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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]外槽液位指示型的化学处理槽-CN02150619.1无效
  • 董萱盛;简欣达;李瑞评 - 矽统科技股份有限公司
  • 2002-11-05 - 2004-05-26 - G01F23/02
  • 一种外槽液位指示型的化学处理槽，在外槽增加一连通导管装置，使化学处理槽中的化学处理液可流通至连通导管装置中。借由连通管原理，连通导管装置中化学处理液的液面高度，会与化学处理槽中的化学处理液液面高度相同。因此，利用目视方式即可由本发明的透明连通导管装置中，观测出化学处理液的液面高度。如此一来，当氮气液面传感器感应到氮气异常状况时，即可利用目测方式省略现有复杂的化学处理液液面检查步骤，以提高机台的生产时间并节省化学品的使用量。
  • 外槽液位指示化学处理
  • [发明专利]湿式洗净装置-CN02124439.1无效
  • 简欣达;董萱盛;陈静远 - 矽统科技股份有限公司
  • 2002-06-26 - 2003-12-31 - H01L21/302
  • 本发明为一种湿式洗净装置，适用于复数晶圆的化学洗净，其至少包括：用以对该等晶圆进行第一洗净程序的复数第一化学洗净槽；用以对该等晶圆进行第二洗净程序的复数第二化学洗净槽；一交接槽，作为该等晶圆在该等第一及第二化学洗净槽之间的交接区，其具有一在完成该第一洗净程序之后测量该等晶圆的第一测量装置；一测量槽，具有一在完成该第二洗净程序之后测量该等晶圆的第二测量装置；一用以在该等第一化学洗净槽及该交接槽之间载入、载出及传送该等晶圆的第一传送装置；以及一用以在该交接槽、该等第二化学洗净槽及该测量槽之间载入、载出及传送该等晶圆的第二传送装置；本发明通过一交接槽来作为测量槽，无须进行第二洗净程序的晶圆进行测量，如此可减少作业时间进而提高生产能力。
  • 洗净装置
  •  1 
  • 共 3 条
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