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[实用新型]工艺配件、多阴极处理腔室和工艺配件部件-CN202120006281.7有效
发明人：吴寒冰;阿南塔·K·萨布拉曼尼;阿希什·歌尔;迪帕克·贾达夫;汪荣军;程志康 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-05 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：公开用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件、多阴极处理腔室和用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件部件。工艺配件包括以下中的一个或多个：锥形屏蔽物、可旋转的屏蔽物、护罩、内部沉积环、外部沉积环或盖环。在一些实施方式中，工艺配件包括：可旋转的屏蔽物，可旋转的屏蔽物具有底座、锥形部分和套环部分，锥形部分从底座向下且向外延伸，套环部分从锥形部分向外延伸；内部沉积环，具有腿部分、平直部分、第一凹部与第一唇部，平直部分从腿部分向内延伸，第一凹部从平直部分向内延伸，第一唇部从第一凹部的最内区段向上延伸；和外部沉积环，具有套环部分、上平直部分、第二凹部与第二唇部，上平直部分在套环部分上方且从套环部分向内延伸，第二凹部从上平直部分向内延伸，第二唇部从第二凹部向上延伸。
工艺配件阴极处理部件

[发明专利]具有漏斗状气体分散通道及气体分配板的原子层沉积腔室-CN202110047033.1在审
发明人：穆罕默德·M·拉希德;斯里尼瓦斯·甘迪科塔;马里奥·丹·桑切斯;简国强;杨义雄;迪帕克·贾达夫;阿什托西·阿咖瓦 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-19 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本文提供用于处理基板的方法与设备。一些实施方式中，基板处理腔室包含：腔室主体；腔室盖组件，所述腔室盖组件具有外壳(housing)，所述外壳包围中央通道，所述中央通道沿着中央轴延伸并具有上部与下部；盖板，所述盖板耦接于所述外壳并具有含轮廓(contoured)的底表面，所述含轮廓的底表面从中央开口向下且向外延伸至所述盖板的周边部，所述中央开口耦接于所述中央通道的下部；以及气体分配板，所述气体分配板配置于所述盖板之下并具有多个缝隙(aperture)，这些缝隙穿过所述气体分配板而配置。
具有漏斗气体分散通道分配原子沉积

[发明专利]具有漏斗状气体分散通道及气体分配板的原子层沉积腔室-CN201680022766.7有效
发明人：穆罕默德·M·拉希德;斯里尼瓦斯·甘迪科塔;马里奥·丹·桑切斯;简国强;杨义雄;迪帕克·贾达夫;阿什托西·阿咖瓦 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-19 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本文提供用于处理基板的方法与设备。一些实施方式中，基板处理腔室包含：腔室主体；腔室盖组件，所述腔室盖组件具有外壳(housing)，所述外壳包围中央通道，所述中央通道沿着中央轴延伸并具有上部与下部；盖板，所述盖板耦接于所述外壳并具有含轮廓(contoured)的底表面，所述含轮廓的底表面从中央开口向下且向外延伸至所述盖板的周边部，所述中央开口耦接于所述中央通道的下部；以及气体分配板，所述气体分配板配置于所述盖板之下并具有多个缝隙(aperture)，这些缝隙穿过所述气体分配板而配置。
具有漏斗气体分散通道分配原子沉积

[其他]用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件、多阴极处理腔室和用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件部件-CN201890001014.7有效
发明人：吴寒冰;阿南塔·K·萨布拉曼尼;阿希什·歌尔;迪帕克·贾达夫;汪荣军;程志康 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-05 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：公开用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件、多阴极处理腔室和用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件部件。工艺配件包括以下中的一个或多个：锥形屏蔽物、可旋转的屏蔽物、护罩、内部沉积环、外部沉积环或盖环。在一些实施方式中，工艺配件包括：可旋转的屏蔽物，可旋转的屏蔽物具有底座、锥形部分和套环部分，锥形部分从底座向下且向外延伸，套环部分从锥形部分向外延伸；内部沉积环，具有腿部分、平直部分、第一凹部与第一唇部，平直部分从腿部分向内延伸，第一凹部从平直部分向内延伸，第一唇部从第一凹部的最内区段向上延伸；和外部沉积环，具有套环部分、上平直部分、第二凹部与第二唇部，上平直部分在套环部分上方且从套环部分向内延伸，第二凹部从上平直部分向内延伸，第二唇部从第二凹部向上延伸。
用于阴极处理腔室中使用工艺配件部件

[发明专利]具有多阴极的沉积系统及其制造方法-CN201580015595.0有效
发明人：阿纳塔·K·苏比玛尼;迪帕克·贾达夫;阿希什·戈埃尔;寒冰·吴;普拉沙斯·科斯努;慈航·清 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：一种沉积系统及操作所述沉积系统的方法，所述沉积系统包括：阴极；阴极下方的护罩；阴极下方的旋转屏蔽件，用于经由护罩及经由旋转屏蔽件的屏蔽孔暴露阴极；和旋转基座，用于产生材料以在旋转基座之上形成载体，其中所述材料具有小于材料厚度的1％的非均匀性限制，且所述阴极在阴极与载体之间具有一角度。
具有阴极沉积系统及其制造方法