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[发明专利]一种投影物镜波像差测量装置及测量方法-CN200910199109.1无效
发明人： 马明英;王帆 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-11-20 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种投影物镜波像差测量装置，该装置包括光源模块；物面基底，其底部具有物面标记面，物面标记面上具有物面标记；投影物镜，对物面标记面进行成像；像面基底，其上具有像面标记，对成像于其上的物面标记面上的物面标记的像进行衍射，经像面标记衍射产生的不同级次的衍射光在远场产生干涉条纹；图像探测器，接收并储存干涉条纹；其中，物面标记面上具有m行n列物面标记，且同一列不同行的标记在列方向上具有一固定位移，在物面标记面平面内还具有一移相位移。本发明还公开了该装置的测量方法。
一种投影物镜波像差测量装置测量方法

[发明专利]工件台坐标系参数测量方法-CN200910045250.6有效
发明人： 马明英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-01-13 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种光刻机的工件台坐标系参数测量方法，包括以下步骤：该工件台沿y向以步进距离y_s对标记进行步进曝光，在硅片上形成y向套刻标记；该工件台沿x向以步进距离x_s对标记进行步进曝光，在硅片上形成x向套刻标记；对硅片进行显影；测量x向和y向套刻标记的套刻误差；根据套刻误差计算出工件台坐标系的非正交性和比例缩放因子。本发明测量过程简单，测量时间短。套刻误差的测量精度高，提高了非正交性与缩放比例因子的测量精度。
工件坐标系参数测量方法

[发明专利]光刻机投影物镜波像差测量装置及方法-CN200810204975.0有效
发明人：李术新;王帆;马明英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-12-30 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种光刻机投影物镜波像差测量装置及方法。光刻机投影物镜波像差测量装置包括光源、照明系统、第一方向上的第一狭缝标记、第二方向上的第二狭缝标记、硅片、工件台、光学成像系统、波像差传感器系统以及干涉仪。本发明测试时间短、精度高，且利用光刻机曝光光源即可完成投影物镜波像差的在线检测。
光刻投影物镜波像差测量装置方法

[发明专利]高分辨率外差激光干涉系统及提高分辨率的方法-CN200810041261.2有效
发明人： 马明英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-07-31 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明提供一种高分辨率外差激光干涉系统及提高分辨率的方法，其包括：产生测量时使用的激光束，经过分光片，分成透射光和反射光，透射光经第三四分之一波片后射到可动平面反射镜上反射回第一测量光，反射光经第二四分之一波片后射到第二参考平面反射镜上反射回第一参考光，所述第一测量光和第一参考光经干涉仪的多次透射和反射，形成各自的出射光，出射光被信号处理单元接受，通过采用不同数量的角锥棱镜，控制测量光束在干涉仪与可动平面反射镜之间的往返次数，从而实现提高分辨率的目的。
高分辨率外差激光干涉系统提高分辨率方法

[发明专利]一种成像光学系统像差现场测量方法及装置-CN200810040855.1有效
发明人：王帆;段立峰;马明英;孙刚 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-07-22 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种成像光学系统像差现场测量方法及装置，通过测量特定掩模标记所成的光刻机投影物镜空间像，通过对光刻机投影物镜空间像进行分析得到投影物镜像差。本方法相对于现有方法可大幅提高测量速度，克服现有技术存在的像差的测定时间长的缺点。
一种成像光学系统现场测量方法装置

[发明专利]一种测量位移的外差干涉测量系统及其测量方法-CN200710173149.X有效
发明人： 马明英;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2007-12-26 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种测量位移的外差干涉测量系统和测量方法，测量系统包含工件台反射镜组和激光外差干涉仪；工件台反射镜组包含安装在工件台侧面上的与光轴平行的第一平面反射镜，与光轴成一定角度的第二平面反射镜；激光外差干涉仪包含偏振分光棱镜，角锥棱镜，与光轴成一定角度的参考平面反射镜，两个四分之一波片。测量方法是利用激光器通过偏振分光棱镜后产生的参考光束与测量光束分别经过多次反射与透射后进入到光电转换元件，处理得到光程差OPD，再得到工件台的z向位移Z。本发明不必使用安装在投影物镜两侧的平面反射镜，结构简单，同时使投影物镜在x方向不必增加额外的尺寸，由于减少了平面反射镜的使用数量，从而降低了测量系统的成本。
一种测量位移外差干涉系统及其测量方法

