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[发明专利]用于在衬底选择侧上沉积的PECVD沉积系统-CN202210991402.7在审
发明人：法亚兹·谢赫;尼克·林佰格;柯蒂斯·贝利 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：提供了一种等离子体处理系统。该系统包含室、控制器、及设置于该室中的喷淋头。第一气体歧管连接至该喷淋头以用于响应来自该控制器的控制而从第一气体源提供第一气体。喷淋器‑基座设置于该室中并定位于该喷淋头的对侧。第二气体歧管连接至该喷淋器‑基座以用于响应来自该控制器的控制而从第二气体源提供第二气体。提供用于以与该喷淋器‑基座成间隔开的关系保持衬底的衬底支撑件。提供用于将功率提供给该喷淋头以产生等离子体的射频(RF)电源。等离子体用于在该衬底存在于该室中时在该衬底的背侧上沉积膜。在背侧沉积期间，该衬底由该衬底支撑件以与该喷淋器‑基座成间隔开的关系保持。该喷淋头在背侧沉积期间提供清扫气体。
用于衬底选择沉积 pecvd 系统

[发明专利]用于在衬底选择侧上沉积的PECVD沉积系统-CN201880055786.3有效
发明人：法亚兹·谢赫;尼克·林佰格;柯蒂斯·贝利 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：提供了一种等离子体处理系统。该系统包含室、控制器、及设置于该室中的喷淋头。第一气体歧管连接至该喷淋头以用于响应来自该控制器的控制而从第一气体源提供第一气体。喷淋器‑基座设置于该室中并定位于该喷淋头的对侧。第二气体歧管连接至该喷淋器‑基座以用于响应来自该控制器的控制而从第二气体源提供第二气体。提供用于以与该喷淋器‑基座成间隔开的关系保持衬底的衬底支撑件。提供用于将功率提供给该喷淋头以产生等离子体的射频(RF)电源。等离子体用于在该衬底存在于该室中时在该衬底的背侧上沉积膜。在背侧沉积期间，该衬底由该衬底支撑件以与该喷淋器‑基座成间隔开的关系保持。该喷淋头在背侧沉积期间提供清扫气体。
用于衬底选择沉积 pecvd 系统

[发明专利]具有抗等离子涂层的高功率低压紫外线灯泡-CN201780080124.7在审
发明人：陈晓澜;马修·穆卓尔;柯蒂斯·贝利;史蒂芬·劳;米切尔·拉马尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： H01J61/20 文献下载
摘要：紫外线(UV)灯泡的外壳包括UV透射材料管，其配置成在管的内表面上包含UV发光材料和抗等离子涂层，其中涂层已经通过原子层沉积(ALD)沉积并且是唯一附着在管的内表面的材料。管可以是具有圆形形状的环形管并且涂层可以是ALD氧化铝涂层。UV透射材料可包括石英或熔融二氧化硅并且管可具有约1至约2mm的壁厚。涂层可具有不大于约200nm(如约120nm至160nm)的厚度。圆形管可形成圆环形状，其可以具有约200mm的外径并且管本身可具有约30mm的外径。ALD氧化铝涂层可以是无针孔的保形涂层。包括外壳的UV灯泡可含有汞和惰性气体，如氩气，其中UV灯泡内的压强低于100托。一种在半导体衬底上固化膜的方法，其包括将半导体衬底支撑在固化室中并将半导体衬底上的层暴露于由UV灯泡产生的UV辐射。其他用途包含半导体衬底表面清洁或对流体和物体的灭菌。
灯泡半导体等离子涂层氧化铝涂层透射材料内表面衬底半导体衬底表面压强针孔熔融二氧化硅低压紫外线原子层沉积氩气保形涂层衬底支撑惰性气体发光材料圆环形状圆形形状高功率固化膜固化室环形管圆形管灭菌紫外线壁厚附着流体石英沉积清洁暴露配置

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