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[发明专利]一种ZnS红外窗口减反微结构表面的制备方法-CN201810620095.5有效
发明人：李阳平;陈勇;范思苓;林文瑾 -专利权人：西北工业大学
申请日： 2018-06-15 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种ZnS红外窗口减反微结构表面的制备方法，依次经过ZnS基底清洗、Al膜层制备/高分子膜层涂布、Al膜层或高分子膜层中制备微孔结构阵列、等离子体刻蚀和去除膜层。该方法首先在ZnS表面制备Al膜层或高分子膜层(PMMA或光刻胶)，然后采用超快脉冲激光直写技术在膜层中制备微孔阵列，最后采用等离子体刻蚀技术把膜层中的图形刻蚀到ZnS基底上，去除膜层后即可获得具有增透效果的减反微结构表面。该方法具有工艺稳定性及可控性高，可在大面积基底上制备几何尺寸匀称、排列整齐的微孔整列。
一种 zns 红外窗口微结构表面制备方法

[发明专利]金属互连结构的形成方法-CN202211203122.1在审
发明人： 范思苓;倪立华;蔡毅;许隽;吴坚;周军 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本申请公开了一种金属互连结构的形成方法，包括：在第一介质层上形成第二介质层，第一介质层中形成有第一金属连线；在第二介质层中形成通孔，通孔底部的第一金属连线暴露；形成粘附层，粘附层包括钛层；在粘附层表面形成氮化钛层；在氮化钛层表面形成阻挡层；在阻挡层表面形成第一金属层，第一金属层与第一金属连线的构成材料不同；进行平坦化，去除通孔外的粘附层、氮化钛层、阻挡层和第一金属层，通孔内的粘附层、粘附层表面的氮化钛层、阻挡层和第一金属层形成接触孔。本申请通过在接触孔最外侧的粘附层形成后，在粘附层表面形成氮化钛层，因此能够阻挡后续工艺中的氯元素穿透粘附层与其下方的第一金属连线发生反应。
金属互连结构形成方法

[发明专利]脱气工艺方法和金属硬掩膜层的制造方法-CN201911407812.7在审
发明人： 范思苓;倪立华;许隽 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种脱气工艺方法，包括：步骤一、提供表面上形成有需脱气的前层介质膜层的晶圆；步骤二、将脱气腔体中的晶圆承载台加热到设定温度；步骤三、将晶圆放置到脱气腔体中的位于上位置的所述顶针上；步骤四、在上位置对晶圆进行预热；步骤五、将顶针移动到下位置将预热结束后的晶圆放置到晶圆承载台上并对晶圆进行脱气处理。本发明还公开了一种金属硬掩膜层的制造方法。本发明能避免在脱气过程中晶圆快速升温到设定温度时所产生的前层介质膜层的剥离缺陷，从而能提高产品的良率。
脱气工艺方法金属硬掩膜层制造