[发明专利]测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法-CN200610118708.2有效
发明人： 马明英;王向朝;王帆 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-11-24 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种测试标记，其包括密集线条标记，该测试标记形成在光刻机系统的掩模上，所述测试标记至少包括四个密集线条标记，且每个密集线条标记均由相邻的一个密集线条标记旋转90度得到。本发明还提供一种利用该标记检测光刻机成像质量的方法。与现有技术相比，本发明利用测试标记的线宽变化，实现了最佳焦面，像面倾斜，像散，球差等轴向像质参数的精确测量，同时，可检测最佳焦面，像面倾斜，像散和球差，且直接利用检测时得到的数据，通过最小二乘法计算得到光刻机轴向像质参数，克服了先前技术中无法检测球差与数据处理繁琐的不足。
测试标记利用检测光刻成像质量方法

[发明专利]移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法-CN200610116544.X有效
发明人： 马明英;王向朝;王帆 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-09-27 - 公布日： 2007-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种移相光栅标记，其包括密集线条标记，该移相光栅标记形成在光刻机系统的掩模上，所述移相光栅标记还包括线宽较小的精细型线条标记。本发明还提供一种利用移相光栅标记检测光刻机成像质量的方法，包括将掩模上的移相光栅标记通过光刻机系统曝光到基板上；所述的方法还包括如下步骤：检测曝光到基板上的移相光栅标记的成像位置偏移量；利用成像位置偏移量计算光刻机的垂轴成像质量参数。与现有技术相比，由于精细型线条标记线宽较小，使移相光栅标记的成像位置偏移量受投影物镜彗差影响更加明显。本发明克服了光刻机垂轴成像质量参数检测不全面的缺点，简化了光刻机垂轴成像质量的检测过程。
光栅标记利用检测光刻成像质量方法

[发明专利]用于投影物镜像差检测的测试标记、掩模及检测方法-CN200610116545.4有效
发明人： 马明英;王向朝;王帆 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-09-27 - 公布日： 2007-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于光刻机投影物镜像差检测的测试标记、具有该测试标记的掩模以及光刻机投影物镜像差现场检测的方法。现有的投影物镜像差检测方法存在无法检测高阶像差或检测算法过于复杂等问题。本发明的用于光刻机投影物镜像差检测的测试标记，包括一正方形的内部标记和围绕该内部标记两两正交排列的四组外部标记，其中，所述的每一组外部标记由至少两种不同线宽的线条按周期密集排列形成，且所述的四组外部标记的周期相同。采用本发明的测试标记、掩模及检测方法不仅能实现低阶像差与高阶像差的同时测量，而且检测过程和算法都比较简单，同时能达到较高的像差检测精度。
用于投影物镜检测测试标记方法

[发明专利]光刻机成像光学系统像差现场测量方法-CN200610025445.0有效
发明人：王帆;马明英;王向朝 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-04-04 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机成像光学系统像差现场测量方法，包括如下步骤：标定所述成像光学系统的灵敏度矩阵；将所述光源发出的光束经过所述照明系统调整后，照射于所述掩模；所述掩模选择性地透过一部分光线；这样透过的光线经过所述成像光学系统将掩模上的图案成像；通过改变所述成像光学系统出瞳面处的光强分布，测量得到多组所述空间像线宽，而后使用所述灵敏度矩阵计算各种高级像质参数。采用本发明测量方法可简化测试流程，提高像质参数测量精度，缩短测量时间。
光刻成像光学系统现场测量方法

[发明专利]光刻机投影物镜奇像差原位检测方法-CN200510026450.9无效
发明人： 马明英;王向朝 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2005-06-03 - 公布日： 2005-12-21 - 主分类号： G03F9/02 文献下载
摘要：一种光刻机投影物镜奇像差原位检测方法，该方法根据不同离焦量下测量得到的成像位置偏移量，实现了对奇像差中波前倾斜、彗差、三波差的同时精确测量。与在先技术相比，本发明基于离焦量的改变来检测奇像差，避免了对光刻机投影物镜多种不同的数值孔径、部分相干因子的优化工作，检测过程简单。由于灵敏度系数的变化范围增大，本发明方法提高了所述奇像差的检测精度。
光刻投影物镜奇像差原位检测方法

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