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[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201880054960.2有效
发明人： 铃木祐辉;藤贵洋;三上贵弘;山口芳広;清水良 -专利权人： JSW阿克迪纳系统有限公司
申请日： 2018-02-16 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据一种实施方式的激光照射装置(1)包括用于产生激光的激光生成装置(14)以及用于浮起待施加所述激光的处理对象(16)的浮起单元(10)。所述浮起单元(10)包括第一区域和第二区域，所述第一和第二区域设置为使得在平面视角下，所述激光的焦点与所述第一区域重叠，且所述激光的焦点与所述第二区域不重叠。所述第二区域的表面部分由金属构件形成。
激光照射装置方法以及半导体器件制造

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201780053043.8有效
发明人：藤贵洋;铃木祐辉;三上贵弘;山口芳広 -专利权人： JSW阿克迪纳系统有限公司
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：一种实施方式的激光照射装置(1)在通过使用浮起单元(10)使工件(16)浮起的状态下传送该工件(16)的同时，以激光束(15)照射该工件(16)。该浮起单元(10)包括高精度浮起区域(11a，11b)和低精度浮起区域(13a～13j)。所述高精度浮起区域(11a，11b)设置为通过喷气和吸气使所述工件(16)浮起，而所述低精度浮起区域设置为通过喷气但不吸气的方式使所述工件(16)浮起。
激光照射装置方法以及半导体器件制造

[发明专利]激光照射装置-CN201780052577.9有效
发明人： 铃木祐辉 -专利权人： JSW阿克迪纳系统有限公司
申请日： 2017-06-07 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：在一种实施方式的激光照射装置(1)中，第一和第二浮起单元(30a，30b)中的每一个均包括底部(31)以及通过粘合层(34)粘合于底部(31)上表面的多孔板(32)，底部(31)包括在至少面向所述间隙的外周上向上突起的耸起部分(312)，多孔板(32)包括设置为与耸起部分(312)形状相配合的切口部分(321)，粘合层(34)沿与切口部分(321)形状相配合的耸起部分(312)的内壁形成。
激光照射装置

[发明专利]基板悬浮型激光处理装置和悬浮高度的测量方法-CN202010669196.9在审
发明人：林大介;三上贵弘;铃木祐辉 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及基板悬浮型激光处理装置和悬浮高度的测量方法。根据实施例的基板悬浮型激光处理装置包括：用于将基板悬浮和运送的台架；以及用于测量基板的悬浮高度H的悬浮高度测量装置。注意，悬浮高度测量装置与基板之间的距离可以根据所测量的悬浮高度H自动调节。基板的悬浮高度H是通过向基板和台架施加激光来测量的。悬浮高度测量装置与基板之间的距离通过使用反馈机制来调节，在该反馈机制中，将所测量的基板的悬浮高度用作输入。
悬浮激光处理装置高度测量方法

[发明专利]激光处理装置和半导体器件制造方法-CN201980016879.X在审
发明人： 铃木祐辉;山口芳広;藤贵洋;三上贵弘 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据一实施方式的激光处理装置(1)包括激光照射单元(20)和能够使基板(31)漂浮和运送的运送台(40)。运送台(40)包括：激光照射区域(50)，在该区域中，从激光照射单元(20)照射的激光(21)将基板(31)照射；基板运送区域(60)，其与激光照射区域(50)分开；其中，所述激光照射区域(50)的面对所述基板(31)的表面由第一部件构成，第一气体能够从所述第一部件喷出而使所述基板(31)漂浮；所述基板运送区域(60)的面对所述基板(31)的表面由多个第二部件构成，第二气体能够从所述第二部件喷出而使所述基板(31)漂浮；所述基板运送区域(60)中的所述多个第二部件彼此分开布置。
激光处理装置半导体器件制造方法

[发明专利]气体上浮工件支承装置及非接触工件支承方法-CN201680011950.1有效
发明人： 铃木祐辉;谷川贞夫 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2016-02-12 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： F16C32/06 文献下载
摘要：具有使气体向上方喷出的气体上方喷出部(2B)和位于所述气体上方喷出部(2B)的上方侧并使气体向下方喷出的气体下方喷出部(2A)，所述气体下方喷出部(2A)设置于，对于通过从所述气体上方喷出部(2B)喷出的所述气体进行上浮支承的板状工件(100)，使所述气体从所述板状工件(100)的上方向下方喷出从而施加压力的位置，在对板状工件进行上浮支承之际，能进行上浮量均匀并且高平面度地支承。
气体上浮工件支承装置接触方法

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201780055165.0在审
发明人：三上贵弘;藤贵洋;铃木祐辉;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据本发明一种实施方式的激光照射装置(1)具有：生成激光束的激光生成装置(14)；使待由所述激光束照射的工件(16)浮起的浮起单元(10)；以及对所述已浮起工件(16)进行传送的传送单元(11)。所述传送单元(11)在不与所述激光束的照射位置(15)交叠的位置处将所述工件(16)保持于其上的同时，对该工件(16)进行传送。采用本发明一种实施方式的激光照射装置(1)可减小激光束的不均匀照射。
激光照射装置激光束传送单元浮起传送半导体器件制造激光生成装置激光束照射浮起单元激光照射照射位置不均匀位置处减小交叠照射