“马惠琪”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]催化用纳米二氧化硅溶胶颗粒的制备方法-CN202111222939.9有效
发明人： 马惠琪 -专利权人： 马惠琪
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： C01B33/141 文献下载
摘要：一种催化用纳米二氧化硅溶胶颗粒的制备方法，包括高纯硅溶胶水化液的制备、抗凝高纯硅溶胶水化液的制备、纳米二氧化硅溶胶颗粒混合液的制备、纳米二氧化硅溶胶颗粒悬浮液的制备、纳米二氧化硅溶胶冷冻颗粒的制备、以及纳米二氧化硅溶胶颗粒的制备等步骤。本发明通过对高纯硅溶胶的再次水化和特殊的抗凝处理，并创造性地运用了悬浮处理技术、喷雾冷冻技术和冻干升华技术，得到比表面积超高、且形貌均一、表面具有针状突起或凹凸点的粗糙表面的中空纳米微球所组成的胶体或粉末产品，为其作为吸附剂、催化剂或催化剂载体、催化剂粘合剂的应用提供了品质保证；本发明工艺稳定，生产过程不会对环境造成污染，产品性能优良，因此，极具推广和应用价值。
催化纳米二氧化硅溶胶颗粒制备方法

[发明专利]二氧化硅研磨抛光剂的制备方法-CN202111010321.6有效
发明人： 马惠琪 -专利权人： 马惠琪
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，包括了磨料晶种的制备步骤、高纯饱和硅溶胶液的制备步骤、沉积有疏松二氧化硅结晶颗粒的磨料晶核的制备步骤、以及包裹有硅溶胶层的磨料晶核混合乳剂的制备步骤。通过这些步骤，可以制得棱角钝化、表面具有疏松二氧化硅结晶颗粒的高硬度磨料晶核且磨料晶核上包裹有硅溶胶层的二氧化硅研磨抛光剂。本发明通过选择不同规格种类的磨料晶种，决定研磨抛光剂的切削能力；还可通过调节高纯饱和硅溶胶液中的二氧化硅质量百分比浓度和控制其沉积结晶条件及时间获得不同切削能力的二氧化硅结晶颗粒；且可通过控制二氧化硅结晶颗粒再次水化的条件和时间，得到包裹在磨料晶核外部作为润滑和填充物质的不同厚度的硅溶胶层。
二氧化硅研磨抛光制备方法

[发明专利]稳定获取指定粒度高纯硅溶胶的方法-CN202010768998.5有效
发明人： 马惠琪 -专利权人： 马惠琪
申请日： 2020-08-03 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： C01B33/141 文献下载
摘要：一种稳定获取指定粒度高纯硅溶胶的方法，是在硅酸钠粉末中加入蒸馏水制成硅酸钠溶液，再移置高压釜中，通入碱性气体并在气体隔离剂的保护下制得碱性硅酸钠水合物/缔合物，然后通过电泳分离得到去金属离子硅酸钠溶液，再通过分子筛分选器分选获得指定粒径范围段的硅溶胶液，然后对指定粒径范围段硅溶胶液进行闪蒸浓缩和脱气，获得指定粒径范围段硅溶胶浓缩液，再在气体隔离剂的保护下，强力搅拌、静止冷却、陈化和二次脱气，得到指定粒度高纯硅溶胶。本发明可稳定获取2～40nm粒径范围内无团聚的指定粒度高纯硅溶胶，且硅溶胶粒度可在2～40nm之间任意选择获取，其二氧化硅纯度＞99.99wt％，满足多种精密加工、生产和研发的需求。
稳定获取指定粒度高纯硅溶胶方法

[发明专利]研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法-CN202010837634.8在审
发明人： 马惠琪 -专利权人： 马惠琪
申请日： 2020-08-19 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法，包括了硅溶胶水合物的制备步骤、研磨晶体的重整步骤，研磨晶体的超细粉碎步骤、以及研磨抛光用高硬度硅溶胶的收获步骤，通过在高纯硅溶胶中通入气体隔离剂和气体润滑剂使其生成硅溶胶水合物，然后加入粒度为0.5～5微米的磨料晶种，在一定压力和温度下，使硅溶胶水合物中的部分二氧化硅胶粒结晶和重新结晶、磨料晶种产生部分溶化，从而实现研磨晶体的重整，然后，再通过超细粉碎、冷却脱气，最终获得研磨抛光用高硬度硅溶胶的。本发明工艺独特、稳定，可操作性强，产品能够满足多种需要，且生产过程中不会对环境造成污染，节能环保，在提供积极社会效益的同时，能为企业获取较好的经济效益。
研磨抛光硬度硅溶胶生产方法

1
共 4 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top