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[发明专利]路径设定系统、路径设定方法和软件-CN202310406115.X在审
发明人：井口义范;新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供能够在包括能够利用磁力进行移动的多个输送体的基片输送装置中使用的输送体的路径设定系统中，减轻操作者的设定负担的路径设定系统、路径设定方法和软件。本发明的路径设定系统为在包括基片输送区域和多个输送体的基片输送装置中使用的各个所述输送体的路径设定系统，各个所述输送体包括用于支承基片的支承部、并且能够利用磁力从形成所述基片输送区域的底板浮起并移动，所述路径设定系统的特征在于，包括：虚拟区域设定部，其用于设定与所述基片输送区域对应的虚拟区域；路径生成部，其用于在所述虚拟区域中，对每个所述输送体生成从移动开始位置到移动结束位置的移动路径；和干扰判断部，其用于进行关于所述移动路径的干扰的判断。
路径设定系统方法软件

[发明专利]基板处理系统和基板搬送方法-CN202310173715.6在审
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法，能够针对多个模块以高自由度且高生产率进行基板替换动作。对基板进行处理的处理系统具备：多个模块，所述多个模块包括保持基板并对基板进行处理的处理室；搬送室，其与多个模块连接；基板搬送装置，其设置于搬送室的内部，进行针对多个模块的基板的交接和基板的取出；以及控制部，其中，所述基板搬送装置具有第一搬送单元和第二搬送单元，第一搬送单元和第二搬送单元能够载置基板，并能够在搬送室的面上独立且自如地进行直线移动及转动，控制部控制基板搬送装置，以使第一搬送单元与第二搬送单元同时并行地移动，来进行用来自多个模块中的一个模块的基板替换多个模块中的其它模块的基板的替换动作。
处理系统基板搬送方法

[发明专利]进行基板的输送的装置、对基板进行处理的系统以及对基板进行处理的方法-CN202280009603.0在审
发明人： 新藤健弘;岛村明典;阪上博充;李东伟 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-01-12 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：在基板输送室内，由利用了磁悬浮的基板输送模块对基板进行输送。进行基板的输送的装置具备：基板输送室，其具有设有第1磁体的地面部，经由开口部连接有对基板进行处理的基板处理室；以及基板输送模块，其具备：基板保持部，其保持所述基板；和第2磁体，其在与所述第1磁体之间作用有排斥力，该基板输送模块构成为能够通过使用了所述排斥力的磁悬浮而在所述基板输送室内移动，基板输送模块构成为经由开口部直接进入基板输送室内而进行基板的送入送出，或者，基板输送模块构成为在与固定地设于所述基板输送室内的基板输送机构之间交接基板。
进行输送装置处理系统以及方法

[发明专利]真空输送组件和基片处理装置-CN201810503290.X有效
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种在真空气氛下输送基片的真空输送组件。真空输送组件(4)具有在装载互锁组件(3)与对基片进行真空处理的多个处理组件(6)之间输送基片(W)的基片输送机构(51)，还具有：内部形成真空气氛的箱体(41)；和接合件安装部(44)，其在箱体(41)的侧壁形成有多个，能够分别选择专门用来连接装载互锁组件(3)的第一接合件(45)和专门用来连接处理组件(6)的第二接合件(46)中的一者来安装，且对于该第一接合件(45)和第二接合件(46)是通用的。由此，能够提高与该真空输送组件连接的装载互锁组件和多个处理组件的配置的自由度。
真空输送组件处理装置

[发明专利]基板输送装置及基板输送方法-CN202211467269.1在审
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-11-22 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种使输送精度提高的基板输送装置及基板输送方法。该基板输送装置包括:瓷砖形状单元,其设于输送室,具有线圈和霍尔元件；输送单元,其具有永磁体,并且在上述瓷砖形状单元之上移动而输送基板；温度传感器,其对上述瓷砖形状单元中的温度进行检测；以及控制部,其基于由上述温度传感器的检测值获得的上述霍尔元件的温度及上述霍尔元件的检测值,推定上述输送单元的位置。
输送装置方法

