“王乃雷”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种纳米薄膜成形机-CN202320011684.X有效
发明人：任斌;王乃雷;梁飞虎 -专利权人：江苏籽硕科技有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种纳米薄膜成形机，其包括：底座、箱体和真空泵Ⅰ，所述箱体内顶部固定连接有升降杆，所述升降杆一端固定连接有正极板，所述正极板下方固定连接有真空吸盘，所述真空吸盘下方吸附有镀膜板，所述箱体内侧壁两边固定连接有离子源，所述箱体内底部固定连接有三块磁块，三块所述磁块按照N端、S端和N端朝向依次摆放，所述磁块上方固定连接有水冷板，所述水冷板上方设有负极板，所述负极板上设有靶材，所述水冷板下方设有进水口和出水口，所述箱体外侧固定连接有真空装置。通过上述结构，在镀膜板和靶材之间增加一个电磁场，增加成膜速度，在靶材下方设置冷却装置降温可长时间工作。
一种纳米薄膜成形

[发明专利]一种等离子体增强化学气相沉积设备-CN202211577691.2在审
发明人：任斌;王乃雷;梁飞虎 -专利权人：江苏籽硕科技有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体增强化学气相沉积设备，涉及太阳能电池镀膜技术领域。该等离子体增强化学气相沉积设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有沉积室，所述沉积室的顶部固定连接有第一电极板，所述沉积室的底部固定连接有第二电极板，所述第二电极板的顶部放置有托盘；所述托盘的内部设置有滑槽，并且滑槽的内部设置有滑动连接有挡板，所述挡板的内壁上固定连接有横向侧板与纵向侧板。通过设置滑槽、挡板、放置腔、挤压板、滑杆、顶紧弹簧、固定板和阻挡块，当工作人员需要对太阳能电池进行翻面时，工作人员用手下压挡板，使挡板进入滑槽内并且将太阳能电池从放置腔内移出，方便工作人员对太阳能电池进行翻面。
一种等离子体增强化学沉积设备

[发明专利]一种化学气相淀积装置及其调节方法-CN202310007797.7在审
发明人：任斌;王乃雷;刘军贤 -专利权人：江苏籽硕科技有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C23C16/515 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相淀积装置及其调节方法，涉及化学气相淀积领域。该基于化学气相淀积装置，包括底座和工作台，所述底座的上方固定连接有工作台，所述工作台的上方中部固定连接有淀积室，所述工作台的上方一端固定连接有第一原料室，所述工作台的上方远离第一原料室的一端固定连接有第二原料室，所述工作台的上方靠近第二原料室的一端固定连接有控制台，所述淀积室的两端中部均固定连接有保温管，两个所述保温管的中部均设置有控制阀。通过在淀积室设置对称的原料室进行原料气供应，加速原料气的扩散效率，提高了原料气的供应均匀度，便于后续激光辅助淀积，提高了加工效率。
一种化学气相淀积装置及其调节方法

[发明专利]一种可增加等离子密度的ICP等离子体刻蚀设备-CN202110748459.X在审
发明人：任斌;王乃雷 -专利权人：江苏籽硕科技有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种可增加等离子密度的ICP等离子体刻蚀设备，涉及半导体制造技术领域，所述卡块的内壁固定连接有滑块，所述转块的表面开设有螺旋槽，所述滑块与所述螺旋槽滑动连接，所述机体的内壁设置有用于对所述基片进行遮挡的遮挡机构。本发明具备了通过螺旋槽的设置，使基片可以进行旋转，使得离子体可较为均匀的在基片的表面进行轰击，刻蚀效果更佳，同时配合吹风部件和换热部件对氮气散热法没有散发完成的热量，进行再次散热，且通过将挡板先旋转，再进行横移，使得不仅可对基片进行遮挡，同时挡板在运动的过程中，不会占据较多的空间，具备实用性更佳的效果。
一种可增加等离子密度 icp 等离子体刻蚀设备

1
共 4 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top