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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]真空腔-CN201220201550.6有效
  • 朴宇钟;朴希侦 - 丽佳达普株式会社
  • 2012-05-07 - 2012-12-26 - H01L21/67
  • 本实用新型涉及的真空腔包括：外壳，具有用于收容或移送被处理体的空间；排气槽，形成在所述外壳的内侧面上；排气孔，形成在所述排气槽的一面上，并贯穿所述外壳；以及排气泵，与所述排气孔连接，用于排出所述外壳内部的气体。本实用新型可降低腔体的制造成本且提高排气效率。
  • 空腔
  • [实用新型]等离子体处理设备-CN201220130291.2有效
  • 朴希侦 - 丽佳达普株式会社
  • 2012-03-30 - 2012-12-26 - H01J37/32
  • 本实用新型涉及一种等离子体处理设备，所述设备包括：腔室，形成执行等离子体工艺的处理空间，且包括开口，通过该开口能够将衬底运入所述处理空间或从所述处理空间中取出；第一封盖部件，被安装成覆盖所述开口的内周表面，以防止所述内周表面被等离子体蚀刻，且所述第一封盖部件被分成多个单元；以及第二封盖部件，被安装成覆盖所述腔室的一侧的内壁以及所述第一封盖部件朝向所述腔室的内侧方向形成的表面。采用该结构，可以容易地修复和替换易受等离子体蚀刻损害的部分，以便于可以提高等离子体处理设备的耐用性。此外，能够最小化执行等离子体工艺的处理空间的变形，由此使得衬底具有均匀的性质。
  • 等离子体处理设备
  •  1 
  • 共 4 条
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