[发明专利]基板搬送装置和基板搬送方法-CN202211456600.X在审
发明人： 新藤健弘;李东伟;蒋凌欣;冈野真也;兒玉俊昭;松本航 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-11-21 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开提供一种基板搬送装置和基板搬送方法，在使用基板搬送模块进行基板以外的搬送物的搬送的情况下也能够进行准确的动作控制。基板搬送装置的控制部调节设置于基板搬送室的底面部的第一磁体的磁力，通过具备第二磁体的基板搬送模块来进行基板的搬送，参数存储部存储用于表现施加于控制用模型的工作力与运动之间的关系的模型参数，所述控制用模型是将搬送物与基板搬送模块一体地表现的模型，控制时间表制作部使用与搬送物对应的模型参数以及规定了基板搬送模块的运动的动作时间表，输出规定了用于使基板搬送模块动作的工作力的控制时间表。磁力调节部执行前馈控制，在该前馈控制中，调节所述第一磁体的磁力，以施加基于控制时间表的所述工作力。
基板搬送装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN201910370477.1有效
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。其目的在于抑制基板处理装置的占用面积。所述基板处理装置具有：多边形的输送室；处理室，其经由基板的输送口与所述输送室连接；以及输送机构，其配置于所述输送室，用于经由所述输送口在所述输送室与所述处理室之间输送基板，所述输送室和所述处理室具有俯视时重叠的区域。
处理装置

[发明专利]基板处理系统和环状构件的高度的估计方法-CN202210461620.X在审
发明人：兒玉俊昭;若林真士;新藤健弘;冈村树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理系统和环状构件的高度的估计方法。基板处理系统具备：基板处理装置，其具有用于载置基板和环状构件的载置台，对基板实施规定的处理；基板搬送机构，其具有基板保持部，通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出基板；距离传感器，其测定从基板保持部起的距离；以及控制装置，其中，基板搬送机构在载置有环状构件的载置台上载置具有成为环状构件的高度的基准的基准面的治具基板，距离传感器测定从位于载置台的上方的基板保持部起到治具基板的基准面为止的距离、以及从基板保持部起到环状构件为止的距离，控制装置基于到基准面为止的距离和到环状构件为止的距离的测定结果，来估计环状构件的高度。
处理系统环状构件高度估计方法

[发明专利]基板搬送装置和臂的冷却方法-CN202210394038.6在审
发明人： 新藤健弘;松本航 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-04-14 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本公开涉及基板搬送装置和臂的冷却方法。一种基板搬送装置，用于搬送基板，基板搬送装置具备：搬送臂，其具有用于支承基板的基板支承部以及与所述基板支承部连结来用于使该基板支承部移动的臂；冷却机构，其将来自流体供给源的冷却流体分配地供给至所述臂的多个冷却对象区域的各冷却对象区域；测定部，其测定各个所述冷却对象区域的温度；以及控制部，其中，所述控制部针对每个所述冷却对象区域，基于所述冷却对象区域的由所述测定部测定出的温度相对于基准温度的变化量以及所述冷却对象区域的温度对所述基板支承部的移动精度产生的影响度来计算热指标，所述控制部基于所述热指标来决定所述冷却机构分配来自所述流体供给源的冷却流体的分配比。
基板搬送装置冷却方法

