专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于OAM单像素波前探测的空间信息传输装置及方法-CN202310939646.5在审
  • 王东;路雨欣;高泽芳;何鹏;翟爱平;赵文静 - 太原理工大学
  • 2023-07-28 - 2023-10-24 - G01V8/10
  • 本发明属于单像素成像技术与空间光通信交叉领域,在现有的基于OAM信息传输技术中,需要较复杂的复用或键控技术和OAM光束解调技术,增加了通信系统的复杂性。本发明提供一种基于OAM单像素波前探测的空间信息传输装置及方法,利用不同类型的调制基对待传输目标信息以空间二维形式编码,依次发送到自由空间,结合单像素波前探测原理实现空间信息传输。与现有技术相比,本发明的发送端不需要额外的复用技术或键控技术,接收端不需要OAM光束解调技术,传输装置简单,且调制基也能够根据实际需要灵活选择而不仅仅局限于OAM模式,能够实现在复杂环境中的信息传输,具有可宽波段工作等优点,为空间信息传输提供了一种全新的技术方案。
  • 基于oam像素探测空间信息传输装置方法
  • [发明专利]单像素OAM模间共路干涉方法-CN202310355828.8在审
  • 王东;高磊;何鹏;翟爱平;赵文静 - 太原理工大学
  • 2023-04-06 - 2023-08-11 - G01J9/02
  • 一种单像素OAM模间共路干涉方法,以0阶OAM基模作为参考分量并进行必要的相移,以包括0阶OAM基模在内的其他阶OAM模式作为调制基,对未知光场的波前进行采样,配置空间波前成像的分辨率M×N,单像素成像的采样率s,移相步数φ,从OAM模式种类中任选其一作为对目标空间波前成像的调制基;计算生成s×M×N个分辨率为M×N的OAM调制模式,生成分辨率为M×N的所选OAM模式0阶基模;对生成的0阶OAM基模按照移相步数进行多步移相;对步骤2中生成的s×M×N个OAM模式分别叠加移相后的0阶OAM基模,使两种模式发生模间干涉,产生最终的调制模式。
  • 像素oam模间共路干涉方法
  • [发明专利]基于散斑关联性实现非侵入式大视场成像的方法-CN202310291994.6在审
  • 王东;汪旭东;赵文静;翟爱平 - 太原理工大学
  • 2023-03-23 - 2023-07-18 - H04N23/698
  • 本发明属于光学散射成像技术领域,当使用基于光学记忆效应的方法来实现透过散射介质成像时,一旦成像目标大小超出记忆效应范围,通常会导致成像失败,从而限制成像系统的视场。本发明提出一种直接利用关联性来扩大视场的方法,直接利用子目标Oi的散斑自相关及子目标Oi与子目标Oi+1的散斑互相关计算子目标图像O’i与O’i+1之间的相对位置,确定子目标图像O’i与O’i+1之间相对位置的移位向量,利用散斑之间的关联性确定子目标图像O’i的正确翻转方向,避免预估成像系统的点扩散函数PSF,从而提高效率。当目标大小超出光学记忆效应范围时,使用所提出的方法,更高效地实现透过散射介质的非侵入式大视场成像。
  • 基于关联性实现侵入视场成像方法
  • [发明专利]一种透过散射介质非侵入式大视场成像方法及装置-CN202211446193.4在审
  • 王东;张腾;赵文静;翟爱平 - 太原理工大学
  • 2022-11-18 - 2023-03-07 - G02B27/00
  • 本发明属于光学散射成像技术领域,基于光学记忆效应实现透过散射介质成像时,当成像目标超出记忆效应范围时,通常会导致成像失败,从而限制其成像视场。本发明提出一种基于PSF预估及相关运算实现透过散射介质非侵入式大视场成像方法及装置,当目标过大超出记忆效应范围时,利用相位恢复算法重建隐藏在散射介质的目标O的子目标Oi的图像,基于点扩散函数预估及自相关与互相关运算,获得所有子目标的方位,根据方位对子目标进行图像拼接,实现非侵入式大视场成像;本发明还能够超出记忆效应范围进行非侵入式大视场超分辨成像,能够同时兼顾成像视场与成像分辨率。在生物医学成像和光学显微成像等领域有广泛应用。
  • 一种透过散射介质侵入视场成像方法装置
  • [发明专利]一种耐强光的陶瓷纳米结构增强型4H-SiC基光功率计-CN202210707094.0在审
  • 耿路路;崔艳霞;翟爱平;李国辉 - 太原理工大学
  • 2022-06-21 - 2022-09-23 - G01J1/42
  • 本发明公开了一种耐强光陶瓷纳米结构增强型4H‑SiC基全光谱光功率计。该装置是以陶瓷纳米结构增强型碳化硅基光电探头(1)为核心,集成了电流测量模块(2)、控制/通信/运算/显示模块(3)与电源模块(4),构成一款耐强光全光谱光功率计。该装置中的光电探头在已有贵金属纳米结构增强型碳化硅基光电探测器设计中,使用热容系数更高、熔点更高的氮化钛陶瓷纳米结构来代替贵金属纳米结构,可降低器件在强光照射之后引起的温升,避免器件在光照温升后造成的纳米结构熔化与损坏,保障器件在强光照射下能正常工作。本专利提供的光功率计是基于内光电发射效应制成的,较之光伏效应制成的光功率计能耐受更强的光,较之热敏电阻效应制成的光功率计具有更快的测量速度。
  • 一种强光陶瓷纳米结构增强sic功率
  • [发明专利]一种自适应采样的单像素成像方法-CN202010715801.1有效
  • 王东;徐灿文;翟爱平;赵文静 - 太原理工大学
  • 2020-07-23 - 2022-09-09 - G06T3/40
  • 本发明属于单像素成像技术领域;目前压缩成像的方法需要对已知的目标场景多次尝试不同的采样率进行成像后,选取合适的采样率,更换场景后采样率不一定仍是最合适的,无法兼顾成像质量和效率;本发明提供一种自适应采样的单像素成像方法,对不同的目标场景进行自适应采样的单像素成像,在具有能量集中和稀疏性的变换域,实时检测成像时变换域上每条频带的离散程度以及离散程度变化的趋势,根据变化趋势确定是否停止采样,减少测量数和内存的占用量,自适应性更强,达到同时兼顾成像时间和成像质量的要求。
  • 一种自适应采样像素成像方法
  • [发明专利]相控阵共路干涉单像素探测实现空间波前传感装置与方法-CN202210586682.3在审
  • 王东;高磊;赵文静;翟爱平 - 太原理工大学
  • 2022-05-27 - 2022-08-30 - G01J1/44
  • 本发明属于空间波前测量与单像素成像交叉领域。目前的单像素成像技术实现波前传感存在复杂、稳定性差、损失成像分辨率且降低光利用效率等缺陷,导致复场成像性能不高。本发明提供一种相控阵共路干涉单像素探测实现空间波前传感的装置与方法,利用相控阵的结构特征和纯相位调制特性,并结合单像素探测技术,灵活调节干涉中信号光与参考光的强度比例,实现波前复振幅更高性能的测量。本发明装置简单、稳定性高,成像分辨率显著提高,且具有光能利用效率高、灵活方便、结构简单优点,适合于宽光谱、尤其是阵列探测器昂贵或尚不存在情形下的波前复振幅测量,在定量相位显微成像、自适应光学、透过散射介质成像、量子光场测量等领域具有广阔应用前景。
  • 相控阵干涉像素探测实现空间传感装置方法

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