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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]发光二极管装置及其制造方法-CN201880060577.8有效
发明人：姜镇熙;姜智薰;赵晟佑 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：提供了一种发光二极管装置的制造方法。所述方法包括：在衬底上形成发光二极管；形成围绕所述发光二极管的侧表面的防漏光层；蚀刻所述衬底中与所述发光二极管相对应的区域；以及在所述蚀刻的区域中将波长转换材料结合到所述发光二极管的下部，其中所述波长转换材料包括半导体层，所述半导体层包括量子阱层。
发光二极管装置及其制造方法

[实用新型]显示装置-CN202220243213.7有效
发明人：韩舒引;柳哉荣;金玟志;郑泰铉;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：提供了一种显示装置。所述显示装置包括：显示面板，包括其中显示图像的表面和相对表面；以及聚合物膜层，设置在所述显示面板的所述相对表面上，其中所述聚合物膜层包括朝向所述显示面板凹陷的凹槽。
显示装置

[实用新型]虚设去除装置-CN202220251294.5有效
发明人：韩舒引;金玟志;郑泰铉;姜浩允;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：一种虚设去除装置包括：拾取器，拾取初步显示模块的虚设部分的点，并且在第一移动方向上移动，以将虚设部分的第一部分与初步显示模块分离；以及分离器，邻近于被分离的第一部分设置，并且在与第一移动方向交叉的第二移动方向移动，以从初步显示模块去除虚设部分的第二部分，并且虚设部分设置在初步显示模块的有效部分周围。
虚设去除装置

[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法-CN202210110921.8在审
发明人：韩舒引;柳哉荣;金玟志;郑泰铉;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：提供了一种显示装置和制造所述显示装置的方法。所述显示装置包括：显示面板，包括其中显示图像的表面和相对表面；以及聚合物膜层，设置在所述显示面板的所述相对表面上，其中所述聚合物膜层包括朝向所述显示面板凹陷的凹槽。
显示装置制造方法

[发明专利]虚设去除装置-CN202210116273.7在审
发明人：韩舒引;金玟志;郑泰铉;姜浩允;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：一种虚设去除装置包括：拾取器，拾取初步显示模块的虚设部分的点，并且在第一移动方向上移动，以将虚设部分的第一部分与初步显示模块分离；以及分离器，邻近于被分离的第一部分设置，并且在与第一移动方向交叉的第二移动方向移动，以从初步显示模块去除虚设部分的第二部分，并且虚设部分设置在初步显示模块的有效部分周围。
虚设去除装置

[发明专利]基底切割方法-CN202111292341.7在审
发明人：陆瑾宇;金茂显;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：一种基底切割方法，包括：准备第一基底，在所述第一基底中，彼此间隔开的多个第一有源区域和围绕所述第一有源区域的第一非有源区域限定在平面中；在所述第一基底上形成粘合层，其中，所述粘合层设置在所述第一有源区域内；设置第二基底，在所述第二基底中，彼此间隔开的多个第二有源区域和围绕所述第二有源区域的第二非有源区域限定在所述平面中；以及使用激光束沿着所述第二基底的切割线切割所述第二基底，所述切割线对应于所述第二有源区域与所述第二非有源区域之间的边界。所述粘合层不与所述第二基底的所述切割线重叠。
基底切割方法

[发明专利]一种研磨砂轮-CN201911075573.X有效
发明人：陈兴松;郑秉胄;赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B24D7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨砂轮，包括：环形基体；位于所述环形基体一端面的至少两圈砂轮齿，所述砂轮齿的底端通过粘接剂与所述环形基体固定连接，位于外圈的所述砂轮齿开设有贯穿其底端和顶端的排水孔，所述排水孔与所述环形基体内的排水通道相连通。根据本发明实施例的研磨砂轮，通过将砂轮齿直接固定在所述环形基体端面，无需在环形基体端面上开设沟槽，从而避免了砂轮齿嵌入沟槽部分无法使用的情况的发生，提高了砂轮齿的利用率，降低了生产加工成本；而且，由于在部分砂轮齿内开设了排水孔，增强了环形基体端面的冷却效果，使得设置两圈或多圈砂轮齿时同样满足冷却需求。
一种研磨砂轮

[发明专利]一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置-CN202011256546.5有效
发明人： 赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置；该方法可以包括：将新抛光垫粘贴至抛光机台的下定盘后，将符合设定硬度以及粗糙度材质制成的转换用晶圆置于抛光头的组装式吸附垫中；利用所述新抛光垫对所述转换用晶圆进行抛光作业；当所述新抛光垫对设定数目的转换用晶圆完成抛光作业后，所述新抛光垫的表面状态转变为亲水性状态。
一种抛光初始状态转变为亲水性方法装置

