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- [发明专利]一种薄层石墨烯制备装置和方法-CN202311061717.2在审
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骞伟中;崔超婕;李博凡;于翔
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清华大学
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2023-08-22
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2023-10-20
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C01B32/184
- 本发明提供一种薄层石墨烯制备装置和方法,该装置包括高温熔融金属池和气体喷射装置,该方法利用低温气体射流的方式,借助气体喷射装置在高温熔融金属池的液态熔融金属中形成具有一定高度的气柱,使高温熔融金属与气态烃类反应生成的裂解产物(金属碳化物)跟气柱相接触,低温气体射流制造的气柱使石墨烯获得析出的条件和空间。这比将高温熔融金属引出进行冷却再返回的装置简单且更加安全,可以节省成本30%‑50%,所得产品比表面积大,结晶度高,层数少(1‑3层),且制备成本低,过程可以连续操作;并且,由于高速气体射流,在熔融金属池中形成了气柱区,同时可制备具有大的长径比的石墨烯纳米带。
- 一种薄层石墨制备装置方法
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