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[发明专利]一种高分辨率超长一维纳米图案制备方法-CN201710898222.3有效
发明人：边捷 -专利权人：边捷
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种高分辨率超长一维纳米图案制备方法，其特征是包括如下步骤：步骤1)在平整衬底(1)上交替沉积不可腐蚀纳米薄膜层(2)和可腐蚀纳米薄膜层(3)；步骤2)切开平整衬底(1)、不可腐蚀纳米薄膜层(2)和可腐蚀纳米薄膜层(3)，在断口选择性地对可腐蚀纳米薄膜层(3)进行腐蚀，使得其与不可腐蚀纳米薄膜层(2)之间形成落差。本发明方法可应用于高分辨率超长多种一维纳米图案的制备，且该方法制备分辨率高，工艺简单，能高效率，低成本地在多种功能材料表面制备一维纳米图案，能够很好的满足实际需求。
一种高分辨率超长纳米图案制备方法

[发明专利]光固化增材制造方法-CN202010731157.7有效
发明人：张伟华;边捷 -专利权人：南京大学
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： B29C64/124 文献下载
摘要：本发明涉及一种光固化增材制造方法，包括如下步骤：将光固化树脂分散于第一转移衬底上，得到第一墨片；将所述第一墨片以所述光固化树脂所在的表面与目标衬底贴合，以在所述第一转移衬底和所述目标衬底之间形成光固化树脂夹层；其中，所述第一转移衬底和所述目标衬底中的至少一个为能使光固化所用的光源透过的透光材质；自所述透光材质的衬底所在的一侧对所述光固化树脂夹层进行光固化，以形成光固化树脂薄膜；及除去所述第一转移衬底，在所述目标衬底上形成有光固化树脂薄膜。该光固化增材制造方法能够提高制造精度和扩展制造成品多样性。
光固化制造方法

[发明专利]一种超短焦距的双透镜显微系统-CN201910975310.8有效
发明人：张伟华;谢杭烽;边捷 -专利权人：南京大学
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G02B21/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种超短焦距的双透镜显微系统。该显微系统包括显微装置和手机，显微装置包括透镜组和光源，透镜组由两片凸面相对的平凸透镜组成；光源位于透镜组的下方，手机的镜头放置在透镜组的上方。本发明的显微装置具有放大倍数高、分辨率高、边缘畸变较小、成本低廉、小巧便携的优点，配合手机使用可以达到高质量的放大成像，在复杂情景下尤其是家居化诊疗方面，应用前景十分广阔。
一种超短焦距透镜显微系统

[发明专利]一种基于表面等离激元共振单元的偏振传感器及传感方法-CN201710852145.8有效
发明人：边捷;张伟华 -专利权人：南京大学
申请日： 2017-09-19 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于表面等离激元共振单元的偏振传感器及传感方法。该偏振传感器包括衬底和由表面等离激元共振单元构成的阵列，表面等离激元共振单元围绕阵列中心形成一圈或者多圈的同心圆；在同一个圆周上，等离激元共振单元的共振波长相同，且共振单元在360°的范围内均匀分布；对于多圈的同心圆阵列，从阵列内圈到外圈，等离激元共振单元的共振波长呈等差数列逐渐增大或减小。这种传感器通过成像设备来探测在单色偏振光照射下，传感器上等离激元共振单元阵列中发生共振的单元的位置，来实现入射光偏振方向的传感。本发明具有探测技术简单直观，灵敏度高且稳定性好，所需检测设备成本低等优点。
一种基于表面离激元共振单元偏振传感器传感方法

[发明专利]一种纳米结构的制造方法-CN201910474169.3在审
发明人：张伟华;鲁振达;满再琴;边捷;邢星 -专利权人：南京大学
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： B82B3/00 文献下载
摘要：本申请提供一种纳米结构的制造方法。该方法包括：根据预设的第一图案模板，在具有低表面能的衬底上写入电荷，以使衬底在写入电荷的区域产生化学改性，从而形成第一纳米图案，然后在第一纳米图案所在的区域引入第一纳米颗粒，进而形成第一纳米结构。由于衬底本身是具有低表面能的，而第一纳米图案是采用写入电荷的方式使得衬底表面产生化学改性，从而能够在衬底上形成具有高表面能的第一纳米图案。因此，第一纳米颗粒在高表面能的作用下，可以精确吸附在第一纳米图案所在的区域，而衬底上除第一纳米图案以外的区域的表面能较低，不会吸附第一纳米颗粒，也不会产生现有技术中的非特异性吸附的问题，使得所形成的第一纳米结构更加干净。
纳米图案衬底纳米结构纳米颗粒电荷写入低表面能化学改性高表面吸附非特异性吸附衬底表面图案模板表面能预设制造引入申请

[发明专利]一种基于纳米图案的等离基元折射率传感器的传感方法-CN201710149279.3有效
发明人：张伟华;边捷 -专利权人：南京大学
申请日： 2017-03-14 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于纳米图案的等离基元折射率传感器及其传感方法。该传感器是由一层等离基元纳米天线阵列和支撑该天线阵列的平整透明衬底组成，等离基元纳米天线阵列为周期性的阵列结构，其周期为50～1000纳米，厚度为10～100纳米；构成阵列结构的单个纳米天线的尺寸是按一定规律逐渐变化的，且变化范围为10～10000纳米。这种传感器通过成像设备来探测在单色光或白光源照射下，处在待测介质环境中的传感器上等离基元纳米天线阵列的亮度和色彩变化或是共振纳米天线位置的变化来实现介质折射率传感的。本发明具有探测技术简单，灵敏度高且稳定性好，所需检测设备成本低等优点。
一种基于纳米图案离基元折射率传感器及其传感方法

