专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]晶圆气锁装置及晶圆传送系统-CN202321553854.3有效
  • 刘江辉;许文泽;郭享 - 芯恩(青岛)集成电路有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-10-27 - H01L21/683
  • 本实用新型提供了一种晶圆气锁装置及晶圆传送系统,包括:腔体,腔体内部具有一中空腔室,腔体包括:进气口和排气口、晶圆基座、至少两根可伸缩支撑柱以及连接于排气口的抽气管路,进气口、排气口均与中空腔室连通;可伸缩支撑柱设在中空腔室内且支撑连接晶圆基座,至少两根可伸缩支撑柱沿晶圆基座的周缘均匀分布;排气口位于晶圆基座的下方且与晶圆基座的中心对齐;抽气管路中设有稳压机构,用于调整抽气管路的气流量。因排气口与晶圆基座的中心对齐,在抽气的过程中,气流从晶圆的周围流入位于晶圆下方的排气口,以更均匀、稳定地抽气。通过稳压机构调控抽气管路内的气流量,减少气流流量的剧烈变化,避免因颗粒扬起而使产品表面附着颗粒物。
  • 晶圆气锁装置传送系统
  • [发明专利]西格玛沟槽结构的制造方法及半导体器件的制造方法-CN202111142599.9在审
  • 聂上程;邱志鸿;郭享 - 芯恩(青岛)集成电路有限公司
  • 2021-09-28 - 2023-03-31 - H01L21/8238
  • 本发明提供一种西格玛沟槽结构的制造方法以及半导体器件的制造方法,采用热氧化法在栅极结构之间形成厚度极薄的氧化层,且所述氧化层在硅衬底中形成增厚层,刻蚀去除氧化层,在硅衬底中形成一凹槽,由于氧化层的厚度极薄,因此凹槽的深度极浅,对所述凹槽湿法刻蚀获得的西格玛沟槽的深度也极浅,后续形成的锗硅外延层的厚度较薄,有利于进一步提高半导体器件的响应速度;另外,在刻蚀去除氧化层的过程中选用高选择比刻蚀,使刻蚀过程停止在硅衬底表面,与现有技术中常用的通过控制刻蚀时间来结束刻蚀过程相比,该刻蚀方式能够在一个器件中获得多个深度均匀一致的西格玛沟槽,从而提高半导体器件的可靠性以及良品率。
  • 西格玛沟槽结构制造方法半导体器件
  • [实用新型]一种防辐射隔离器-CN202223235367.0有效
  • 赖德锋;郭享;陈其祥;杨开;唐伟 - 江苏先通分子影像科技有限公司;成都德力斯实业有限公司
  • 2022-12-02 - 2023-03-28 - G21F7/04
  • 本实用新型公开了一种防辐射隔离器,包括操作舱、屏蔽装置以及调压装置,操作舱成型为具有操作空腔的一舱室,操作舱具有送料口、送料门、操作口以及操作门,屏蔽装置部分覆盖设置于操作舱的外表面,调压装置与操作空腔连通,调压装置具有在与外接电源电性连接时,将操作空腔内的气体介质抽离并排向外界,以使操作空腔内气压低于外界气压的负压状态。此时操作空腔内不仅放射性气体含量下降,还会伴随着操作空腔内的气压下降,从而会使得设备外部的无放射性气体被吸入操作空腔中,无论是在操作口还是在排气口,都会形成由外向内的气流,气压差的形成阻碍了操作空腔内放射性气体的逸出,避免了操作人员与逸出的放射性气体接触后可能导致的危险。
  • 一种防辐射隔离器
  • [发明专利]余额计算方法及装置-CN202211271260.3在审
  • 李红艳;孙龙堂;王建梅;苏映惜;丁浩;郝玮;代丽;王敬月;刘晨旭;郭享;刘秀红;邢斌 - 中国银行股份有限公司
  • 2022-10-17 - 2023-01-13 - G06Q40/02
  • 本发明公开了一种余额计算方法及装置,涉及大数据,其中该方法包括:确定需计算支付交易后的余额的支付场景;根据支付场景在预先设定的若干场景模式中选择对应的场景模型,其中,所述场景模型根据支付交易要求,对账户上的可用资金,按照可用资金的类型,以及该类型下的支付方式、各支付方式的支付顺序进行设定,在输入场景参数后按设定进行支付计算,所述场景参数是标识可用资金、可用资金的类型、以及支付方式的参数;在场景参数输入后,按场景模型设定计算出支付交易后的余额。本发明可以提供一致的、高度参数化、可适应多种特殊场景的余额计算,可提高交付速度,降低开发难度和风险。
