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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于控制晶片晶边/边缘上的沉积的承载环设计-CN202310267317.0在审
发明人： 迈克尔·J·雅尼基;布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：提供了各种承载环设计和配置，以控制位于晶片正面和晶边边缘处的沉积量。虽然沉积是在晶片背面进行，而在晶片正面不期望沉积，但该承载环设计可控制在晶片的诸多位置处的沉积量。这些位置包含晶边的正面、边缘和背面以及晶片的正面和背面。承载环的边缘轮廓被设计以控制处理气体流、正面清扫气体流、以及等离子体效应。在一些设计中，添加通孔至承载环以控制气流。边缘轮廓以及添加的特征可以降低或消除在晶片正面以及晶边边缘处的沉积。
用于控制晶片边缘沉积承载设计

[发明专利]远程等离子体清洁(RPC)定向流设备-CN202180036241.X在审
发明人： 迈克尔·J·雅尼基;詹姆斯·弗里斯特·李 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：多种实施方案包含使用具有定向流设备的远程等离子体清洁系统的装置、系统和方法，以同时清洁用于半导体及相关领域的处理工具中的多个处理站。在一示例中，公开了一种用于在多站式处理室中执行远程等离子体清洁(RPC)的装置，其包含耦合在RPC反应器和处理室之间的RPC定向流设备。RPC定向流设备包含多个倾斜式气体导流区域，以将RPC反应器产生的至少自由基物质引导至多个处理站中的单独处理站。引入清洁气体导流枢纽将接收自由基物质并将该至少自由基物质大致均匀地分配至倾斜式气体导流区域中的每一者。还公开了其他的装置、系统和方法。
远程等离子体清洁 rpc 定向设备

[发明专利]用于控制晶片斜边/边缘上的沉积的喷头设计-CN202180031633.7在审
发明人： 迈克尔·J·雅尼基;布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种衬底处理系统包含喷头基座、承载环、喷头和RF源。喷头基座包含限定第一多个通孔的顶表面，该第一多个通孔被配置成输出等离子体气体混合物。该承载环被设置于该喷头基座的顶表面上以将衬底支撑于距该喷头基座的顶表面预定距离处。该喷头被设置于该承载环上方，且包含限定充气部的主体、位于该主体的面向衬底的表面上的凹陷区域和第二多个通孔，该第二多个通孔从该充气部延伸穿过该主体在该凹陷区域中的面向衬底的表面，以将清扫气体分散至衬底的顶表面上。该RF源被配置成在该衬底的底表面与该喷头基座的顶表面之间激励等离子体。
用于控制晶片斜边边缘沉积喷头设计

[发明专利]用于控制晶片晶边/边缘上的沉积的承载环设计-CN202180014110.1在审
发明人： 迈克尔·J·雅尼基;布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：提供了各种承载环设计和配置，以控制位于晶片正面和晶边边缘处的沉积量。虽然沉积是在晶片背面进行，而在晶片正面不期望沉积，但该承载环设计可控制在晶片的诸多位置处的沉积量。这些位置包含晶边的正面、边缘和背面以及晶片的正面和背面。承载环的边缘轮廓被设计以控制处理气体流、正面清扫气体流、以及等离子体效应。在一些设计中，添加通孔至承载环以控制气流。边缘轮廓以及添加的特征可以降低或消除在晶片正面以及晶边边缘处的沉积。
用于控制晶片边缘沉积承载设计

[发明专利]用于具有多个充气部及气体分配室的沉积工具的喷头-CN202080011969.2在审
发明人： 迈克尔·J·雅尼基;柯蒂斯·W·贝利 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-01-23 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种沉积工具包含处理室、用于在处理室内保持待处理衬底的衬底保持器、及具有用于将第一和/或第二气体和/或蒸气分配至处理室中的面板的喷头。喷头包含第一和第二充气部、各设置在面板的背侧后方的第一和第二室、以及都形成为穿过喷头的面板且分别与第一和第二室流体连通的第一和第二组孔。
用于具有充气气体分配沉积工具喷头

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