“朱美萍”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果105个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基于类三明治结构界面和复合材料的二向色镜及其制备方法-CN202010876602.9有效
发明人： 朱美萍;刘天宝;李静平;李大伟;刘晓凤;赵元安;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：一种基于类三明治结构界面和复合材料的二向色镜及其制备方法。利用电子束蒸发技术同时沉积折射率大于1.8的材料A和光学带隙大于6.0eV的材料B形成复合材料取代常规二向色镜薄膜中的单一高折射率材料作为高折射率膜层H，利用单一低折射率材料C作为低折射率膜层L；通过控制材料A、材料B和材料C的沉积速率，在高折射率膜层和低折射率膜层间形成类三明治结构的过渡界面，该过渡界面结构为A+B渐变材料层|A|A+C渐变材料层。本发明将高折射率膜层和低折射率膜层界面设计为类三明治结构的过渡界面，在不影响薄膜光谱性能的前提下提升二向色镜的界面结合力和激光损伤阈值等性能。
基于三明治结构界面复合材料及其制备方法

[发明专利]复合功能色散镜结构-CN202010729510.8有效
发明人：王胭脂;张宇晖;陈瑞溢;王志皓;朱美萍;朱晔新;赵娇玲;邵宇川;易葵;贺洪波;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：复合功能色散镜结构，其中色散镜结构由下到上依次为基底、增透结构单元、色散补偿结构单元，其中增透结构单元包括增透腔和第一高反层，色散补偿结构单元包括G‑T腔和第二高反层，基本表达式：G/[(HxL)^m(HL)^a]^p[(HyL)^n(HL)^b]^q。本发明通过增透结构单元取代标准镜的高反射膜层，G‑T腔与增透腔形成串联形式，调节G‑T腔和增透腔的周期数以及腔厚度，设计不同色散量、反射率以及带宽的高色散镜，并且作为谐振腔的输出镜，能够在实现泵浦波长高透的同时，在激光响应波段保持一定的反射率且具备色散补偿功能，结构更加简单紧凑。
复合功能色散结构

[发明专利]提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法-CN202010239590.9有效
发明人：邵建达;曾婷婷;朱美萍;李静平;宋晨;赵娇玲;郭猛;胡国行 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
提升电子束薄膜元件光谱应力时效稳定性镀膜方法

[发明专利]宽带高阈值组合介质低色散镜结构及其设计方法-CN202010031855.6有效
发明人：王胭脂;张宇晖;陈瑞溢;郭可升;王志皓;朱美萍;张伟丽;王建国;孙建;赵娇玲;朱晔新;晋云霞;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：一种宽带高阈值组合介质低色散镜结构及其设计方法。宽带高阈值组合介质低色散镜的结构为G/M/N/A，其中G代表基底层，M代表宽带介质膜层，N代表高阈值介质膜层，A代表空气层。所述的介质膜系结构由高折射率材料和低折射率材料交替沉积而成。不同的宽带介质膜层材料可实现不同的反射带宽和色散要求，不同的高阈值介质膜层材料可满足不同的阈值、色散要求。本发明结合宽带高折射率材料反射带宽宽、色散低和高阈值材料抗激光破坏能力强的特点，通过调节膜层厚度，调控膜内电场分布，从而设计满足超快激光系统中用于脉冲传输的宽带高阈值低色散镜。
宽带阈值组合介质色散结构及其设计方法

[实用新型]一种用于溶液环境中竖直摆放光学元件的夹具-CN202021875436.2有效
发明人： 朱美萍;杜文云;高勇喜;李静平;尹超奕;胡国行;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-09-01 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：一种用于溶液环境中竖直摆放光学元件的夹具，包括夹具主体，活动块体以及配套螺丝。主体分为上中下三层，上层为双耳结构以及固定层，该固定层中部设有螺纹孔，下层设有供镀膜元件放置的上C型卡槽，所述主体的中部为中空，形成供溶液流动的流通槽。所述活动块体可相对于主体沿流通槽上下移动，该活动块体上设有供螺丝定位的圆形定位槽。配套的螺丝先通过固定层上的螺纹孔再经活动块体上的定位槽协助活动块体夹持镀膜元件。本夹具结构简单，体积小巧,通过四点夹持镀膜元件的侧面，在保证稳定性的同时避免对膜面的接触。通过主体和活动块以及螺丝的配合，能够适用于大部分形状的光学元件，而且可夹持不同大小和厚度的元件。
一种用于溶液环境竖直摆放光学元件夹具

