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[发明专利]一种微光夜视兼容滤光膜的制备方法-CN202310790308.X在审
发明人：唐乾隆;査家明;李斯成;汶韬;陆丹枫;颜刘兵;石成 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种微光夜视兼容滤光膜的制备方法，所述制备方法得到的夜视兼容滤光膜中包括主膜系和辅助膜系，在不改变夜视兼容滤光膜透射光谱性能的前提下，将夜视兼容滤光膜分解成主膜系和辅助膜系，在透镜的两个表面分别镀制，降低膜层厚度相对灵敏度，便于制备。确定膜系基本结构为：主膜系滤光膜/基材/辅助膜系滤光膜，其中所述基材是K9、ZF88等玻璃材料，所述主膜系滤光膜、辅助膜系滤光膜中采用高折射率膜层Ta2O5和低折射率膜层SiO2交替成膜制备而成。对夜视兼容滤光膜的主膜系设计进行结构创新。主膜系结构采用两个腔层的F‑P结构+长波通结构在一个膜系中实现。
一种微光兼容滤光制备方法

[发明专利]一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜及制备方法-CN202011310042.7有效
发明人：陆丹枫;李斯成;唐乾隆;査家明;汶韬 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜及制备方法，属于光学薄膜技术领域。主要是用磁控溅射镀制方法，摒弃常规高效减反膜使用硬度低的氟化镱、硫化锌等软膜材料，而是使用氧化钇、氧化钛、氧化铝等硬质氧化物保护膜，经过设计优化形成能用于硫化锌基地的可见、微光、红外共窗口高强减反膜。该膜系能够在0.4um～0.75um，1.57um波段范围内反射率5％，在7.4um～10.7um范围内透过率大于92％，且膜层表面质量、牢固性良好，能抗GJB2485‑95中规定的摩擦试验、GJB150A‑2009中规定的温度、湿热、盐雾等试验要求。
一种基于磁控溅射可见红外窗口减反射膜制备方法

[发明专利]一种基于磁控溅射的非常规折射率混合薄膜制备方法-CN201911147803.9有效
发明人：陆丹枫;唐乾隆;査家明;李斯成;汶韬 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种基于磁控溅射的非常规折射率混合薄膜制备方法，属于光学薄膜技术领域。本发明中非常规折射率混合材料使用脉冲直流磁控溅射沉积，具体为使用阴极共同溅射钽、硅靶材，在同一腔室中利用射频离子源离化氧气，使其共同在基底表面反应成膜。因磁控溅射技术制备的薄膜较热蒸发而言具有更加致密的结构，因此其耐久性与稳定性优于热蒸发沉积的膜层。
一种基于磁控溅射常规折射率混合薄膜制备方法

[发明专利]一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法-CN202011228817.6有效
发明人：唐乾隆;査家明;李斯成;汶韬;陆丹枫;颜刘兵;石成 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明公开一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜的制备方法，属于光学薄膜技术领域。利用横跨可见光、近红外光、中波红外波段的多层减反射膜设计理论，结合高折射率基底上多层减反射膜的设计理论，插入增强结合力的匹配层设计，采用非λ/4膜系、非对称等效层实现与基底的折射率匹配。利用离子源发射的高密度氧离子对薄膜进一步氧化，同时利用高能氩离子和氧离子对基板进行预处理。一方面改善基板与膜层界面处的机构特性，使结合层增加基底与TiO2之间的键合力；另一方面，可以将镀膜过程中产生的附着力差的节瘤缺陷在生长之前有效地去除膜层更致密，同时减小TiO2和SiO2之间的应力影响，提高膜层的牢固性、抗湿热性、抗盐雾的性能。
一种基于 zns 基底波段耐盐雾减反射膜及其制备方法

[发明专利]一种基于磁控溅射的外反射铝膜制备方法及铝镜-CN201910901900.6在审
发明人：唐乾隆;査家明;李斯成;陆丹枫;许会华;汶韬 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种基于磁控溅射的外反射铝膜制备方法及铝镜，属于光学薄膜技术领域。在基板上依次采用脉冲直流磁控溅射沉积形成铝膜层、隔离层、混合保护层、增反层和外层防护层。隔离层为通过铝靶溅射铝层与O₂离化反应沉积形成的Al₂O₃。混合保护层为通过硅靶溅射硅层与O₂离化反应沉积形成的SiO_x；增反层为通过金属钽靶溅射与O₂离化反应沉积形成的Ta₂O₅；外层防护层为通过硅靶溅射硅层与O₂离化反应沉积形成的SiO₂。溅射过程中控制不同的O₂充入，运用RF离子源进行氧化，在基板上完成整个膜的系镀制，能够在450nm～750nm&1000nm～3000nm范围内实现反射率≥90％、在3000nm～12000nm范围内实现反射率≥95％，且膜层表面质量、牢固性良好，能抗摩擦，长时间湿热、盐雾等试验要求。
反应沉积溅射离化混合保护层反射率防护层隔离层硅靶硅层基板光学薄膜技术领域磁控溅射沉积磁控溅射反射铝膜脉冲直流膜层表面试验要求靶溅射金属钽抗摩擦牢固性离子源铝膜层镀制铝靶铝层铝镜湿热盐雾制备

[发明专利]一种基于磁控溅射的外反射银膜制备方法-CN201910231923.0在审
发明人：唐乾隆;査家明;李斯成;陆丹枫;汶韬 -专利权人：江苏北方湖光光电有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种基于磁控溅射的外反射银膜制备方法，属于光学薄膜技术领域。本发明的方法通过在基板与银膜之间加入“结合层”—NiCrN_x，镀后再溅射镀制Ag膜，Ag膜镀制后再溅射镀制“结合层”—NiCrN_x，然后再溅射镀制“防水层”—SiN_x，最后再溅射镀制可见波段的“增反层”。能够在450nm～750nm&1540nm范围内实现反射率≥95％、在7000nm～11000nm范围内实现反射率≥98％，且膜层表面质量、牢固性良好，能抗摩擦、湿热、盐雾等试验要求。
镀制溅射银膜磁控溅射反射率结合层反射制备光学薄膜技术领域可见波段膜层表面试验要求防水层抗摩擦牢固性基板湿热盐雾

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