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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于反射光罩的薄膜及其制造方法-CN202210315677.9在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种用于反射光罩的薄膜及其制造方法，用于反射光罩的薄膜包括框架、具有前表面及后表面且设置在框架上方的芯层、设置在芯层的前表面上的第一覆盖层、设置在第一覆盖层上的抗反射层、设置在抗反射层上的阻障层及设置在阻障层上的热发射层。
用于反射光薄膜及其制造方法

[发明专利]微影系统和标线片结构及其制造方法-CN202110069426.2在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-19 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种微影系统和标线片结构及其制造方法，标线片结构包含具有图案化特征的标线片和围绕图案化特征的第一边界部分。标线片结构包含薄膜，此薄膜具有中间部分和围绕中间部分的第二边界部分。标线片结构包含设置在薄膜和标线片之间的框架，以将薄膜安装在标线片的图案化特征上。框架在标线片和薄膜之间建立了一个封闭空间，并包围了标线片的图案化特征。框架包含多个孔，并且多个孔在框架中产生开口的临界百分比，以将封闭空间与封闭空间外部之间的平衡压力差维持在临界压力以下。
系统标线结构及其制造方法

[发明专利]护膜、半导体装置及其制造方法-CN202011057752.3在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G03F1/22 文献下载
摘要：揭示一种用于极紫外线微影系统的坚固、高透射的护膜、半导体装置及其制造方法。在一个实施例中，本揭示内容提供一种护膜，包括膜状物以及支持膜状物的框架。膜状物可由透明的碳基膜及透明的硅基膜中的至少一者形成。透明的碳基膜及透明的硅基膜中的至少一者可进一步涂布保护壳。框架可包括至少一孔隙以允许空气流经过护膜的一部分。
护膜半导体装置及其制造方法

[发明专利]极紫外光遮罩-CN202010808040.4在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：一种极紫外光遮罩，包括基板、在基板上的反射多层结构、在反射多层结构上的接着层、在接着层上的封盖层及在封盖层上的图案化吸收层。封盖层包括非晶形导电材料。
紫外光

[发明专利]微影装置、安装光罩保护膜的方法及晶圆的制造方法-CN202010741816.5在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本揭露提供一种微影装置、安装光罩保护膜的方法及晶圆的制造方法，半导体微影制程的装置包含定义要被转移的电路图案的光罩。装置还包含包括形成在第一表面内的图案的光罩保护膜，其中光罩保护膜的第一表面是贴附至光罩。装置亦包含设置在光罩及第一表面之间的粘着材料层。图案可包含多个毛细管。每一个毛细管在第一表面的平面内具有约1μm至约500μm的尺寸。每一个毛细管的深度对宽度的比例是大于或等于约100。粘着材料层包括粘着剂，且粘着剂的玻璃转化温度(Tg)是大于室温。
装置安装保护膜方法制造

[发明专利]用于极紫外光微影制程的光罩-CN201910444603.3在审
发明人： 林雲躍 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种用于极紫外光微影制程的光罩包含多层堆叠、覆盖层、吸收层以及边界层。多层堆叠包含多层金属层和多层半导体层交替设置在光罩基板的第一表面上。覆盖层设置于多层堆叠的上方。影像图案形成在吸收层中且吸收层设置于覆盖层的上方。边界层环绕影像图案且设置于吸收层的上方。
用于紫外光微影制程

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