专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种园林道路-CN202111187573.6有效
  • 胡祥斌;胡祥晓;谢胜林;郑安生;瞿福强 - 胡祥斌
  • 2021-10-12 - 2022-12-27 - E01C15/00
  • 本发明涉及园林技术领域,具体涉及一种园林道路,包括沿着道路通长方向设置的底座板和挡水板,平行底座板设置,并且一端与底座板转动连接,底座板宽度方向的两侧各转动连接有一块,锁定件,用于锁定挡水板垂直于底座板的状态,所述挡水板与底座板转动连接的轴线与道路的通长方向一致,并且挡水板与底座板连接处的内侧或外侧至少一侧设置有阻水层。本申请具有减少园林道路受积水影响导致的通行不便的效果。
  • 一种园林道路
  • [外观设计]全自动化蛋壳分离机-CN201730544700.1有效
  • 郑益;郑安生 - 郑益
  • 2017-11-07 - 2018-04-13 - 31-00
  • 1.本外观设计产品的名称全自动化蛋壳分离机。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于分离蛋清和蛋壳。3.本外观设计产品的设计要点产品的形状、图案及其结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片立体图。5.省略视图仰视图无设计要点,故省略。
  • 自动化蛋壳分离
  • [实用新型]香肠切花机-CN201720819915.4有效
  • 郑益;郑安生 - 郑益
  • 2017-07-07 - 2018-01-19 - B26D1/36
  • 本实用新型涉及食品机械设备技术领域,尤其涉及一种香肠切花机,包括机箱,机箱顶设有输送槽,输送槽的两端设有主动转辊和从动转辊,所述主动转辊和从动转辊上设置有输送带Ⅰ;机箱上设有固定架,固定架上设有主动刀辊和从动刀辊,固定架上设有输送带Ⅱ,主动刀辊的下端设有上切刀,从动刀辊的上端设有下切刀,上切刀与下切刀交错设置,固定架的出料端设有挡料板,挡料板倾斜向下;机箱下端设有电控箱,电控箱内设有延时继电器。该切花机通过伺服电机带动输送带和切刀转动,输送带在转辊上定位,防止输送带倾斜而导致间隙过大,香肠在两层输送带之间传送并被切刀进行切花,效率较高,切花均匀,减少人工成本,且出料和收料方便,实用性强。
  • 香肠切花
  • [外观设计]香肠切花机-CN201730296884.4有效
  • 郑益;郑安生 - 郑益
  • 2017-07-07 - 2018-01-19 - 31-00
  • 1.本外观设计产品的名称香肠切花机。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于对香肠切花。3.本外观设计产品的设计要点产品的图案、形状及其结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片立体图。5.省略视图仰视图无设计要点且为不常见视图,故省略。
  • 香肠切花
  • [实用新型]垂直法单晶生长用坩锅-CN201521067866.0有效
  • 郑安生;于洪国;刘春雷;马英俊;林泉;刘晓慧 - 有研光电新材料有限责任公司
  • 2015-12-21 - 2016-06-01 - C30B11/00
  • 本实用新型公开了一种垂直法单晶生长用坩锅,该坩锅自上向下依次为等径部分、放肩部分和籽晶腔部分,籽晶腔部分的下端封闭;等径部分和籽晶腔部分为圆柱形,放肩部分为锥形。所述籽晶腔部分长度为60±2mm,内径为16+0.1mm,壁厚为3±0.2mm;放肩部分长度为50±2mm,壁厚为3±0.2mm;等径部分长度为200±2mm,内径为106±2mm,壁厚为3±0.2mm。本实用新型在传统坩锅基础上进行了尺寸和结构形状的改进优化,可生长4英寸的单晶,有效降低了单晶的位错密度,提高了单晶质量,增加了单晶的有效利用率和合格率,降低了生产成本。
  • 垂直法单晶生长用坩锅
  • [发明专利]一种砷化镓晶体残料的直拉再利用方法-CN201110449935.4有效
  • 林泉;马英俊;张洁;李超;郑安生 - 北京有色金属研究总院;有研光电新材料有限责任公司
  • 2011-12-29 - 2013-07-03 - C30B29/42
  • 一种砷化镓晶体残料的直拉再利用方法,本方法包括:备料、装炉;抽真空、充气;升温化料;降温引晶;等径控制;收尾;出料等工序。本发明的优点是:由于本发明采用高压液封直拉法拉制出砷化镓晶体,极大地改善了砷化镓晶体残料的化学配比。同时,由于镓的氧化物密度小于砷化镓密度,在晶体生长过程中,镓的氧化物均分布在砷化镓晶体表面且呈突起状,因此通过简单的砂轮机打磨即可去除,可去除99%的氧化物。采用本发明处理砷化镓晶体残料,一个周期只需20小时,且不存在重复处理的问题,效率高操作简单。使得以前通常弃之不用的砷化镓残料重新投入拉晶,使砷化镓晶体残料的利用率达到95%以上。
