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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积用坩埚-CN201980101097.6有效
发明人：文炳竣;李相硅;曹永秀;李镕焕 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：根据本实施例的沉积用坩埚包括：放置沉积材料的圆柱形下主体；从所述下主体的顶部延伸的上主体，其中所述沉积材料在所述上主体中被蒸发；以及多个凹窝，所述多个凹窝形成在所述下主体的内部底表面上，并且以环形的方式形成有与所述下主体的中心一致的中心。
沉积坩埚

[发明专利]沉积装置-CN202080023713.3有效
发明人：文炳竣;金宣基;崔虔熏;曹永秀 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2020-01-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种沉积装置，其能够最小化用于加热坩埚的热量到达衬底的情况，并且还能够有效地缓解堵塞。该沉积装置包括：坩埚；布置在坩埚外部以加热坩埚的加热器部分；用于将从沉积原料蒸发的沉积材料供应到沉积进行制品的多个喷嘴；以及布置在加热器部分外部的冷却部分，并且该沉积装置还可以包括屏蔽部分、热电模块和喷嘴块中的至少一者。
沉积装置

[发明专利]沉积装置-CN201980096601.8有效
发明人：李相硅;崔虔熏;文炳竣;曹永秀 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明的沉积装置包括将沉积原料蒸发成沉积材料的坩埚、以及被构造成加热所述坩埚的加热器单元，所述坩埚包括上表面开口并将沉积原料蒸发成沉积材料的坩埚主体、在所述坩埚主体的上部向外延伸的坩埚法兰、连接至所述坩埚法兰的上侧并设置有用于排出所述沉积材料的至少一个或多个的喷嘴的坩埚盖，所述加热器单元包括与所述坩埚主体的外侧间隔开的加热器框架、以及安装在所述加热器框架的内壁上并与所述坩埚主体间隔开的加热器，并且所述坩埚法兰支撑在所述加热器框架的上端。
沉积装置

[发明专利]沉积装置-CN202180054813.7在审
发明人：文炳竣;金宣基;曹永秀;李镕焕 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：沉积装置包括：坩埚，容纳金属物质；反射器，包围坩埚的外周；加热器托架，设置于反射器；加热丝，固定于加热器托架；以及加热丝盖，配置于加热丝和坩埚之间并是绝缘体，在导电性气体泄露时，可以利用加热丝盖的简单的结构防止导电性气体沉积于加热丝。另外，在加热丝盖的外周面可以形成有供加热丝插入并容纳的沟槽。
沉积装置

[发明专利]沉积装置-CN202180055096.X在审
发明人：文炳竣;李镕焕;赵镛日;曹永秀 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：沉积装置包括：坩埚，在其内部形成有空间；喷嘴板，覆盖空间并设置有喷嘴；引导件，插入于坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及内板，在其外周面形成有与引导件螺纹结合的外螺纹，并且内板在引导件的内部进行高度调节。
沉积装置

[发明专利]沉积装置-CN201980101298.6在审
发明人：文炳竣;崔虔熏;申大成;曹永秀 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明实施方式的沉积装置包括：用于将沉积原料蒸发成沉积物质的坩埚；设置在坩埚的外部用于加热坩埚的加热器单元；以及设置在加热器单元的外部并且用于屏蔽加热器单元的冷却部分。所述坩埚包括用于向上释放沉积物质的一个或多个喷嘴。所述冷却单元包括：屏蔽板，其被设置成远离加热器单元上方并且具有一个或多个孔，所述喷嘴的上部穿过所述孔伸出；以及设置在屏蔽板的孔附近的喷嘴加热器。
沉积装置

[发明专利]沉积源及包括这种沉积源的沉积设备-CN201210109395.X有效
发明人：李钟禹;曹永秀 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积源及包括这种沉积源的沉积设备。所述沉积源包括：掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。
沉积包括这种设备

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