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[发明专利]基板输送臂-CN200910204420.0无效
发明人：冈本英树;美浓部猛;泷浦博文 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2009-09-25 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： B25J18/00 文献下载
摘要：本发明涉及基板输送臂，在将弯曲的印刷基板载置在工件台时，防止吸附用的真空在基板、工件台、基板之间泄漏，工件台能够吸附保持基板。输送臂(10)通过吸附衬垫(1)利用真空吸附将基板保持并输送，载置于工件台上并利用真空吸附进行保持。在输送臂(10)的设置有吸附衬垫(1)的一侧，设有比吸附衬垫(1)短的板簧(4)等弹性构件。板簧(4)被设置成比吸附衬垫(1)的前端缩回。保持基板的输送臂(10)在工件台之上下降时，板簧(4)将基板弯曲部分朝工件台的方向推压。因此，基板被矫正成平面，来自基板周边部的吸附用真空不会泄漏，基板被吸附保持在工件台。
输送

[发明专利]带状工件的两面投影曝光装置-CN200410047570.2无效
发明人： 泷浦博文;后藤学 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2004-05-24 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种两面投影曝光装置，能够在带状工件的两面同时曝光图形，即使工件在曝光中热膨胀也不产生模糊或偏斜。将从开卷滚(1)放出的带状工件(W)送入曝光部(5)，在曝光中，利用第1张力赋予机构(11)、第2张力赋予机构(未图示)，向传送方向和与其垂直的方向，施加假设的热膨胀程度的张力，在该状态下，将其保持在工件保持机构(6)。然后，检测掩模(M1)和带状工件(W)的表面的定位标记，进行位置对合。位置对合结束后，借助掩模(M1、M2)和投影透镜(31、32)，从光照射部(41、42)照射曝光用光，同时曝光带状工件W的表面和背面。
带状工件两面投影曝光装置