[发明专利]磁控溅射镀膜中降低极紫外多层膜表面粗糙度的方法-CN202011336831.8在审
发明人：赵娇玲;邵建达;朱美萍;易葵;王胭脂;王涛;武振清;陈上林 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射镀膜中降低极紫外多层膜表面粗糙度的方法，属于极紫外光刻技术领域。利用脉冲直流磁控溅射交替沉积高低原子序数多层膜，采用H2气对基底进行预处理，采用Ar气和H2气的混合气体替代纯Ar气作为脉冲直流溅射镀膜的工作气体，混合气体中H2气比例为2％‑10％。本发明将Mo膜层晶粒均匀化，降低多层膜粗糙度，减少界面缺陷，同时膜层材料中不引入H原子，保证了多层膜的光谱性能和环境稳定性。
磁控溅射镀膜降低紫外多层表面粗糙方法

[发明专利]一种中红外宽带高反射超快激光薄膜-CN202010063287.8有效
发明人：王胭脂;张宇晖;陈瑞溢;郭可升;王志皓;朱美萍;郭猛;朱晔新;晋云霞;易葵;贺洪波;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-01-20 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明提出一种中红外宽带高反射超快激光薄膜，其结构由下而上分别是基底材料G，过渡层M1，金属膜层M，过渡层M2，啁啾介质膜系C，空气层A。本发明的目的是为了扩宽中红外色散镜的反射带宽和提高反射率。所述金属膜层为单层金属膜，目的是为了提供宽反射带宽和保证一定的反射率，所述的啁啾介质膜系结构由高低折射率材料交替沉积组成，啁啾介质膜系能够提供色散补偿并且提高反射率。本发明利用金属优异的反射带宽，结合啁啾介质膜系的色散补偿作用，设计中红外超快激光器中用于脉冲压缩的超宽带高反射色散镜。
一种红外宽带反射激光薄膜

[发明专利]一种基于F-P腔的多层薄膜三倍频输出镜结构-CN202010886002.0在审
发明人：邵建达;陈美玲;胡国行;朱美萍;张恺馨;王尧 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G02F1/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于F‑P腔的多层薄膜三倍频输出镜结构，其特征在于，由下到上依次为基底、反射膜系I、间隔层、反射膜系II。基本表达式为：G/R1LR2/A。其中，G代表基底材料，R1代表反射膜系I，R2代表反射膜系II，L代表间隔层，A代表入射介质。本发明运用两组反射膜系及间隔层组成F‑P腔结构，使腔内产生多光束干涉效应，通过调控腔内干涉效应强度和间隔层内材料种类及其厚度，增强基频光与非线性薄膜态材料的相互作用，实现三倍频高效转换输出。本发明具有物理尺度小、可实现精细调控非线性响应输出，提升薄膜态材料三倍频转换效率等优点。
一种基于多层薄膜倍频输出结构

[发明专利]一种用于溶液环境中竖直摆放光学元件的夹具-CN202010903575.X在审
发明人： 朱美萍;杜文云;高勇喜;李静平;尹超奕;胡国行;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-09-01 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：一种用于溶液环境中竖直摆放光学元件的夹具，包括夹具主体，活动块体以及配套螺丝。主体分为上中下三层，上层为双耳结构以及固定层，该固定层中部设有螺纹孔，下层设有供镀膜元件放置的上C型卡槽，所述主体的中部为中空，形成供溶液流动的流通槽。所述活动块体可相对于主体沿流通槽上下移动，该活动块体上设有供螺丝定位的圆形定位槽。配套的螺丝先通过固定层上的螺纹孔再经活动块体上的定位槽协助活动块体夹持镀膜元件。本夹具结构简单，体积小巧,通过四点夹持镀膜元件的侧面，在保证稳定性的同时避免对膜面的接触。通过主体和活动块以及螺丝的配合，能够适用于大部分形状的光学元件，而且可夹持不同大小和厚度的元件。
一种用于溶液环境竖直摆放光学元件夹具

[发明专利]一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法-CN202010870803.8在审
发明人：贺洪波;张宇晖;王胭脂;陈瑞溢;王志皓;朱晔新;晋云霞;朱美萍;邵宇川;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： G02F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法。通过在单层膜表面刻蚀周期性微结构形成折射率可调谐薄膜结构，其结构由下而上依次是致密膜层和周期性微结构膜层，致密膜层的折射率等于薄膜材料自身折射率，周期性微结构膜层的折射率与微结构参数相关。表面微结构相当于一个折射系数连续变化的介质层，介质层的等效折射系数小于薄膜材料折射率，通过调控介质层的等效折射率即可调控薄膜的整体折射率。制备方法包括：(1)基底表面镀制薄膜；(2)清洁膜面，在膜面上旋涂光刻胶；(3)采用双光束干涉对样品进行曝光；(4)显影得到所需的掩膜图样；(5)采用反应离子束刻蚀技术将掩膜图样转移至薄膜上；(6)清洁刻蚀产生的残留物。本发明通过调控薄膜中的纳米微结构高度、占空比来控制空气在薄膜中的占比，从而做到薄膜材料的折射率可调控。本发明具备极宽的折射率调控范围(从空气层折射率到薄膜材料自身折射率)，且工艺简单，可重复强。
一种折射率调谐薄膜结构及其制备方法

