能对晶圆的端面进行抛光操作，提高了晶圆端面抛光的质量和抛光的效果，同时能避免外来粉尘对晶圆的抛光造成影响，具有较强的实用性。
一种晶圆端磨工

[实用新型]一种基于双曝光刻蚀的高压斜坡场板用光刻版-CN202121147475.5有效
发明人：冯永;李健儿;冯艾城;李学良;胡仲波;唐毅;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于双曝光刻蚀的高压斜坡场板用光刻版，其由第一灰度光刻版和第二灰度光刻版组成；第一灰度光刻版、第二灰度光刻版上对应于斜坡场板的区域分别划分有均匀的面积均为S的n个边长为A的正方形栅格，在各个栅格中心对铬层开设有孔，对于第一灰度光刻版、第二灰度光刻版上的第m栅格，铬层分别开设有边长为Bm、Cm的正方形孔。采用本实用新型提供的灰度光刻版制备斜坡场板，能够简化工艺步骤，降低工艺难度和成本，使用较少的工艺步骤和成本实现斜坡场板制作，同时相对于一次曝光，双曝光能够增加对斜坡场板范围与梯度的选择。本实用新型属于半导体集成电路制造技术领域，适用于制作斜坡场板。
一种基于曝光刻蚀高压斜坡用光

[发明专利]一种晶圆端面精磨装置-CN202110634014.9有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种晶圆端面精磨装置，包括：支撑体、支撑组件、进料组件、转取组件、转移组件以及精磨组件。进料组件用于多个晶圆的放置，以及带动多个晶圆向内运动，转取组件用于夹持位于进料组件内的单片晶圆，并带动单片晶圆向转移组件运动，转移组件用于夹持被转取组件夹持的单片晶圆，并带动单片晶圆向精磨组件运动，以及用于单片晶圆的翻面，精磨组件用于多片晶圆的端面精磨。本发明方便进行晶圆的端面抛光操作，在进行晶圆的端面抛光中，方便进行晶圆的自动化进料，方便进行晶圆的自动化转移，方便进行晶圆的自动化翻转，方便进行晶圆的自动化放置，方便自动进行晶圆的端面磨抛操作，提高了晶圆端面抛光的自动化程度，提高了晶圆端面抛光的效率和质量。
一种端面装置

[发明专利]一种晶圆棒端切装置-CN202110638491.2有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：一种晶圆棒端切装置，包括：支撑组件、第一升降组件、后拉机构、第二升降机构、夹持机构、调节机构、端切机构、转动机构以及磨圆机构。本发明对晶圆棒进行加工时，方便进行晶圆棒的自动化转移，在晶圆棒材进行转移时，能对晶圆棒材进行稳定的夹持，提高了晶圆棒材转移的安全性，方便进行晶圆棒材的端部分切操作，同时能对晶圆板材的外壁进行粗磨，通过该装置可显著地提高晶圆棒材的加工效率，降低操作人员的工作强度，具有较强的实用性。
一种晶圆棒端切装置

[发明专利]一种用于晶圆打磨的装置-CN202110576501.4有效
发明人：李健儿;冯永;张正;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：一种用于晶圆打磨的装置，包括：独立安装的打磨机构以及驱动机构。打磨机构包括矩形框，矩形框底部设有下传动轴，下传动轴设有的支撑圆盘，矩形框顶部设有上传动轴，上传动轴滑动设有压紧圆盘，压紧圆盘转动设有连接盘，上传动轴与连接盘之间具有间隙，矩形框顶部向下设有一对伸缩气缸，伸缩气缸的推杆与连接盘相连。矩形框两侧均设有打磨轮组，打磨轮组包括下打磨片和上打磨片，分别用于打磨晶圆的上表面和下表面的边沿，下打磨片和上打磨片之间的间距可调，打磨轮组与下传动轴之间的间距可调。驱动机构包括转动轴，转动轴与下传动轴以及上传动轴之间采用同步带传动。用于不同厚度的晶圆打磨，具有良好的稳定性，夹持结构可有效避免晶圆打滑。
一种用于打磨装置

[实用新型]一种GPP二极管芯片玻璃钝化自动擦粉机-CN201821527443.6有效
发明人：李健儿;冯艾诚;冯永;颜英慧;胡仲波;鲜贵容 -专利权人：四川上特科技有限公司
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开一种GPP二极管芯片玻璃钝化自动擦粉机，该自动擦粉机包括自动传输系统、自动擦粉系统、物料回收系统以及真空及排风系统；该自动传输系统用于传输GPP二极管芯片的晶圆片，该自动擦粉系统能够在该晶圆片传输过程中，通过其内部的可调变速擦粉电机对该晶圆片的表面进行擦拭以清除该表面上的粉末，该真空及排风系统能够对擦拭清除得到的粉末进行吸附收集，而吸附收集后的粉末会被该物料回收系统进行回收处理，该自动擦粉机能够有效地避免人工擦粉所带来的不确定性，并且还能够防止粉末漂浮扩散对人体造成伤害和提高粉末的回收利用率。
自动擦粉机晶圆片物料回收系统自动传输系统玻璃钝化排风系统吸附擦拭本实用新型不确定性传输过程粉末漂浮回收处理变速有效地可调电机扩散传输回收伤害

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