[发明专利]基板搬送装置和基板搬送方法-CN202210376413.4在审
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种基板搬送装置和基板搬送方法。在基板搬送装置中，设置于基板的搬送区域内的移动用区块具备移动面和能够改变磁场的状态的多个第一磁体，保持基板的基板搬送模块具备第二磁体，该第二磁体受到作用于该第二磁体与所述第一磁体的磁场之间的磁力的作用，所述基板搬送模块构成为能够在从所述移动面浮起的状态下沿所述移动面移动。检测部检测与基板搬送模块的实际的移动路径相对于所述设定路径的偏离的大小对应的指标值，校正参数计算部以使所述偏离的大小减小的方式计算校正参数。在之后的沿着所述设定路径进行的基板的搬送中，搬送控制部进行基于所述校正参数来改变用于使基板搬送模块移动的磁场的状态的校正。
基板搬送装置方法

[发明专利]开闭装置和输送室-CN202210223312.3在审
发明人：李东伟;新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种对开口部进行开闭的开闭装置和输送室。本发明的开闭装置对将第一室和与上述第一室相邻的第二室连通的开口部进行开闭，上述开闭装置包括：平面电机，其具有排列于上述第一室的线圈；移动体，其在能够上述平面电机上移动，具有封闭上述开口部的阀体；和控制部，其控制上述线圈的通电。
开闭装置输送

[发明专利]输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法-CN202111499716.7在审
发明人： 新藤健弘;高桥明;堀内孝;儿玉俊昭 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法，能够调节叉形部件的倾斜。基片输送装置包括：末端执行器，其具有保持基片的叉形部件和保持叉形部件的根端部的腕部；以及臂，其能够安装末端执行器并具有使叉形部件移动的机构，在基片输送装置的保持叉形部件的根端部的腕部与臂之间具有调节叉形部件的倾斜的倾斜调节机构，该倾斜调节机构包括：用于从下表面侧支承腕部的3个支承销；使这些支承销的上端的高度位置彼此相对地变化的高度调节部；和被设置成将叉形部件向支承销一侧牵引的牵引销。
输送装置处理系统方法

[发明专利]控制方法和基片输送系统-CN202111042397.7在审
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供能够提高输送精度的基片输送系统的控制方法和基片输送系统。本发明的控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送上述基片的输送机构的控制方法，其包括：检测由上述输送机构输送的上述基片的外缘，使用预先设定的与输送上述基片的路径对应的调整值来测量上述基片的中心位置的步骤；基于上述基片的中心位置与预先设定的上述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置的步骤；和控制上述输送机构，以使上述保持部的基准位置成为修正后的上述目标位置的步骤。
控制方法输送系统

[发明专利]基板输送系统的控制方法和基板输送系统-CN202110949142.2在审
发明人：松本航;新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-08-18 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：提供一种提高输送精度的基板输送系统的控制方法和基板输送系统。一种基板输送系统的控制方法，基板输送系统包括：输送机构，其具有保持基板的保持部，输送机构用于输送基板；以及测量部，其对由输送机构输送的基板的外缘进行检测，并对基板的中心位置进行测量，基板输送系统将基板向目标位置输送，其中，基于保持部的基准位置和由测量部测量到的基板的中心位置之间的偏移量、利用测量部对基板的外缘进行检测的测量位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量、以及输送基板的目标位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量来校正目标位置，控制输送机构，以使保持部的基准位置成为校正后的目标位置。
输送系统控制方法

[发明专利]示教方法-CN202110162764.0在审
发明人： 新藤健弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种示教方法，能够提高搬送位置的精度。示教方法是搬送机构的示教方法，包括进行载置的工序、进行搬送的工序、进行检测的工序以及进行校正的工序。在进行载置的工序中，将第一基板或边缘环载置在搬送机构的叉子上，将第一基板或边缘环搬送到目标位置，并且将第一基板或边缘环载置到目标位置。在进行搬送的工序中，将具有位置检测传感器的第二基板载置在叉子上，并且将第二基板搬送到目标位置的正上方或正下方。在进行检测的工序中，使用第二基板的位置检测传感器来检测第一基板或边缘环与目标位置的偏离量。在进行校正的工序中，基于检测到的偏离量来校正下一个要搬送的第一基板或边缘环的、搬送机构的搬送位置数据。
方法

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