  • 余额计算方法装置
  • [发明专利]一种确保多系统多余额一致性的对账处理装置及方法-CN202211180162.9在审
  • 郭享 - 中国银行股份有限公司
  • 2022-09-27 - 2022-12-20 - G06Q40/02
  • 本发明提出了一种确保多系统多余额一致性的对账处理装置及方法,涉及金融数据处理技术领域,该装置包括:账户处理系统,用于管理活期账户的余额及备份的产品总金额,根据业务请求更新活期账户的余额及备份的产品总金额,在备份的产品总金额发生变更时,推送MQ消息至对账系统;产品信息系统,用于管理产品的关联信息,根据业务请求更新产品的关联信息;产品余额管理系统,用于接收产品信息系统及账户处理系统的余额变动消息,更新各个产品对应的余额,并推送MQ消息至对账系统;对账系统,用于接收账户处理系统及产品余额管理系统的MQ消息,根据MQ消息提取数据湖中变更的数据进行对账处理。
  • 一种确保系统多余一致性处理装置方法
  • [实用新型]一种盾构始发用的隧道支撑加固结构-CN202222135302.2有效
  • 王占生;金铭;郭享;申晓明;戴屹立 - 苏州市轨道交通集团有限公司
  • 2022-08-15 - 2022-11-29 - E21D9/06
  • 本实用新型公开了一种盾构始发用的隧道支撑加固结构,包括外加固体和内加固体,所述内加固体设置在外加固体的内侧,所述外加固体的外侧靠近底部位置固定安装有底座,所述内加固体的内侧固定安装有支撑板,所述支撑板的外表面固定安装有横向加固杆,所述横向加固杆与内加固体之间固定安装有纵向加固杆,所述纵向加固杆与横向加固杆的端头位置连接有加固斜杆,所述外加固体的内部嵌设有钢板层;本实用新型所述的一种盾构始发用的隧道支撑加固结构,能够在支撑结构的端头位置进行挡土,可以有效的防止隧道上方的泥土灰尘落到隧道的内部,方便将隧道上方落下的泥土灰尘进行集中收集,防止泥土灰尘在挡土的过程中出现堵塞的情况。
  • 一种盾构始发隧道支撑加固结构
  • [发明专利]刻蚀工艺的切换方法-CN202010840249.9有效
  • 郭享 - 上海华力微电子有限公司
  • 2020-08-18 - 2022-11-25 - H01L21/311
  • 本发明提供了一种刻蚀工艺的切换方法,根据所要刻蚀的介质层的介质材料的不同,划分成不同的刻蚀工艺,包括以下步骤:按照所要刻蚀的介质材料的介电常数值的由大到小,对所述刻蚀工艺进行顺次排序;按照所述刻蚀工艺的排序,在同一反应腔内依次实施所述刻蚀工艺;在所述刻蚀工艺进行切换时,增加一恢复工艺,用于清除所述反应腔内壁和静电吸盘表面上的副产物,并恢复所述反应腔的内环境。本发明可以减少不同刻蚀工艺进行切换时,清除所述反应腔内壁和静电吸盘表面上的副产物的难度。通过恢复工艺对反应腔的内环境进行恢复,不用更换反应腔内的部件,可以提高生产效率,并且减少不同刻蚀工艺切换的成本。
  • 刻蚀工艺切换方法
  • [实用新型]一种洗消一体设备-CN202220363962.3有效
  • 石小超;郭享 - 青岛海尔智慧厨房电器有限公司;海尔智家股份有限公司
  • 2022-02-23 - 2022-11-11 - A47L15/42
  • 本实用新型公开了一种洗消一体设备,包括用于对餐具进行杀菌的第一腔室和用于对餐具进行洗涤的第二腔室,第一腔室与第二腔室相连通,第一腔室和/或第二腔室设有杀菌组件,杀菌组件用于对第一腔室和第二腔室进行杀菌。本实用新型中,在第一腔室和/或第二腔室设置杀菌组件,第一腔室与第二腔室相连通,杀菌组件能够对第一腔室和第二腔室同时进行杀菌,从而同时对第一腔室的餐具和第二腔室的餐具进行杀菌,提高了洗消一体设备的杀菌效率。
  • 一种一体设备

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