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[发明专利]铟锆硅氧化物靶材及其制法及铟锆硅氧化物薄膜-CN202110156495.7有效
发明人： 陈美涵;谢承谚;刘砚鸣 -专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C04B35/01 文献下载
摘要：本发明提供一种铟锆硅氧化物靶材，其包含硅酸锆结晶相及三氧化二铟结晶相。藉由控制铟锆硅氧化物靶材所包含的结晶相，可使铟锆硅氧化物靶材维持高相对密度并具有低于4×10‑3奥姆‑厘米的平均体电阻率，从而显著降低直流溅镀期间发生的电弧放电次数。本发明另提供上述铟锆硅氧化物靶材的制作方法，其是将硅酸锆粉末及三氧化二铟粉末于真空环境下利用热压烧结的方式制备铟锆硅氧化物靶材，借以防止铟锆硅氧化物靶材产生双硅酸二铟结晶相。本发明亦提供一种铟锆硅氧化物薄膜，其是利用本发明的铟锆硅氧化物靶材经直流溅镀法溅镀而成。
铟锆硅氧化物及其制法薄膜

[实用新型]一种基于低频电波的穴位刺激治疗服-CN202121961374.1有效
发明人：曹兆铭;张会君;陈美涵;罗宏;张璇 -专利权人：曹兆铭
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： A61N1/36 文献下载
摘要：本实用新型属于医疗设备领域，具体为一种基于低频电波的穴位刺激治疗服，该治疗服上设有监测设备，检测和观察穿着者的生命体征信息，所述治疗服上还设有对应人体穴位的电极片，接受监测设备根据检测的信息发送的低频脉冲电流，对人体穴位自动进行刺激，消除或缓解患者的病痛。本实用新型相比于传统穴位治疗设备具有实时监测、多病症结合治疗，操作方便易携带的优点；能够采用主动预防，自动干预和手动操作的多种方式对患者的不良反应进行干预治疗，而且具有安全、卫生、易清洁的特点，在居家或在医院都可以进行治疗。
一种基于低频电波穴位刺激治疗