[发明专利]一种基于多孔薄膜的表面辅助激光解吸离子化质谱衬底-CN201711145237.9在审
发明人：张伟华;朱晶晶;边捷;高舒 -专利权人：南京大学
申请日： 2017-11-17 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于多孔薄膜的表面辅助激光解吸离子化质谱衬底，该衬底包括底部的纳米材料衬底和顶部的光吸收层。其中，纳米材料衬底为多孔氧化物薄板，光吸收层为亚波长厚度的多孔金属层；多孔氧化物薄板的孔径小于激发用的紫外激光器的波长，多孔氧化物薄板的孔壁厚度小于孔径。本发明的质谱衬底在脉冲激光的辐射下，其表面瞬间形成高温，并将能量有效转移至被分析物上，导致较高的解吸离子化效率，同时该技术所形成的碎片少，可达到对生化分子高效的“软离子化”。此外，由于该衬底无需加入任何有机基质材料，它在低质量区域不会产生背景干扰峰，从而可以实现低分子量物质的高效检测。
一种基于多孔薄膜表面辅助激光解吸离子化衬底

[发明专利]一种片状液相纳米颗粒制备方法-CN201610333421.5在审
发明人：边捷 -专利权人：边捷
申请日： 2016-05-17 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种片状液相纳米颗粒制备方法，包括如下步骤(1)在平整衬底上沉积可溶解的牺牲层薄膜材料；(2)再在牺牲层上沉积功能材料；(3)在功能材料层上沉积并制备聚合物材料的纳米图案；(4)以聚合物材料的纳米图案作为刻蚀掩模，利用刻蚀技术将纳米图案转移到下层的功能材料层上，再用刻蚀技术除去多余的聚合物材料；(5)利用合适的液体将牺牲层溶解，同时得到液相的片状功能材料纳米颗粒，颗粒形状与纳米图案一致。本发明方法可应用于制备任意图案的片状液相纳米颗粒，纳米颗粒可以是单层或多层不同材料组合而成；该方法制备工艺简单，可以高效率，低成本地制备最小尺寸为5纳米，最小厚度为0.1纳米且尺寸均一的液相片状纳米颗粒，能够很好的满足实际需求。
一种片状纳米颗粒制备方法

[发明专利]一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案的方法-CN201610209718.0在审
发明人：边捷 -专利权人：边捷
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案的方法，包括如下步骤(1)准备带有特定纳米图案的纳米压印模板；(2)在衬底上均匀涂覆一层含有纳米颗粒的纳米压印胶；(3)压印出与模板对应的纳米图案；(4)刻蚀掉压印胶残余层，得到独立的压印胶图案；(5)部分去掉压印胶，得到纳米颗粒的图案。本发明方法可应用于多种纳米颗粒的任意纳米图案的制备，且该方法制备分辨率高，工艺简单，能高效率，低成本大面积地在多种衬底上制备纳米颗粒图案，能够很好的满足实际需求。
一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案方法

[发明专利]一种硅的中红外抗反射微结构的制备方法-CN201710035968.1在审
发明人：吕春雨;边捷 -专利权人：南京大学
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅的中红外抗反射微结构的制备方法，包括以下步骤：首先通过绘图软件设计所需的刻蚀图案，然后在清洗过后的硅表面均匀涂覆一层紫外光刻胶，经过紫外曝光，通过显影液显影将绘图软件设计出来的图案转移到覆有光刻胶的硅片上，此时通过电子束蒸发的方法在此硅片上蒸镀一层金的薄膜，基于湿法刻蚀的原理，通过调节刻蚀时间和刻蚀液体的组份进行刻蚀深度的控制，得到高度可控的高深宽比的硅微米阵列结构。本发明所述的制备方法具有成本低，加工方便，刻蚀深度大且可控等优点，在硅的中红外抗反射领域具有广泛的应用前景。
一种红外反射微结构制备方法

[发明专利]一种微纳米尺度液体浸润形貌观测方法-CN201410046111.6有效
发明人：边捷;葛海雄;袁长胜;陈延峰 -专利权人：南京大学
申请日： 2014-02-10 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G01N13/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种微纳米尺度液体浸润形貌观测方法。该方法既可以用于紫外光固化的紫外胶液体，也可以用于与紫外胶不相溶的水滴。对于紫外胶液体可以采用双转移和紫外光固化的方法冻结并用扫描电子显微镜（SEM）观测液体形貌。而对于水滴则采用紫外胶液滴包裹冷凝水滴并用紫外光固化的方法来冻结水滴形貌并用SEM观测。根据本发明的观测方法，可以广泛应用于微纳米尺度各种固体微结构表面浸润性的研究。
一种纳米尺度液体浸润形貌观测方法

[发明专利]一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法-CN201310553963.X有效
发明人：边捷;袁长胜 -专利权人：无锡英普林纳米科技有限公司
申请日： 2013-11-08 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法。具体步骤：（1）硅纳米阵列制备工艺：利用匀胶机在硅衬底上依次均匀涂覆聚甲基丙烯酸甲酯层和紫外纳米压印胶层；利用紫外纳米压印复合软模板进行压印得到压印胶纳米阵列结构；利用反应离子刻蚀，暴露出硅衬底；在刻蚀后的样品表面镀一层铬，并用举离工艺得到铬纳米阵列结构；以铬纳米阵列结构为掩膜，利用反应离子刻蚀得到尖劈硅纳米结构即黑硅材料；（2）对刻蚀完成的黑硅材料进行氧气等离子的处理，并接着用氟硅烷试剂进行表面化学处理。本发明的制备方法能在硅衬底上得到具有自清洁功能的周期性纳米阵列结构的黑硅材料，可以广泛应用于高性能太阳能电池及光电效应器件的制备。
一种具有清洁功能材料制备方法

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