  • 一种砷化镓晶体再利用方法
  • [发明专利]一种砷化镓单晶线切割基准面的加工方法-CN201110452091.9有效
  • 李超;林泉;郑安生;龙彪 - 北京有色金属研究总院;有研光电新材料有限责任公司
  • 2011-12-29 - 2013-07-03 - B28D5/04
  • 一种砷化镓单晶线切割基准面的加工方法,包括:(1)使用X射线衍射定向仪对晶体进行定向,定出<100>晶面;(2)使用内圆切片机切取<100>方向小面,将晶体固定在卡具上,调整晶体与刀片成45°夹角,开启切片机切取<100>面,作为固定割边基准面;(3)在晶体表面用丁字尺测绘出与<100>方向小面成90°夹角的<110>面,并用记号笔标记基准线;(4)将晶体固定于金刚石带锯割边机的卡具上,打开激光对刀功能,调整模拟割边路径,使激光对准基准线,启动带锯条调节进给速度,完成割边;(5)割边结束后,观察表面是否平整光滑进行细磨修正。该方法可以有效的保证晶体与石墨件连接处的平整度,提高切片晶向的准确性,同时在加工效率上比较手工磨平有大幅度的提高。
  • 一种砷化镓单晶线切割基准面加工方法
  • [实用新型]水平单晶切片用夹具-CN201220720552.6有效
  • 林泉;郑安生;龙彪 - 北京有色金属研究总院;有研光电新材料有限责任公司
  • 2012-12-24 - 2013-06-19 - B28D7/04
  • 一种水平单晶切片用夹具,它包括:固定部分、连接部分及夹头,所述的连接部分为一型钢,型钢一端与固定部分焊接,另一端与夹头焊接,所述夹具的夹头呈半圆形,夹头和连接部分的连接平面与连接部分的中心延长线方向夹角为51~57°,固定部分的另一侧中央设有螺孔,通过连接螺钉连接到工作台上。本实用新型的优点是:操作简单快速,在加工化合物半导体水平单晶(100)晶片或(100)面削面时,能有效解决内圆切片机加工转动角度不足的问题,省却石墨粘接步骤,提高加工效率,降低成本。
  • 水平切片夹具
  • [发明专利]一种锑化镓晶片双面抛光方法-CN201010622620.0无效
  • 李超;林泉;郑安生;龙彪;马锦伟 - 北京有色金属研究总院;有研光电新材料有限责任公司
  • 2010-12-29 - 2012-07-11 - B24B29/02
  • 一种锑化镓晶片双面抛光方法,它包括以下步骤:晶片测厚分组;晶片初次清洗;粘片;背面抛光;卸片;粘片及正面抛光;晶片二次清洗;将经过双面抛光的晶片放在用清洗液和纯水配制成体积比1∶(3~10)的溶液中用超声波清洗,清洗温度为50~100℃,清洗时间为10~30分钟,而后用纯水冲洗;化学腐蚀:用CH3COOH、H2O、HF以体积比(10~30)∶(5~15)∶1的比例配制成腐蚀液;检验包装。采用本方法可批量加工锑化镓(100)双面抛光片,方法简单实用,可操作性强,抛光成品率达到90%。同时缓解了锑化镓晶片抛光后氧化的问题。通过该方法抛光所得锑化镓抛光晶片翘曲度不大于20μm,晶面平整度不大于4μm,表面粗糙度达到0.1~0.2μm,晶片总厚度变化不大于5μm,抛光片未检测到沾污、雾、划道、颗粒、裂、橘皮、鸦爪等缺陷。
  • 一种锑化镓晶片双面抛光方法
  • [发明专利]一种磷化镓单晶的生长方法-CN201010622623.4无效
  • 林泉;马英俊;郑安生;俞斌才;张洁 - 北京有色金属研究总院;有研光电新材料有限责任公司
  • 2010-12-29 - 2012-07-04 - C30B27/02
  • 一种磷化镓单晶的生长方法,它包括以下步骤:备料,装炉,抽真空、充气,升温化料,籽晶熔接、引晶、放肩,浮针一脱,浮针二脱,等径控制,收尾,在备料工序,坩埚中放有磷化镓多晶、浮舟、掺杂剂以及氧化硼,所述的浮舟材料为氮化硅,浮舟的内径φ20~80mm,炉膛充氮气后的压力控制在1.0~5.0MPa(绝对压力)。本发明的优点是:由于本发明采用浮舟控制晶体直径,浮舟密度介于氧化硼和磷化镓之间,可以漂浮于磷化镓熔料面上,温度变化引起浮舟内固液界面上升或下降对直径影响较小,因此通过控制浮舟转速能较好控制晶体直径,生长出1~3英寸磷化镓单晶,提高单晶成品率,单晶结晶质量较高,电学参数如迁移率指标能稳定达到130~140cm2/v.s。
  • 一种磷化镓单晶生长方法

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