[发明专利]一种抛光垫的修整装置及修整方法-CN201910865033.5有效
发明人： 赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-09-09 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫的修整装置及修整方法，修整装置包括：修整器，所述修整器包括呈圆柱状的修整器主体以及开设于所述修整器主体的修整面上的修整槽，所述修整槽包括圆环形槽和位于所述圆环形槽围合区域内的十字槽，所述十字槽的四端均与所述圆环形槽连通。根据本发明实施例的修整装置及修整方法，通过在修整器的修正面上开设修整槽，可有效将抛光垫上残留的颗粒杂质进行刮除并改善抛光垫表面的平坦度，从而防止硅片在抛光过程中发生划伤、造成硅片报废的现象，确保了硅片的抛光质量。
一种抛光修整装置方法

[发明专利]一种抛光垫的修整器及修整方法-CN201911002359.1有效
发明人：郭宇轩;赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B24B53/12 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫的修整器及修整方法，所述修整器包括：修整臂，所述修整臂包括固定段和修整段，所述固定段竖向设置，所述修整段的一端与所述固定段的上端部连接，所述修整段在工作状态下处于与所述固定段互相垂直的第一位置，在非工作状态下处于与所述固定段共线的第二位置，所述修整段可在所述第一位置和所述第二位置之间切换；支撑臂，用于支撑所述修整段，所述修整段处于所述第一位置时其另一端支撑于所述支撑臂的上端部；修整体，所述修整体固定于所述修整段，用于修整抛光垫。根据本发明实施例的修整器，可以保证修整臂在修整过程中受到均布的载荷力，从而确保了修整体与抛光垫平行，提高了修整效果。
一种抛光修整方法

[发明专利]抛光垫及其制备方法、化学机械研磨设备-CN201911006629.6有效
发明人：郭宇轩;赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种抛光垫及其制备方法、化学机械研磨设备，属于半导体技术领域。抛光垫的制备方法包括：制备抛光垫过渡结构，所述抛光垫过渡结构形成有多个凹槽，所述多个凹槽的开口位于所述抛光垫过渡结构的同一侧表面；利用无机纳米粒子填充满所述抛光垫过渡结构的凹槽；在所述抛光垫过渡结构上浇筑液态聚合物与固化剂的混合物，抽去液态聚合物和所述凹槽内的空气；将所述抛光垫过渡结构置于高于等于第一温度阈值的环境中，固化后的液态聚合物与所述抛光垫过渡结构组成所述抛光垫。本发明能够降低抛光垫的热膨胀系数。
抛光及其制备方法化学机械研磨设备

[发明专利]研磨载具清洗装置及研磨载具清洗方法-CN202010268464.6有效
发明人：贺云鹏;赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2020-04-08 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： B24B55/06 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨载具清洗装置及研磨清洗方法，该研磨载具清洗装置包括：刷头，包括轮盘部分，轮盘部分的端面在周边区域分布有刷毛，在中心区域至少设有第一喷嘴和第二喷嘴，刷头上至少还设有第一流道和第二流道，第一喷嘴连通第一流道，第二喷嘴连通第二流道，第一喷嘴用于喷射第一压力的流体，第二喷嘴用于喷射第二压力的流体，第一压力小于或等于第二压力；移动机构，与刷头连接，用于在第一方向和第二方向上移动刷头，第一方向为垂直于刷头的端面的方向，第二方向为与刷头的端面平行的方向。本发明的硅片载具清洗装置及硅片载具清洗方法，能够有效、快速的去除研磨副产物，保证硅片载具表面平整度。
研磨清洗装置方法

[发明专利]线切割清洁装置及线切割系统-CN201911192832.7有效
发明人：郭宇轩;赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种线切割清洁装置，应用于包括走线单元和切割单元的线切割系统，所述线切割清洁装置包括第一砂浆供给单元、清洗液供给单元和控制单元，其中，所述控制单元分别电连接所述第一砂浆供给单元和所述清洗液供给单元，用于控制所述第一砂浆供给单元在从所述走线单元向所述切割单元移动的切割线上供给砂浆，并且控制所述清洗液供给单元在从所述切割单元向所述走线单元移动的切割线上供给清洗液。还公开了一种线切割系统，包括走线单元、切割单元以及一个或更多个线切割清洁装置。该线切割清洁装置能够对返回走线单元的切割线进行清洁，能够有效防止砂浆等杂质对走线单元中的绕线轮和轮轴造成污染和损伤。
切割清洁装置系统

[实用新型]一种最终抛光设备-CN202022835880.8有效
发明人： 赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种最终抛光设备，所述设备包括：抛光台、设置在抛光台上表面的抛光垫、设置于所述抛光台下方的驱动轴、设置在所述抛光台的上方空间的抛光头和喷嘴；其中，所述喷嘴朝向所述抛光台上的抛光垫喷洒抛光液，并且喷洒范围至少覆盖所述抛光垫的中心位置至所述抛光垫边缘的区域。
一种最终抛光设备

[发明专利]显示装置-CN202110066326.4在审
发明人：金泰彰;金敏燮;朴彰珉;赵晟佑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-19 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开涉及一种显示装置。该显示装置包括：第一非折叠区域、第二非折叠区域和折叠区域；显示构件，包括显示模块；支承层，设置为支承显示构件；粘合层，设置在显示构件和支承层之间；以及补偿层，附接到粘合层并且与折叠区域重叠。
显示装置

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