专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]对比度增强的光学叠堆-CN200780011541.2无效
  • 菲利普·E·沃森;理查德·C·艾伦 - 3M创新有限公司
  • 2007-03-29 - 2009-04-15 - G02B5/30
  • 本发明公开一种光学薄膜叠堆,所述光学薄膜叠堆包括:线性吸收型偏振层,其具有第一偏振透光轴;线性反射型偏振层,其具有与所述第一偏振透光轴大致平行的第二偏振透光轴;以及延迟层,其具有80纳米或者更大的面外延迟值,或者具有10纳米或者更大的面内延迟值和大于0.6乘以所述面内延迟值所得的乘积的面外延迟值。所述延迟层设置在所述线性吸收型偏振器层和所述线性反射型偏振层之间。本发明还公开了包括该光学薄膜叠堆的液晶显示器和使用该光学薄膜叠堆提高液晶显示器的轴上对比度的方法。
  • 对比度增强光学
  • [发明专利]偏振UV曝光系统-CN200580018091.0无效
  • 杰佛瑞·L·所罗门;迈克尔·C·利;理查德·C·艾伦 - 3M创新有限公司
  • 2005-04-20 - 2007-05-30 - G02F1/1337
  • 一种曝光系统,其用来使由各向异性吸收分子形成的取向层曝光,以允许对连续施加的液晶聚合物(LCP)分子进行取向。入射在该取向层上的光是偏振光。当使用单个偏振器时,该偏振光在带有取向层的基板的横向上的方位角偏振方向会发生改变。可以采用减少该方位角偏振变化的各种方法,包括引入各种类型的偏振旋转减少元件以及选择合适的光源倾斜角。此外,反射结构还可以插入在所述光源和所述取向层之间。使用插入在光源和偏振器之间的反射结构增加了入射在所述取向层上的总光量,并且还可减少偏振旋转。
  • 偏振uv曝光系统

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