[发明专利]真空系统中光学元件表面沉积污染物的去除方法-CN202010595418.7在审
发明人：王胭脂;郭可升;陈瑞溢;张宇辉;朱晔新;朱美萍;张伟丽;王建国;孙建;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污染物去除效率，提高元件抗激光损伤性能及使用寿命。
真空系统光学元件表面沉积污染物去除方法

[实用新型]一种锚固板螺母坯料的自动上料机构-CN201922180319.8有效
发明人：孙建;朱美萍 -专利权人：江苏中铁紧固件有限公司
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： B23Q7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种锚固板螺母坯料的自动上料机构，包括机架，所述机架上从左到右设有置料箱和输送轨道，所述置料箱内放置有坯料，所述置料箱和所述输送轨道之间设有相邻设置的固定板和活动板，所述固定板沿竖直方向设置，所述固定板的顶部高于所述输送轨道，所述固定板的底端与所述机架固定连接，所述活动板平行于所述固定板设置，并设置在所述固定板的左侧，所述活动板可在驱动机构的驱动下上下移动，所述固定板和所述活动板的顶部均为左高右低倾斜设置的斜面，通过活动板和固定板的配合将锚固板螺母坯料从置料箱中移动到输送轨道上，实现了锚固板螺母坯料的自动上料，相对于人工方式减少了工作时间，增加了工作效率，降低了成本。
一种锚固螺母坯料自动机构

[发明专利]一种大尺寸光学元件镀膜夹具和装夹方法-CN202010170308.6有效
发明人： 朱美萍;邵建达;李静平;孙建;赵娇玲;王建国;易葵 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-12 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：一种大尺寸光学元件的镀膜夹具及装夹方法，所述的镀膜夹具包括框架结构和方形支撑结构，方形支撑结构四边各由支撑板、缓冲条、加强筋、定位块和螺栓组成，加强筋、缓冲条、支撑板和定位块设有多个螺栓通孔，框架结构内侧面具有多个螺栓通孔和多个凹槽，多个凹槽分别位于方形支撑结构其中一组对边的外侧，将螺栓旋入四边的加强筋、缓冲条、支撑板和框架结构的螺栓通孔，用于支撑待镀膜的大尺寸光学元件，将螺栓旋入定位块、缓冲条、支撑板和框架结构，对待镀膜的大尺寸光学元件夹持定位，形成一个整体，框架结构外框尺寸与镀膜夹具盘内框一致，正好放置于镀膜夹具盘中。本发明可以与机械手配合使用进行装夹，可以提升大尺寸光学元件的波面质量。
一种尺寸光学元件镀膜夹具方法

[发明专利]用于光学薄膜光谱测量的使用环境模拟装置及测量方法-CN201910072640.6有效
发明人：孙建;李令灏;朱美萍;易葵;王建国;张伟丽;李静平;王胭脂;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：一种用于光学薄膜光谱测量的使用环境模拟装置及测量方法。该装置将光学薄膜样品置于装置腔室之中，并依据薄膜使用环境要求对腔室抽真空或充入不同种类的气体，同时监控装置内的温湿度，以实现对光学薄膜使用环境的模拟。将该装置与分光光度计配合使用，可以测量光学薄膜在所需使用环境状态下的光谱性能。本装置可利用商用分光光度计准确测量光学薄膜在不同使用环境、不同使用角度下的光谱，通用性强且使用方便。
用于光学薄膜光谱测量使用环境模拟装置测量方法

[发明专利]基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法-CN202010190180.X有效
发明人： 朱美萍;李静平;邵建达;赵娇玲;宋晨;郭猛;刘晓凤;王胭脂 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-18 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：一种基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法，同时利用电子束双源共蒸技术和离子束辅助沉积技术，在基底的非镀膜或者在镀膜后面形较凹的待镀膜面沉积离子束辅助混合物单层膜，形成折射率与基底相同的光学虚设层来调谐镀膜元件面形。本发明能够对沉积在任意折射率基底上的镀膜元件进行面形补偿，减少镀膜引起的波面的质量下降，且不影响镀膜元件的光谱性能，该方法对单面镀膜和双面镀膜元件均适用。
基于混合物单层光学镀膜元件补偿方法