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[发明专利]透明电极形成用光固化性树脂组合物以及透明电极的制造方法-CN200910215566.5有效
发明人： 植松照博;桃泽绫;高木利哉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：本发明提供在形成PDP、SED等的透明电极时能够防止光晕的影响的透明电极形成用光固化性树脂组合物，以及使用了该组合物的透明电极的制造方法。本发明的透明电极形成用光固化性树脂组合物包含：对360nm波长的光的透过率不足80％的光聚合引发剂(a)、具有酸基的树脂(b)、具有乙烯性不饱和基团的单体(c)、以及实质性透过300～355nm波长的光且实质性吸收360～400nm波长的光的光吸收剂(d)。
透明电极形成用光固化树脂组合以及制造方法

[发明专利]感光性树脂组合物以及被蚀刻基体的制造方法-CN200910215323.1无效
发明人： 植松照博;桃泽绫;高木利哉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物兼具充分的耐药品性和良好的剥离性、并且用于得到与基材上的金属膜之间显示良好粘合性的树脂图案，以及提供一种使用了这种树脂图案的被蚀刻基体的制造方法。本发明的感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂(A)；三官能以上的多官能单体(B)；含氮单官能单体(C)；光聚合引发剂(D)。
感光性树脂组合以及蚀刻基体制造方法

[发明专利]被蚀刻基体的制造方法以及感光性树脂组合物-CN200910215325.0有效
发明人：高木利哉;植松照博;桃泽绫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2010-06-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种被蚀刻基体的制造方法，该被蚀刻基体具有酸性和碱性条件下的耐蚀刻性，并且将在蚀刻工序结束后能够用碱性剥离液剥离的树脂图案作为掩模。本发明的被蚀刻基体的制造方法包括：在基体上形成感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行选择性曝光、显影以形成树脂图案的工序；将上述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对上述基体进行选择性蚀刻的工序；使用50～80℃的碱性剥离液对上述树脂图案进行剥离的工序。上述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂。
蚀刻基体制造方法以及感光性树脂组合

[发明专利]感光性树脂组合物及密封剂-CN200910171181.3有效
发明人：高木利哉;植松照博;桃泽绫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-09-07 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供兼具优异的氢氟酸耐性和浸透性的感光性树脂组合物及密封剂。本发明的感光性树脂组合物包含：末端(甲基)丙烯酸酯低聚物(A)、选自下式(1)表示的单体(b1)以及下式(2)表示的单体(b2)中的1种以上的单体(B)、光聚合引发剂(C)。[化1](式中，A表示具有环状酰胺基或者环状酰亚胺基、且它们的氮原子与式(1)中的残基结合的基团；R¹、R¹’、以及R²独立地表示氢原子或者甲基；a和b独立地表示1～3的整数)。[化2](式中，R³表示氢原子或者甲基；B表示单键、或者碳原子数为1～5的亚烷基；R⁴表示将单环式或者多环式环内酯化合物的碳原子上结合的1个氢原子除去所形成的残基)。
感光性树脂组合密封剂

[发明专利]光刻胶膜卷材及其制造方法-CN200680021965.2有效
发明人： 植松照博;高桥亨;斋藤宏二 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-05-26 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供光刻胶膜卷材及其制造方法，该光刻胶膜卷材在感光性树脂层具有流动性且柔软的情况下可以防止冷流，在感光性树脂层硬的情况下可以抑制切断时产生碎片。光刻胶膜卷材中，按照感光性树脂层(2)的宽度小于支持膜(1a)的宽度的形式进行涂布，并且按照感光性树脂层(2)的宽度小于保护膜(1b)的宽度的形式进行粘接。
光刻胶膜卷材及其制造方法

[发明专利]感光性树脂组合物和使用它的感光性干膜-CN200580039942.X有效
发明人： 植松照博;胜又直也 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-11-22 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物和感光性干膜，其感光度和稳定性优异，并在掩蔽强度、分辨率和电镀非污染性方面具有良好平衡。这种感光性树脂组合物包括碱溶性树脂(A)、光聚合化合物(B)和光聚合引发剂(C)，其中聚合引发剂(C)包括作为必须成分的六芳基二咪唑类化合物(C1)和多官能硫醇化合物(C2)。所述感光性干膜在支持膜上至少具有由所述感光性树脂组合物形成的感光性树脂层。
感光性树脂组合使用

[发明专利]光敏树脂组合物及使用该组合物的光敏干膜-CN200580036258.6无效
发明人： 植松照博;胜又直也 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-10-19 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： G03F7/032 文献下载
摘要：本发明提供了对h－射线高度灵敏并且抗蚀剂图案分辨率优异的、用于h－射线曝光的光敏树脂组合物、以及使用它们的光敏干膜。光敏树脂组合物由如下组成：碱可溶的树脂(A)，其在含羧基的丙烯酸类共聚物的羧基部分中具有包含脂环族环氧基团的不饱和化合物，并且具有1,000－100,000的重均分子量；烯键式不饱和化合物(B)；和光聚合引发剂(C)，其至少包括一种在405nm波长下光吸收系数为1或更大的光聚合引发剂(C1)作为主要组分。
光敏树脂组合使用